积三种不同的叠层。
[0111]在下面对各个叠层描述了该层的性质与该层的物理厚度(以纳米为单位):1:玻璃 / SiNx (19) / S1x (24) / ITO (106) / SiNx (8) / S1x (40) / Ti (6)2:玻璃 / SiNx (19) / S1x (24) / ITO (106) / SiNx (8) / S1x (40) / T1x
(11)
3:玻璃 / SiNx (19) / S1x (24) / ITO (106) / SiNx (8) / S1x (40) / C (6)
4:玻璃 / SiNx (10) / S1x (30) / ITO (120) / SiNx (5) / S1x (40) / Ti (4)5:玻璃 / SiNx (10) / S1x (30) / ITO (60) / S1x (20或40) / ITO (60) /SiNx (5) / S1x (40) / Ti (4)
实施例1、4和5是本发明的实施例，因为该叠层包含金属均化层，在该例中由钛制成。相对于实施例4，实施例5包含两个被物理厚度20或40纳米(取决于试验)的S1x层分隔的TCO层。在两个实例中的总ITO厚度相同(120纳米)。
[0112]实施例2和3是对比例，该钛层分别被氧化钛层和碳层取代。
[0113]指数“X”表明该层的精确化学计量是未知的。式SiNx或S1x不排除存在掺杂剂。在实际中，这些层含有少量的铝原子，因为它们通过溅射掺杂铝的硅靶来获得以提高它们的导电率。
[0114]对实施例1，沉积该ITO层以使得其吸光率为4.4%。其吸光率对其厚度的比因此为
0.42 μπΓ1O
[0115]由此涂覆的基底随后在发射激光辐射的静止装置下运行，所述激光辐射为聚焦在该叠层上的线的形式。该激光线的平均宽度为45微米，每单位长度的功率为250至500 W/cm，随试验而不同。该激光辐射叠加两个波长:915和980纳米。测试了3至20米/分钟的各种运行速率。
[0116]在实施例1和2的情况下，获得高达60%的薄层电阻的相对改善。但是，对于实施例1，观察到这种改善与该激光的每单位长度的功率和移动速度弱相关，所述相对改善总是为50至60%。相反，对实施例2观察到薄层电阻的改善明显与激光线的运行条件更为相关。因此，功率和/或宽度在该线的长度上的或随时间变化的波动导致获得的改进的很大变化。
[0117]在实施例3的情况下，薄层电阻的降低明显更少，碳并未完全去除，其程度使得获得的叠层具有低透射。
[0118]在实施例4的情况下，更大的ITO厚度的后果在于略微降低了处理均匀性，当后者在高速下，例如在20米/分钟下进行时。特别地，薄层电阻的改善证实与实施例1相比更依赖于处理速度。将厚ITO层(实施例5)分为两层以便能够再次获得完美的稳定性。
[0119]图1显示了对490W/cm的每单位长度的功率，在实施例1和2中获得的样品上光反射的空间变化。从样品的一个边缘，在30厘米的长度上测量每厘米的光反射。图1的X轴表示在样品上的位置，用X表示，图1的y轴是相对于前述测量在光反射方面的绝对变化，用A RL表不。
[0120]在实施例2的情况下，随着在样品上的位置，光反射相当强地发生改变。相反，在实施例I的情况下，使用本发明的均化层能够显著改善最终产品的均匀性，光反射的空间变化接近于O并常常低于0.1%。
[0121]
第二系列实施例
这一系列的实施例使用与上面实施I相同的叠层(实施例6)，并且使用不具有钛均化层的相同叠层来作为对比例7。
[0122]涂有这些叠层的基底在静止的氙闪光灯下运行，所述氙闪光灯在250至2500纳米的波长范围内发射非相干辐射，并以6.5厘米宽度和20厘米长度的条带形式会聚在该叠层上。
[0123]使用10至30 J/cm2的的能量密度(对应于2500至4500 V的电容器充电电压)。该闪光(脉冲)长度为3毫秒，重复率为0.5 Hz。受试的运行速度包括0.1至I米/分钟。
[0124]获得高达60%的薄层电阻的改善。
[0125]已经观察到，在本发明的实施例6的情况下，该叠层的光学外观并不是非常依赖于能量密度和因此依赖于灯的操作条件。特别地，取决于电容器的充电电压，反射中b*色度坐标的值为-4至-4.5不等。
[0126]相反，在对比例7的情况下，该层的外观随灯的运行条件变化巨大。该b*坐标，其对3400V的充电电压为-1，降低至对4200 V的充电电压为-4。处理不均匀性因此可以容易地在该叠层中产生非常明显的不均匀性。
【主权项】
1.获得包含由玻璃或玻璃陶瓷制成的基底的制品的方法，所述基底在其至少一个面的至少一部分上涂有薄层的叠层，所述叠层不包含银层，并包含至少一个透明导电氧化物的薄层，所述方法包括: -沉积所述叠层的步骤，在该步骤中，沉积所述透明导电氧化物的薄层和至少一个薄均化层，所述薄均化层是金属层或基于非氮化铝的金属氮化物的层，或基于金属碳化物的层;随后 -热处理步骤，其中，将所述叠层暴露于辐射。2.如权利要求1中所述的方法，使得所述透明导电氧化物选自铟锡氧化物、铟锌氧化物、锑-或氟-掺杂的氧化锡、铝-和/或镓-和/或钛-掺杂的氧化锌、铌-和/或钽-掺杂的氧化钛以及锡酸锌或锡酸镉。3.如前述权利要求中所要求保护的方法，使得所述透明导电氧化物是铟锡氧化物。4.如前述权利要求之一中所要求保护的方法，使得所述透明导电氧化物的薄层的物理厚度为至少30纳米、特别是50纳米。5.如前述权利要求之一中所要求保护的方法，使得所述透明导电氧化物的薄层的光吸收对物理厚度的比在热处理前为0.1至0.9 11111—1、特别是0.2至0.7 μπΓ1。6.如前述权利要求之一中所要求保护的方法，使得所述叠层包含多个透明导电氧化物层，特别是两个或三个。7.如前述权利要求之一中所要求保护的方法，使得所述薄均化层位于透明导电氧化物层上方。8.如前述权利要求之一中所要求保护的方法，使得所述薄均化层是金属层，其是选自钛、锡、锆、锌、铝、铈或其任一种合金，特别是锡和锌的合金的金属的层。9.如前述权利要求中所要求保护的方法，使得所述金属是钛。10.如前述权利要求1至7之一中所要求保护的方法，使得所述薄均化层基于选自氮化钛、氮化铪、氮化锆或其任意一种固溶体的金属氮化物。11.如前述权利要求1至7之一中所要求保护的方法，使得所述薄均化层基于选自碳化钛、碳化钨或其任意一种固溶体的金属碳化物。12.如前述权利要求之一中所要求保护的方法，使得所述薄均化层的物理厚度为最多15纳米、特别地8纳米。13.如前述权利要求之一中所要求保护的方法，使得所述辐射通过至少一种闪光灯、特别是氙闪光灯来发射。14.如前述权利要求1至12之一中所要求保护的方法，使得所述辐射是以至少一条激光线的形式聚焦在所述涂层上的激光辐射。15.如前述权利要求中所要求保护的方法，使得所述激光辐射的波长为500至2000纳米、特别是700至1100纳米。16.能通过前述权利要求任一项的方法获得的制品。17.包含如前述权利要求所述的至少一种制品的单层、多层或层压玻璃窗单元、镜子、玻璃墙涂层、烤箱门或壁炉插入件。18.包含至少一种如权利要求16所述的制品的光伏电池、显示器屏幕或有源玻璃窗单元，所述涂层用作电极。
【专利摘要】本发明涉及获得包含由玻璃或玻璃陶瓷制成的基底的制品的方法，所述基底在其至少一个表面的至少一部分上涂有薄层的叠层，所述叠层不包含银层，并包含至少一个透明导电氧化物的薄层，所述方法包括：沉积所述叠层的步骤，在该步骤中，沉积所述透明导电氧化物的薄层和至少一个薄均化层，所述薄均化层是金属层或基于非氮化铝的金属氮化物的层，或基于金属碳化物的层；随后热处理步骤，其中，将所述叠层暴露于辐射。
【IPC分类】C23C14/08, C23C14/58, C03C17/34, C03C17/36
【公开号】CN105658592
【申请号】
【发明人】L.卡诺瓦, D.拉明, N.纳多, S.鲁瓦, N.瓦纳库勒
【申请人】法国圣戈班玻璃厂
【公开日】2016年6月8日
【申请日】2014年10月14日