、氧阻隔层和均化层组成。其还可以由基底开始相继由高折射率层和随后的低折射率层组成的中和叠层、TCO层、氧阻隔层和均化层组成。其甚至可以由基底开始相继由高折射率层和随后的低折射率层组成的中和叠层、TCO层、氧阻隔层、氧化硅基层和薄均化层组成。优选地，该或各TCO是ITO层，该薄均化层是钛或锆的层。
[0056]下面给出了在热处理前的几种示例性叠层:
玻璃 / SiNx / S1x / ITO / SiNx / S1x / Ti玻璃 / SiN / T1x / S1xNy / ITO / SiNx / Zr玻璃 / Si(O)Nx / ITO / Si(O)Nx / Ti玻璃 / SiNx / S1x / ITO / S1x / ITO / SiNx / S1x / Ti这种类型的叠层，通常为上述类型的叠层，可能具有各种应用。沉积在玻璃窗单元的面1(转向住宅外部的面)上时，它们提供减少冷凝功能。沉积在单一玻璃窗单元的面2上、在双层玻璃窗单元或层压玻璃窗单元的面4上、或甚至在三层玻璃窗单元的面6上时，它们经由它们的低辐射率改善装配有它们的建筑物、车辆或甚至家用烘箱或冰箱的热绝缘。
[0057]当该制品意在为电极时，该叠层可以仅包含该TCO层与该均化层，后者优选在该TCO层下方。
[0058]该热处理优选意在改善TCO层的结晶，特别是通过提高晶体的尺寸和/或晶相的量。
[0059]优选地，该热处理步骤不涉及该涂层的甚至部分熔融。在其中该热处理意在改善涂层的结晶的情况下，该热处理能够输送足够量的能量以便经由在已经存在于该涂层中的晶种周围的晶体生长的物理化学机理促进涂层的结晶，同时该涂层保持在固体状态。该处理不实施涉及冷却熔融材料的机理，一方面是由于这需要极高的温度，另一方面是由于这容易修改该涂层的厚度或折射率，并因此修改其性质，例如导致其光学外观发生改变。
[0060]根据一个优选实施方案，该辐射由至少一个闪光灯发射。
[0061]此类灯通常采取密封和充满稀有气体并且在其末端处装有电极的玻璃或石英管形式。在通过电容器放电获得的短电脉冲的作用下，气体电离并产生非相干光的特别强烈的爆发。发射光谱通常包含至少两条发射谱线;其优选是在近紫外区具有发射最大值的连续光谱。
[0062]该灯优选是氙灯。也可以是氩灯、氦灯或氪灯。该发射光谱优选包含多条谱线，特别是在160至1000纳米的波长处。
[0063]闪光的长度优选为0.05至20毫秒，特别是0.1至5毫秒。重复率优选为0.1至5 Hz,特别是0.2至2 Hz。
[0064]该辐射可以由并列放置的多个灯，例如5至20个灯，或甚至8至15个灯发射以便同时处理较大的区域。所有的等在这种情况下可以同时发射闪光。
[0065]该或各灯优选横向于该基底的最长侧放置。该灯或各灯的长度优选为至少I米，特别是2米和甚至3米以便能够处理大的基底。
[0066]该电容器通常在500 V至500 kV的电压下充电。电流密度优选为至少4000 A/cm2。该闪光灯发射的总能量密度，除以涂层面积，优选为I至100 J/ Cm2，特别是I至30 J/cm2，甚至为5至20 J/cm20
[0067]根据另一优选实施方案，该辐射是以至少一条激光线的形式聚焦在所述涂层上的激光福射。
[0068]该激光辐射优选由包含一个或多个激光源与整形和重新定向光学器件的模块生成。
[0069]激光源优选通常为激光二极管或光纤传输激光器，特别是光纤激光器、二极管激光器或甚至盘型激光器。相对于供电电源，激光二极管能够经济地实现高功率密度，并且占地面积小。光纤传输激光器的占地面积甚至更小，获得的每单位长度的功率甚至更高，代价是成本更高。表述“光纤传输激光器”理解为是指其中生成激光的位置与其输送到的位置在空间上远离的激光器，通过至少一条光纤来输送激光。在盘型激光器的情况下，在谐振腔中生成激光，采取盘形式一一例如由Yb: YAG制成的薄(厚度大约0.1毫米)盘一一的发射介质位于所述谐振腔中。由此生成的光耦合到朝向处理位置的至少一条光纤。光纤或盘型激光器优选任选使用激光二极管栗浦。
[0070]该激光源优选连续发射辐射。
[0071]激光辐射的波长优选为500至2000纳米、特别是700至1100纳米和甚至800至1000纳米。在选自808纳米、880纳米、915纳米、940纳米或980纳米的一个或多个波长下发射的功率激光二极管已经证实是特别合适的。在盘型激光器的情况下，波长例如为1030纳米(Yb:YAG激光器的发射波长)。对于光纤激光器，该波长通常为1070纳米。
[0072]在并非通过光纤输送的激光器的情况下，整形和重新定向光学器件优选包含透镜和反射镜，并用做定位、均化和聚焦该辐射的装置。
[0073]如果需要的话，定位装置的目的在于将激光源发射的辐射排列成一行。所述装置优选包含反射镜。均化装置的目的在于叠加激光源的空间分布以便沿该线从头至尾获得均匀的每单位长度的功率。该均化装置优选包含能够将入射光束分为次级光束并将所述次级光束重新结合成均匀线的透镜。用于聚焦辐射的装置能够将该辐射以具有所需长度和宽度的线的形式聚焦在待处理的涂层上。该聚焦装置优选包含聚焦镜或会聚透镜。
[0074]在光纤传输激光器的情况下，该整形光学器件优选以位于该或各光纤出口处的光学头形式组装。
[0075]所述光学头的整形光学器件优选包含透镜、反射镜和棱镜，并用做转换、均化和聚焦该辐射的装置。
[0076]该转换装置包含反射镜和/或棱镜，并用于将光纤输出的圆形光束转换为非圆形的、各向异性的线形光束为此，该转换装置提高了光束沿其轴线之一(快轴，或激光线的宽度I的轴)的品质并降低沿其它轴(慢轴，或激光线的长度L的轴)的光束品质。
[0077]均化装置叠加激光源的空间分布以便沿该线从头至尾获得均匀的每单位长度的功率。该均化装置优选包含能够将入射光束分为次级光束并将所述次级光束重新结合成均匀线的透镜。
[0078]最后，用于聚焦该辐射的装置能够以所需长度和宽度的线的形式将该辐射聚焦在工作平面上，即聚焦在待处理的涂层的平面上。该聚焦装置优选包括聚焦镜或会聚透镜。
[0079]当使用单一激光线时，该线的长度有利地等于该基底的宽度。该长度通常为至少I米、特别是2米和甚至3米。多个任选分隔的线也可使用，只要设置这些线以处理该基底的整个宽度。在这种情况下，各激光线的长度优选为至少10厘米或20厘米、特别是30至100厘米、特别是30至75厘米和甚至30至60厘米。
[0080]线的“长度”理解为是在第一方向上在该涂层表面上测得的其最大尺寸，线的“宽度”理解为其在第二方向上的尺寸。如在激光器领域中常规的那样，线的宽度w对应于光束的轴(在其上辐射强度最大)与其中辐射强度等于最大强度的Ι/e2倍的点之间的距离(在第二方向上)。如果激光线的纵轴表示为X，可以沿该轴限定表示为W(X)的宽度分布。
[0081 ]该或各激光线的平均宽度优选为至少35微米、特别是40至100微米或40至70微米。在本文通篇中，术语“平均”理解为是指算术平均值。在该线的整个长度上，宽度分布是狭窄的以尽可能限制任何处理不均匀性。由此，最大宽度与最小宽度之间的差值优选为平均宽度值的最多10% O该值优选为最多5%和甚至3%。
[0082]该整形和重新定向光学器件，特别是定位装置，可以手动或使用能使其达到它们要被调节到的位置的致动器来进行调节。这些致动器(通常为马达或压电致动器)可以手动控制和/或自动调节。在后一种情况下，该致动器优选连接至检测器和反馈回路。
[0083]至少一部分激光器模块或甚至所有激光器模块优选放置在密封的外壳中，有利地将所述外壳冷却，特别是风扇冷却，以确保其热稳定性。
[0084]该激光器模块优选安装在基于通常由铝制成的金属元件的刚性结构上，所述刚性结构称为“桥”。该结构优选不包含大理石板。该桥优选平行于输送装置定位，以使得该或各激光线的焦平面保持平行于待处理的基底的表面。优选地，该桥包含至少四个足，其高度可以单独地调节以确保在任何情况下该桥与输送装置彼此平行。可以手动地，或通过距离传感器自动地通过定位在各个足上的马达来实现该调节。该桥的高度可以改变(手动或自动)以考虑待处理基底的厚度