.2J.g \这可能是由于骨架中存在少量Ni (OH) 2分解所致；第二个放热峰在500 °C?650 °C之间，通过对峰面积积分，放热量高达1149J.g \因此，整个铝热反应总放热量为1423.2J.g ^除此之外，在660°C有一明显的吸热峰，这是由铝熔化吸热造成的。
[0165]实例17:
[0166]步骤1:制备表面光滑、分散性好、粒径为20nm的PS高分子微球，然后用去离子水配制成浓度为1.5被％的PS高分子微球分散液；
[0167]步骤2:将基底垂直浸入步骤I所配制的PS高分子微球分散液中，利用溶剂蒸发形成的弯曲液面进行PS高分子微球的定向排列自组装形成胶晶模板；
[0168]步骤3:用分析天平精确称取 20.2g Fe (NO3)3.9H20 和 7.275g Ni (NO3)2.6H20，然后加入20mL甲醇和30mL乙二醇，并用磁力搅拌9h得到纳米复合金属氧化物前驱液；
[0169]步骤4:将步骤2中的PS胶晶模板放入步骤4配制的前驱液中，浸泡3?5min后取出，并除去多余的前驱液，然后转移到烘箱中于50°C干燥24h后得到PS/前驱液复合薄膜；
[0170]步骤5:将步骤4中的PS/前驱液复合薄膜放入马弗炉中，从室温开始，以10C.min 1的速率升温至600°C，在600°C保温3h，然后冷却至室温，移除PS胶晶模板后得到3D0M纳米NiFe2O4骨架；
[0171]步骤6:利用NiFe2O4磁控溅射法将铝沉积到步骤5制备的3D0M纳米CoFe 204骨架的孔道中，其中磁控溅射的参数为:氩气流量为30Sccm，溅射功率为60W，真空计示数为0.4Pa，沉积速率约1nm.min S镀铝时间为60min，得到基底载有纳米Al/NiFe 204铝热薄膜的纳米铝热剂。
[0172]实例18:
[0173]步骤1:制备表面光滑、分散性好、粒径为600nm的PS高分子微球，然后用去离子水配制成浓度为1.5被％的PS高分子微球分散液；
[0174]步骤2:将玻璃或者其它基底垂直浸入步骤I配制的PS高分子微球分散液中，利用溶剂蒸发形成的弯曲液面进行PS高分子微球的定向排列自组装形成胶晶模板；
[0175]步骤3:用分析天平精确称取 20.2g Fe (NO3)3.9H20 和 7.275g Ni (NO3)2.6H20，然后加入20mL甲醇和30mL乙二醇，并用磁力搅拌9h得到纳米复合金属氧化物前驱液；
[0176]步骤4:将步骤2中的PS胶晶模板放入步骤4所配制的前驱液中，浸泡3?5min后取出，并除去多余的前驱液，然后转移到烘箱中于50°C干燥24h后得到PS/前驱液复合薄膜；
[0177]步骤5:将步骤4中的PS/前驱液复合薄膜放入马弗炉中，从室温开始，以10C.min 1的速率升温至600°C，在600°C保温3h，然后冷却至室温，移除PS胶晶模板后得到3D0M纳米CoFe2O4骨架；
[0178]步骤6:利用磁控溅射磁控溅射法将铝沉积到步骤5所制备的3D0M纳米CoFe2O4骨架的孔道中，其中磁控溅射的参数为:氩气流量为30Sccm，溅射功率为60W，真空计示数为0.4Pa，沉积速率约1nm.min S镀铝时间为60min，得到基底载有纳米Al/CoFe 204铝热薄膜的纳米招热剂。
[0179]实例19:
[0180]步骤1:制备表面光滑、分散性好、粒径为600nm的PS高分子微球，然后用去离子水配制成浓度为1.5被％的PS高分子微球分散液；
[0181]步骤2:将玻璃或者其它基底垂直浸入步骤I所配制的PS高分子微球分散液中，利用溶剂蒸发形成的弯曲液面进行PS高分子微球的定向排列自组装形成胶晶模板；
[0182]步骤3:用分析天平精确称取 20.2g Fe (NO3) 3.9H20 和 7.275g Ni (NO3) 2.6H20，然后加入20mL甲醇和30mL乙二醇，并用磁力搅拌9h得到纳米复合金属氧化物前驱液；
[0183]步骤4:将步骤2中的PS胶晶模板放入步骤4配制的前驱液中，浸泡3?5min后取出，并除去多余的前驱液，然后转移到烘箱中于50°C干燥24h后得到PS/前驱液复合薄膜；
[0184]步骤5:将步骤4中的PS/前驱液复合薄膜放入马弗炉中，从室温开始，以10C.min 1的速率升温至600°C，在600°C保温3h，然后冷却至室温，移除PS胶晶模板后得到3D0M纳米CoFe2O4骨架；
[0185]步骤6:利用磁控溅射磁控溅射法将铝沉积到步骤5制备的3D0M纳米CoFe2O4骨架的孔道中，其中磁控溅射的参数为:氩气流量为30Sccm，溅射功率为60W，真空计示数为0.4Pa，沉积速率约1nm.min S镀铝时间为60min，得到基底载有纳米Al/CoFe 204铝热薄膜的纳米铝热剂。
[0186]实例20:
[0187]步骤1:制备表面光滑、分散性好、粒径为600nm的PS高分子微球，然后用去离子水配制成浓度为Iwt %的PS高分子微球分散液；
[0188]步骤2:将玻璃或者其它基底垂直浸入步骤I配制的PS高分子微球分散液中，利用溶剂蒸发形成的弯曲液面进行PS高分子微球的定向排列自组装形成胶晶模板；
[0189]步骤3:用分析天平精确称取 20.2g Fe (NO3) 3.9H20 和 7.275g Ni (NO3) 2.6H20，然后加入20mL甲醇和30mL乙二醇，并用磁力搅拌9h得到纳米复合金属氧化物前驱液；
[0190]步骤4:将步骤2中的PS胶晶模板放入步骤4配制的前驱液中，浸泡3?5min后取出，并除去多余的前驱液，然后转移到烘箱中于50°C干燥24h后得到PS/前驱液复合薄膜；
[0191]步骤5:将步骤4中的PS/前驱液复合薄膜放入马弗炉中，从室温开始，以10C.min 1的速率升温至600°C，在600°C保温3h，然后冷却至室温，移除PS胶晶模板后得到3D0M纳米CoFe2O4骨架；
[0192]步骤6:利用磁控溅射磁控溅射法将铝沉积到步骤5制备的3D0M纳米CoFe2O4骨架的孔道中，其中磁控溅射的参数为:氩气流量为30Sccm，溅射功率为60W，真空计示数为0.4Pa，沉积速率约1nm.min S镀铝时间为60min，得到基底载有纳米Al/CoFe 204铝热薄膜的纳米铝热剂。
[0193]实例21:
[0194]步骤1:制备表面光滑、分散性好、粒径为600nm的PS高分子微球，然后用去离子水配制成浓度为25被％的PS高分子微球分散液；
[0195]步骤2:将基底垂直浸入步骤I配制的PS高分子微球分散液中，利用溶剂蒸发形成的弯曲液面进行PS高分子微球的定向排列自组装形成胶晶模板；
[0196]步骤3:用分析天平精确称取 20.2g Fe (NO3) 3.9H20 和 7.275g Ni (NO3) 2.6H20，然后加入20mL甲醇和30mL乙二醇，并用磁力搅拌9h得到纳米复合金属氧化物前驱液；
[0197]步骤4:将步骤2中的PS胶晶模板放入步骤4配制的前驱液中，浸泡3?5min后取出，并除去多余的前驱液，然后转移到烘箱中于50°C干燥24h后得到PS/前驱液复合薄膜；
[0198]步骤5:将步骤4中的PS/前驱液复合薄膜放入马弗炉中，从室温开始，以10C.min 1的速率升温至600°C，在600°C保温3h，然后冷却至室温，移除PS胶晶模板后得到3D0M纳米NiFe2O4骨架；
[0199]步骤6:利用磁控溅射磁控溅射法将铝沉积到步骤5制备的3D0M纳米NiFe2O4骨架的孔道中，其中磁控溅射的参数为:氩气流量为30Sccm，溅射功率为60W，真空计示数为0.4Pa，沉积速率约1nm.min S镀铝时间为60min，得到基底载有纳米Al/NiFe 204铝热薄膜的纳米铝热剂。
[0200]实例22:
[0201]步骤1:制备表面光滑、分散性好、粒径为600nm的PS高分子微球，然后用去离子水配制成浓度为1.5被％的PS高分子微球分散液；
[0202]步骤2:将基底垂直浸入步骤I所配制的PS高分子微球分散液中，利用溶剂蒸发形成的弯曲液面进行PS高分子微球的定向排列自组装形成胶晶模板；
[0203]步骤3:用分析天平精确称取 20.2g Fe (NO3) 3.9H20 和 7.275g Ni (NO3) 2.6H20，然后加入20mL甲醇和30mL乙二醇，并用磁力搅拌9h得到纳米复合金属氧化物前驱液；
[0204]步骤4:将步骤2中的PS胶晶模板放入步骤4配制的前驱液中，浸泡3?5min后取出，并除去多余的前驱液，然后转移到烘箱中于50°C干燥24h后得到PS/前驱液复合薄膜；
[0205]步骤5:将步骤4中的PS/前驱液复合薄膜放入马弗炉中，从室温开始，以10C.min 1的速率升温至600°C，在600°C保温3h，然后冷却至室温，移除PS胶晶模板后得到3D0M纳米NiFe2O4骨架；
[0206]步骤6:利用磁控溅射磁控溅射法将铝沉积到步骤5制备的3D0M纳米NiFe2O4骨架的孔道中，其中磁控溅射的参数为:氩气流量为30Sccm，溅射功率为60W，真空计示数为0.4Pa，沉积速率约1nm.min S镀铝时间为60min，得到基底载有纳米Al/NiFe 204铝热薄膜的纳米铝热剂。
[0207]实例23:
[0208]步骤1:制备表面光滑、分散性好、粒径为600nm的PS高分子微球，然后用去离子水配制成浓度为1.5被％的PS高分子微球分散液；
[0209]步骤2:将玻璃或者其它基底垂直浸入步骤I配制的PS高分子微球分散液中，利用溶剂蒸发形成的弯曲液面进行PS高分子微球的定向排列自组装形成胶晶模板；
[0210]步骤3:用分析天平精确称取 4.04g Fe (NO3) 3.9H20 和 1.455g Ni (NO3) 2.6H20，然后加入20mL甲醇和30mL乙二醇，并用磁力搅拌9h得到纳米复合金属氧化物前驱液；
[0211]步骤4:将步骤2中的PS胶晶模板放入步骤4配制的前驱液中，浸泡3?5min后取出，并除去多余的前驱液，然后转移到烘箱中于50°C干燥24h后得到PS/前驱液复合薄膜；
[0212]步骤5:将步骤4中的PS/前驱液复合薄膜放入马弗炉中，从室温开始，以10C.min 1的速率升温至600°C，在600°C保温3h，然后冷却至室温，移除PS胶晶模板后得到3D0M纳米NiFe2O4骨架；
[0213]步骤6:利用磁控溅射磁控溅射法将铝沉积到步骤5制备的3D0M纳米NiFe2O4骨架的孔道中，其中磁控溅射的参数为:氩气流量为30Sccm，溅射功率为60W，真空计示数为0.4Pa，沉积速率约1nm.min S镀铝时间为60min，得到基底载有纳米Al/NiFe 204铝热薄膜的纳米铝热剂。
[0214]实例24:
[0215]步骤1:制备表面光滑、分散性好、粒径为600nm的PS高分子微球，然后用去离子水配制成浓度为1.5被％的PS高分子微球分散液；
[0216]步骤2:将玻璃或者其它基底垂直浸入步骤I配制的PS高分子微球分散液中，利用溶剂蒸发形成的弯曲液面进行PS高分子微球的定向排列自组装形成胶晶模板；
[0217]步骤3:用分析天平精确称取 28.28g Fe (NO3)3.9H20 和 10.185g Ni (NO3)2.6H20，然后加入20mL甲醇和30mL乙二醇，并用磁力搅拌9h得到纳米复合金属氧化物前驱液；
[0218]步骤4:将步骤2中的PS胶晶模板放入步骤4配制的前驱液中，浸泡3?5min后取出，并除去多余的前驱液，然后转移到烘箱中于50°C干燥24h后得到PS/前驱液复合薄膜；
[0219]步骤5:将步骤4中的PS/前驱液复合薄膜放入马弗炉中，从室温开始，以10C.min 1的速率升温至600°C，在600°C保温3h，然后冷却至室温，移除PS胶晶模板后得到3D0M纳米NiFe2O4骨架；
[0220]步骤6:利用磁控溅射磁控溅射法将铝沉积到步骤5制备的3D0M纳米NiFe2O4骨架的孔道中，其中磁控溅射的参数为:氩气流量为30Sccm，溅射功率为60W，真空计示数为0.4Pa，沉积速率约1nm.min S镀铝时间为60min，得到基底载有纳米Al/NiFe 204铝热薄膜的纳米铝热剂。
[0221]实例25:
[0222]步骤1:制备表面光滑、分散性好、粒径为600nm的PS高分子微球，然后用去离子水配制成浓度为1.5被％的PS高分子微球分散液；
[0223]步骤2:将基底垂直浸入步骤I所配制的PS高分子微球分散液中，利用溶剂蒸发形成的弯曲液面进行PS高分子微球的定向排列自组装形成胶晶模板；
[0224]步骤3:用分析天平精确称取 20.2g Fe (NO3) 3.9H20 和 7.275g Ni (NO3) 2.6H20，然后加入20mL甲醇和30mL乙二醇，并用磁力搅拌9