涂布膜的利记博彩app
【技术领域】
[0001] 本发明涉及适于作为脱模膜的聚酯膜，例如，涉及作为成型同时转印等的转印用、 柔性印刷布线板的制造用、塑料片材制造用的工程纸用等各种工程中使用的工程用膜、或 者作为包覆带等的保护膜使用的、特别是抑制工程中或剥离引起的静电的产生、抑制尘埃 和小污垢附着的、透明的脱模聚酯膜。
【背景技术】
[0002] 在现有技术中，以聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚萘二甲酸乙二醇酯为代表的聚酯膜 具有机械强度、尺寸稳定性、平坦性、耐热性、耐药品性、光学特性等优异的特性，并且成本 效益优异，因此被用于各种用途。将聚酯膜用作脱模膜时，由于对于各种树脂和粘接剂的脱 模性不足，存在缺乏实用性的缺点。因此，一直以来，研究了在聚酯膜表面叠层脱模性涂膜 的方法。例如，提出了在聚酯膜表面涂布叠层含长链烷基的树脂的方法(专利文献1、2)等。
[0003] 聚酯膜容易因加工工序或制品使用时的接触摩擦或剥离而产生静电，因而容易附 着尘埃或小污垢。因此，存在工序内的污染和异物混入的危险。另外，也存在加工时二张取 出或滑动不良等膜供给或排出适合性变差的问题。因此，在需要避免异物混入或带电的用 途中，提出了在聚酯膜表面涂布叠层抗静电剂的方法(专利文献3)等。
[0004] 脱模性涂膜和抗静电性涂膜有时也加工成单独的涂膜，但是从制造工序增加的观 点考虑，优选由同一涂膜赋予脱模性和抗静电性。但是，将它们加工成同一涂膜时，存在难 以妥善地获得脱模性和抗静电性、或者涂膜的外观劣化的问题。外观劣化了的膜由于涂膜 的不均匀，有时脱模性和抗静电性不均匀，性能的稳定性欠缺。另外，透过脱模膜看见的制 品的辨识性也劣化，存在无法通过工序检查发现制品缺陷的可能性。
[0005] 现有技术文献
[0006] 专利文献
[0007] 专利文献1:日本特开2002 - 240016号公报 [0008] 专利文献2:日本特开2006 - 022136号公报 [0009] 专利文献3:日本特开平7 - 26223号公报
【发明内容】
[0010]发明所要解决的课题
[0011] 本发明是鉴于上述问题而完成的，其要解决的课题在于提供一种涂布膜，其作为 成型同时转印等的转印用、柔性印刷布线板的制造用、塑料片材制造用的工程纸用等、各种 工程中使用的工程用膜、或者包覆带等的保护膜使用，抑制静电的产生，具有适宜的脱模 性，且透明性优异。
[0012] 用于解决课题的方法
[0013] 本发明的发明人鉴于上述情况进行了深入研究，结果发现，如果使用包括特定构 成的涂布膜，能够容易地解决上述课题，从而完成了本发明。
[0014] 即，本发明的要点在于一种涂布膜，其特征在于，在聚酯膜的至少一个面具有由含 有脱模剂和抗静电剂、以及丙烯酸树脂或聚乙烯醇的涂布液形成的涂布层，上述脱模剂包 括含长链烷基的化合物。
[0015] 发明效果
[0016] 根据本发明的涂布膜，在作为成型同时转印等的转印用等的各种的工程用膜使用 时，能够提供脱模性和透明性优异、带电少的脱模聚酯膜，其工业价值高。
【具体实施方式】
[0017] 构成本发明的涂布膜的聚酯膜可以是单层结构也可以是多层结构，除了2层、3层 结构以外，只要不超出本发明的要点，也可以是4层或4层以上的多层，没有特别限定。
[0018] 聚酯既可以是均聚聚酯，也可以是共聚聚酯。由均聚聚酯构成时，优选使芳香族二 元羧酸与脂肪族二元醇缩聚而得到的聚酯。作为芳香族二元羧酸，可以列举对苯二甲酸、2， 6-萘二甲酸等，作为脂肪族二元醇，可以列举乙二醇、二乙二醇、1，4一环己烷二甲醇等。作 为代表性的聚酯，可以例示聚对苯二甲酸乙二醇酯等。另一方面，作为共聚聚酯的二元羧酸 成分，可以列举间苯二甲酸、邻苯二甲酸、对苯二甲酸、2,6-萘二甲酸、己二酸、癸二酸、羟 基羧酸(例如对羟基苯甲酸等)等的一种或二种以上，作为二元醇成分，可以列举乙二醇、二 乙二醇、丙二醇、丁二醇、4 一环己烷二甲醇、季戊二醇等的一种或二种以上。
[0019] 作为聚酯的聚合催化剂，没有特别限制，能够使用现有公知的化合物，例如，可以 列举锑化合物、钛化合物、锗化合物、锰化合物、铝化合物、镁化合物、钙化合物等。
[0020] 在聚酯中，以赋予滑动性和防止各工序中发生损伤为主要目的，也可以配合颗粒。 配合颗粒时，所配合的颗粒种类，只要是能够赋予滑动性的颗粒即可，没有特别限制，作为 具体例，例如，可以列举二氧化硅、碳酸钙、碳酸镁、碳酸钡、硫酸钙、磷酸钙、磷酸镁、高岭 土、氧化铝、氧化钛等的无机颗粒，丙烯酸树脂、苯乙烯树脂、尿素树脂、酚醛树脂、环氧树 月旨、苯代三聚氰胺树脂等的有机颗粒等。另外，还能够使用在聚酯制造工序中使一部分催化 剂等金属化合物沉淀、微分散的析出颗粒。
[0021] 另一方面，关于所使用的颗粒的形状也没有特别限定，可以使用球状、块状、棒状、 扁平状等的任意形状。另外，其硬度、比重、颜色等也没有特别限制。这些一系列的颗粒可以 根据需要并用2种以上。
[0022] 另外，颗粒的平均粒径通常为5μηι以下、优选为0.1~3μηι的范围。平均粒径超过5μηι 时，膜的表面粗糙度变得过于粗糙，例如，用于转印用途时，有时会对转印的成型面的表面 形状造成影响。
[0023]聚酯中的颗粒含量通常为5重量％以下、优选为0.0003~3重量％的范围。颗粒含 量添加超过5重量％时，有时膜的透明性不充分。
[0024] 作为在聚酯中添加颗粒的方法，没有特别限定，能够采用现有公知的方法。例如， 可以在制造构成各层的聚酯的任意阶段中添加，优选在酯化或酯交换反应结束后添加。
[0025] 另外，在聚酯中，除了上述颗粒以外，可以根据需要添加现有公知的抗氧化剂、防 静电剂、热稳定剂、润滑剂、染料、颜料等。
[0026] 聚酯膜的厚度只要是能够作为膜进行制膜的范围即可，没有特别限定，从机械强 度、操作性和生产性等方面考虑，通常可以为5~300μηι的范围，优选为10~150μηι的范围。
[0027]作为膜的制膜方法，能够采用通常已知的制膜法，没有特别限制。例如，在制造双 轴拉伸聚酯膜时，可以列举下述方法:首先使用挤出机将先前描述的聚酯原料从模具熔融 挤出，用冷却辊将熔融片冷却固化而得到未拉伸片。此时，为了提高片材的平面性，优选提 高片材与旋转冷却鼓的密合性，优选采用施加静电密合法和/或液体涂布密合法。接着，利 用辊或拉幅机方式的拉伸机将所得到的未拉伸片在一个方向拉伸。拉伸温度通常为70~ 120 °C，优选为80~110 °C，拉伸倍率通常为2.5~7倍，优选为3.0~6倍。接着，在与第一段拉 伸方向正交的方向拉伸，通常以70~170°C、拉伸倍率通常为2.5~7倍、优选为3.0~6倍进 行拉伸。接着，以180~270°C温度在紧拉或松弛30%以内的状态下进行热处理，得到双轴取 向膜。在上述拉伸中，也可以采用将一个方向的拉伸以2阶段以上进行的方法。此时，优选进 行拉伸使得最终二个方向的拉伸倍率分别达到上述范围。
[0028]另外，也能够采用同时双轴拉伸法。同时双轴拉伸法是以通常控制为70~120°C、 优选80~110°C的温度的状态，在机械方向和宽度方向同时拉伸上述未拉伸片而使其取向 的方法，作为拉伸倍率，以面积倍率计为4~50倍，优选7~35倍，更优选10~25倍。然后，接 着以170~270°C温度在紧拉或松弛30%以内的状态下进行热处理，得到拉伸取向膜。关于 采用上述拉伸方式的同时双轴拉伸装置，可以采用螺旋方式、缩放方式、线性驱动方式等现 有公知的拉伸方式。
[0029] 接着，说明构成本发明的涂布膜的涂布层的形成。关于涂布层，既可以通过在聚酯 膜的制膜工序中对膜表面进行处理的联线涂布而设置，也可以采用在暂时制造的膜上在系 统外进行涂布的离线涂布，更优选通过联线涂布形成。
[0030] 联线涂布是在聚酯膜制造的工序内进行涂布的方法，具体而言，是将聚酯熔融挤 压后、直至拉伸后进行热固定并卷起的任意阶段进行涂布的方法。通常，在进行熔融、骤冷 而得到的未拉伸片、热固定前的双轴拉伸膜、热固定后且卷起前的膜的任一种上进行涂布。 以下不作限定，例如在逐次双轴拉伸中，特别优选在经过长度方向（纵向）拉伸后的单轴拉 伸膜上涂布之后，在横向进行拉伸的方法。根据这样的方法，能够同时进行制膜和涂布层形 成，因此，具有制造成本上的优点，并且，由于在涂布后进行拉伸，能够使涂布层的厚度根据 拉伸倍率而变化，与离线涂布相比，能够更容易地进行薄膜涂布。另外，通过拉伸前在膜上 设置涂布层，能够使涂布层和基材膜一起进行拉伸，从而使涂布层与基材膜牢固地密合。另 外，在双轴拉伸聚酯膜的制造中，通过一边利用夹具等把持膜端部一边