进行拉伸，能够将膜 在纵向和横向限制，在热固定工序中，能够在维持不出现皱褶等的平面性的状态下施加高 温。因此，在涂布后实施的热处理能够设定为用其它方法不能实现的高温，从而涂布层的制 膜性提高，能够使涂布层与聚酯膜更牢固地密合，进一步制成牢固的涂布层，能够防止涂布 层的脱落，提高脱模性能和抗静电性能。
[0031] 本发明的涂布膜的必要条件在于:具有由含有脱模剂和抗静电剂、以及丙烯酸树 脂或聚乙烯醇的涂布液形成的涂布层，上述脱模剂包括含长链烷基的化合物。
[0032] 为了对涂膜一并赋予脱模性和抗静电性，对并用脱模剂和抗静电剂的方案进行了 研究，结果发现，在脱模剂为含长链烷基的化合物时，偶尔会发现透明性劣化的情况。本发 明的发明人进行了各种研究，结果判断，通过添加丙烯酸树脂或聚乙烯醇的至少1种，透明 性提高，首次制作出了作为保护膜等适应性高的膜。
[0033] 本发明中的涂布层例如为了提高作为成型同时转印等的转印用、柔性印刷布线板 的制造用、塑料片材制造用的工程纸用等、各种工程中使用的工程用膜或包覆带等的保护 膜合适的脱模性能、防止带电而设置。
[0034]涂布层的形成中使用的含长链烷基的化合物作为用于提高膜的脱模性的脱模剂 使用。
[0035]含长链烷基的化合物是指具有碳原子数通常为6以上、优选为8以上、更优选为12 以上的直链或支链的烷基的化合物。作为烷基，例如，可以列举己基、辛基、癸基、月桂基、十 八烷基、二十二烷基等。此外，烷基的碳原子数的上限通常为30。作为含长链烷基的化合物 的种类，例如，可以列举各种在侧链具有长链烷基的高分子化合物、含长链烷基的胺化合 物、含长链烷基的醚化合物、含长链烷基的季铵盐等。如果考虑耐热性、污染性，优选为高分 子化合物。另外，从有效地得到脱模性的观点考虑，更优选侧链具有长链烷基的高分子化合 物。
[0036] 侧链具有长链烷基的高分子化合物可以通过使具有反应性基团的高分子化合物 与具有能够与该反应性基团反应的烷基的化合物反应来获得。作为上述反应性基团，例如， 可以列举羟基、氨基、羧基、酸酐等。作为具有这些反应性基团的高分子化合物，例如，可以 列举聚乙烯醇、聚乙烯亚胺、聚乙烯胺、含反应性基团的聚酯树脂、含反应性基团的聚（甲 基)丙烯酸树脂等。这些之中，考虑脱模性和操作容易程度，优选聚乙烯醇。
[0037] 作为具有能够与上述的反应性基团反应的烷基的化合物，例如，可以列举异氰酸 己酯、异氰酸辛酯、异氰酸癸酯、异氰酸月桂酯、异氰酸十八烷基酯、异氰酸二十二烷基酯等 的含长链烷基的异氰酸酯、氯代己烷、氯代辛烷、氯代癸烷、氯代月桂烷、氯代十八烷、氯代 二十二烷等的含长链烷基的酰氯、含长链烷基的胺、含长链烷基的醇等。这些之中，考虑脱 模性和操作容易程度，优选含长链烷基的异氰酸酯，特别优选异氰酸十八烷基酯。
[0038] 另外，侧链具有长链烷基的高分子化合物可以通过长链烷基（甲基)丙烯酸酯的聚 合物或长链烷基（甲基)丙烯酸酯与其它的含乙烯基的单体共聚来获得。长链烷基（甲基)丙 烯酸酯，例如，可以列举（甲基)丙烯酸己酯、（甲基)丙烯酸辛酯、（甲基)丙烯酸癸酯、（甲基） 丙烯酸月桂酯、（甲基)丙烯酸十八烷基酯、（甲基)丙烯酸二十二烷基酯等。
[0039] 另外，本发明中，虽然为了提高膜的脱模性必须使用含长链烷基的化合物，但除此 以外也可以并用多种现有公知的脱模剂。现有公知的脱模剂例如可以列举石蜡、氟化合物、 硅化合物等。
[0040] 作为涂布层的形成中使用的抗静电剂，可以列举含铵基的化合物、聚醚化合物、磺 酸化合物、甜菜碱化合物等的离子导电性的化合物、或者聚乙炔、聚亚苯基、聚苯胺、聚吡 咯、聚异硫茚、聚噻吩等的π电子共辄系的高分子化合物。它们为了对膜赋予抗静电性而使 用。这些之中优选离子导电性的化合物，特别优选含铵基的化合物。由含有共辄系导电性 高分子、例如聚噻吩或聚苯胺的涂布液形成的涂布层一般强烈着色，因此，有时不适于要求 透明性的光学用途。另外3共辄系导电性高分子涂料通常比离子导电性涂料昂贵，因此，从 制造成本的观点考虑，也优选使用离子导电性的抗静电剂。
[0041] 作为含铵基的化合物，是指分子内具有铵基的化合物，优选具有铵基的高分子化 合物。例如，能够使用含有具有铵基和不饱和双键的单体作为成分的聚合物。
[0042] 作为这样的聚合物的具体例，例如，可以列举具有下述式（1)或下述式(2)所示的 构成要素作为重复单元的聚合物。它们的均聚物或共聚物、以及将其它多种成分共聚均可。 从提高与其它材料的相容性和所得到的涂膜的透明性的观点考虑，优选具有下述式（1)所 示的构成要素作为重复单元的聚合物。另外，从所得到的抗静电性能高和耐热性的观点考 虑，优选具有下述式(2)所示的构成要素作为重复单元的聚合物。
Ci)
[0043]
[0044] 上述式（1)中，R2为一0 -或一NH-，R3为亚烷基或能够形成式（1)的结构的其它结 构，1^、1?4、1? 5、1?6分别为氢原子、烷基、苯基等，这些烷基、苯基可以被以下所示的基团取代。 能够取代的基团例如有羟基、醜胺基、醋基、烷氧基、苯氧基、奈氧基、硫代烷氧基、硫代苯氧 基、环烷基、二烷基钱烷基、氛基、卤素等。
[0045]
[0046] 上述式(2)中、R\R2分别独立地为氢原子、烷基、苯基等，这些烷基、苯基可以被以 下所示的基团取代。能够取代的基团例如有羟基、酰胺基、酯基、烷氧基、苯氧基、萘氧基、硫 代烷氧基、硫代苯氧基、环烷基、三烷基铵烷基、氰基、卤素等。另外，R 1和R2也可以以化学的 方式键合，例如，可以列举一（CH2) m-(m=2~5的整数）、一CH(CH3)CH(CH3) -、一CH = CH- CH=CH-、一CH=CH-CH=N-、一CH=CH-N=C-、一CH2OCH2-、一（CH2)2〇(CH2)2 -等。
[0047] 在具有上述式（1)所示的构成要素作为重复单元的聚合物的情况下，从提高与其 它材料的相容性、提高所得到的涂膜的透明性的观点和进一步提高脱模性的观点考虑，优 选与其它重复单元共聚。其它重复单元例如可以列举丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙 酯、丙烯酸丁酯等的丙烯酸烷基酯，甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲 基丙烯酸丁酯等的甲基丙烯酸烷基酯。
[0048]在具有上述式(2)所示的构成要素作为重复单元的聚合物的情况下，从抑制脱模 性降低的观点考虑，优选与其它重复单元共聚。其它重复单元例如可以列举上述的丙烯酸 烷基酯或甲基丙烯酸烷基酯、η-羟甲基丙烯酰胺等的丙烯酰胺。
[0049]另外，从进一步提高抗静电性能的观点考虑，优选将上述式(2)所示的构成要素作 为重复单元的均聚物。
[0050] 上述式（1)和(2)中的)Γ能够在不损害本发明的要点的范围内适当选择。例如，可 以列举卤离子、磺酸根、磷酸根、硝酸根、烷基磺酸根、羧酸根等。
[0051] 具有上述式（1)所示的构成要素的聚合物，所得到的涂布层的透明性优异，故而优 选。但是，在涂布拉伸法中，有时耐热性差，在用于涂布拉伸法时，优选X_不为卤素。
[0052] 上述式(2)所示的构成要素和其它的高分子骨架中具有铵盐基的化合物，耐热性 优异，故而优选。
[0053]另外，上述式（1)或(2)所示的构成要素与含聚乙二醇的（甲基)丙烯酸酯共聚得到 的聚合物，结构柔软，在涂布拉伸时能够得到均匀性优异的涂布层，故而优选。
[0054]或者，通过在涂布液中含有含聚乙二醇的（甲基）丙烯酸酯聚合物进行涂布，同样 能够得到均匀性优异的涂布层。
[0055]作为这样的含聚乙二醇的（甲基）丙烯酸酯，具体可以例示以聚乙二醇单丙烯酸 酯、聚丙二醇单丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯(聚乙二醇单元的聚合度优选为4~14的范 围）、聚丙二醇二丙烯酸酯、聚四亚甲基二醇二丙烯酸酯、聚（乙二醇一四亚甲基二醇）二丙 烯酸酯、聚（丙二醇一四亚甲基二醇）二丙烯酸酯、聚乙二醇一聚丙二醇一聚乙二醇二丙烯 酸酯、聚丙二醇一聚丁二醇单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙 二醇单丙烯酸酯、辛氧基聚乙二醇一聚丙二醇单甲基丙烯酸酯、辛氧基聚乙二醇一聚丙二 醇单丙烯酸酯、月桂氧基聚乙二醇单甲基丙烯酸酯、月桂氧基聚乙二醇单丙烯酸酯、硬脂氧 基聚乙二醇单甲基丙烯酸酯、硬脂氧基聚乙二醇单丙烯酸酯、烯丙氧基聚乙二醇单甲基丙 烯酸酯、烯丙氧基聚乙二醇单丙烯酸酯等为起始原料的聚合物。
[0056] 另外，含铵基的化合物的数均分子量通常为1000~500000、优选为2000~350000、 更优选为5000~200000。分子量低于1000时，有时涂膜的强度弱、或耐热稳定性差。另外，分 子量超过500000时，有时涂布液的粘度升高，操作性和涂布性变差。