，并由此确保该基底的平面与该或各激光线的焦平面相一致。
[0085]该激光线的每单位长度的功率优选为至少300 W/cm，有利地为350或400 W/cm，特别是450 W/cm，甚至500 W/cm和甚至550 W/cm。甚至有利地为至少600 W/cm、特别是800 W/cm和甚至1000 W/cm。在该涂层上在该或各激光线的焦平面中测量每单位长度的功率。其可以通过将功率检测器，例如量热式功率计，特别是如Coherent Inc出售的Beam Finder(S/N2000716)功率计放置在该线上来测量。该功率有利地在该或各线的整个长度上均匀地分布。优选地，最高功率与最低功率之间的差值小于该平均功率的10%。
[0086]输送至该涂层的能量密度优选为至少20 J/cm2和甚至30 J/cm20
[0087]高能量密度和功率使得能够非常快速地加热该涂层，而不会显著加热该基底。
[0088]在热处理过程中该涂层的各个点所经历的最高温度优选为至少300°C、特别是3500C、甚至4000C和甚至500°C或600 0C。通常在相关的涂层的点在照射装置下，例如在激光线下或在闪光灯下通过时经历该最高温度。在给定的时刻，仅有位于照射装置下(例如在该激光线下)和在其附近(例如在小于一毫米的距离处)的涂层表面的那些点通常处于至少300°C的温度。对大于2毫米、特别是5毫米的到激光线的距离(在运行方向上测得)，包括激光线下游，该涂层的温度通常为最多50°C和甚至最多40°C或30°C。
[0089]该涂层的各个点经受该热处理(或升温至最高温度)有利地为0.05至10毫秒、特别是0.1至5毫秒或0.1至2毫秒的时间长度。在通过激光线处理的情况下，通过激光线的宽度和基底与激光线之间的相对移动速度来设置该时间长度。在通过闪光灯处理的情况下，高时间长度对应于闪光的长度。
[0090]该激光辐射部分被待处理的涂层反射，部分透射穿过该基底。出于安全的原因，优选在反射和/或透射的辐射的路径上放置用于阻止该辐射的装置。其通常是通过流体(特别是水)的流动冷却的金属夹套。为了防止反射的辐射破坏激光器模块，该或各激光线的传播轴优选与该基底的法线成非零度角，通常为5°至20°的角度。
[0091]为了提高处理的效率，优选将透射穿过该基底和/或被涂层反射的至少一部分(主)激光射线朝向所述基底重新定向以形成至少一条次级激光射线，所述次级射线优选在与主激光射线相同的位置处冲击该基底，并有利地具有相同的焦点深度和相同的轮廓。有利地使用光学组装件形成该或各次级激光射线，所述光学组装件仅包含选自反射镜、棱镜和透镜的光学元件，特别是由两个反射镜与一个透镜，或一个棱镜与一个透镜组成的光学组装件。回收至少一部分损失的主辐射并将其导向该基底显著改善了该热处理。选择是否利用透射穿过该基底的主射线的部分(“透射”模式)和/或被该涂层反射的主射线的部分(“反射”模式)取决于该层的性质和该激光辐射的波长。
[0092]当该基底移动，特别是平移时，可以使用任何机械输送装置使其移动，例如使用传送带、辊或托盘以提供平移移动。该输送系统使得能够控制和调节移动的速度。该输送装置优选包含刚性底盘和多个辊。辊的间距有利地为50至300毫米。该辊优选包含金属环，通常由钢支撑，覆盖有塑料覆盖物。该棍优选安装在low-play end轴承上，通常每个末端轴承三个辊。为了确保输送平面是完全平面的，有利地可以调节各个辊的位置。优选使用由至少一个马达驱动的齿轮或链条，优选切向链来移动该辊。
[0093]该基底与该或各辐射源(特别是该或各激光线)之间的相对移动速度有利地为至少2米/分钟或4米/分钟、特别是5米/分钟和甚至6米/分钟或7米/分钟，或甚至8米/分钟和甚至9米/分钟或10米/分钟。根据特定实施方案，特别是当通过该涂层的福射吸收较高时，或当该涂层可以以高沉积速率沉积时，该基底与该辐射源(特别是该或各激光线或闪光灯)之间的相对移动速度为至少12米/分钟或15米/分钟、特别是20米/分钟和甚至25或30米/分钟。为了确保该处理尽可能均匀，该基底与该或各辐射源(特别是该或各激光线或闪光灯)之间的相对移动速度在处理过程中相对于其标称值改变最多10 rel%、特别是2 rel%和甚至I rel%。
[0094]优选地，该或各辐射源(特别是激光线或闪光灯)是静止的，而该基底移动，以使得相对移动速度对应于该基底的运行速度。
[0095]该热处理装置可以集成到层沉积生产线中，例如磁控管阴极溅射(磁控管法)沉积生产线或化学气相沉积(CVD)沉积生产线，特别是真空等离子体增强化学气相沉积(PECVD)或大气压等离子体增强化学气相沉积(APPECVD)沉积生产线。该生产线通常包含基底装卸装置、沉积工具、光学检测装置和堆叠装置。该基底例如在输送辊上在各装置或各工具前方连续运行。
[0096]该热处理装置优选恰好位于涂层沉积工具之后，例如在沉积工具出口处。由此可以在已经沉积涂层后，在沉积工具的出口处和在光学检测装置之前，或在光学检测装置之后和在堆叠该基底的装置之前在线处理涂覆的基底。
[0097]该热处理装置还可以集成到沉积工具中。例如，该激光器或闪光灯可以安装在阴极溅射沉积工具的一个室中，特别是在其气氛稀薄的室内，特别是在10—6毫巴至10—2毫巴的压力下。该热处理装置还可以放置在沉积工具外部，但是处理位于所述工具内部的基底。所有要做的是提供对所用辐射波长透明的孔口，该辐射将透射穿过该孔口以便处理该层。由此有可能在随后在同一工具中沉积另一层之前处理该层(例如银层)。
[0098]与热处理装置是位于沉积工具外部还是集成到沉积工具中无关，这些“在线”工艺优于需要在沉积步骤与热处理之间堆叠该玻璃基底的返修工艺。
[0099]但是在与进行沉积的位置不同的位置处(例如在转化该玻璃的位置处)进行本发明的热处理的情况下，再加工过程可能是有利的。该热处理装置因此可以集成到除层沉积生产线之外的其它生产线中。其例如可以集成到制造多层玻璃窗单元(特别是双层或三层玻璃窗单元)的生产线中、集成到制造层压玻璃窗单元的生产线中、或甚至集成到用于制造弯曲和/或回火的玻璃窗单元的生产线中。该层压或弯曲或回火的玻璃窗单元可以在建筑或汽车应用中使用。在任何情况下，本发明的热处理优选在组装层压或多层玻璃窗单元之前进行。但是该热处理可以在组装双层玻璃窗单元或层压玻璃窗单元之后进行。
[0100]该热处理装置优选放置在封闭容器中，该封闭容器通过防止与辐射的任何接触和防止任何污染一一特别是污染该基底、该光学器件或该处理区域一一来确保人员保持安全。
[0101 ]该叠层优选通过阴极溅射，特别是磁控管阴极溅射来沉积。
[0102]该叠层可以使用其它方法，如化学气相沉积(CVD)法，例如等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法，真空蒸镀法或甚至溶胶凝胶法沉积在该基底上。
[0103]为了更加简便，该叠层的热处理优选在空气下和/或在大气压下进行。但是有可能在真空沉积室中进行该叠层的热处理，例如在随后的沉积之前。
[0104]本发明的另一主题是可以通过本发明的方法获得的制品。
[0105]本发明的另一主题是包含至少一种本发明的制品的单层、多层或层压玻璃窗单元、镜子、玻璃墙涂层、烤箱门或壁炉插入件。
[0106]该涂层可以定位在所述玻璃窗单元的面I上以赋予其抗冷凝性质，由此限制或防止出现结露或结霜。该涂层可以位于双层玻璃窗单元的面4上，或位于三层玻璃窗单元的面6上，以改善其热绝缘性能，特别是与在面2或3上的其它低辐射率涂层结合。出于相同的原因，该涂层还可以定位在用作例如汽车挡风玻璃的层压玻璃窗单元的面4上。该玻璃窗单元特别可以是耐火的。
[0107]本发明的另一主题是包含至少一种本发明的制品的光伏电池、显示器屏幕或有源玻璃窗单元，所述涂层用作电极。
[0108]该显示器屏幕例如是LCD(液晶显示器)、rop(等离子体显示屏)、0LED(有机发光二极管)或FED(场发射显示器)显示器屏幕。该有源玻璃窗单元特别是其透明度为电可控的玻璃窗单元，特别是电致变色或液晶类型的玻璃窗单元。
[0109]通过下列非限制性实施例描述本发明。
[0110]第一系列实施例
在4毫米厚的钠钙硅玻璃基底上通过磁控管阴极溅射沉