工艺数据的处理方法和装置的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种工艺数据的处理方法和装置。
【背景技术】
[0002] 在半导体设备的工艺过程中，各种工艺参数主要指的是与硬件设备相关的功率、 电压、电流、压力等信号，对工艺数据的采集将有助于监测人员对工艺过程进行有效的监 控。监测人员通过对采集到的工艺数据进行分析和对比，根据不同工艺数据之间的内在关 系可以了解到工艺过程中相关的工艺数据的各种波动，从而发现工艺过程中的异常并依此 改进工艺，提高工艺质量，同时对工艺过程的安全、高效、稳定生产有着重要的意义。
[0003] 半导体设备的控制软件中，主要分为上位机控制程序和下位机控制程序两部分。 下位机控制程序采集现场工艺数据，并将工艺过程中采集的工艺数据实时的记录在上位机 的数据库中。监测人员可通过上位机中的操作界面来查看工艺过程中工艺数据的原始信 肩、。
[0004] 目前，工艺数据的采集方式通常有定时采集和增量采集两种方式，采用定时采集 的方式可以保证采集的工艺数据的全面性，但是下位机控制程序会产生较严重的工艺数据 重复采集的现象。对于结构复杂度比较高的PVD(Physical Vapor Deposition,物理气相沉 积）设备而言，工艺过程中将会有大量的工艺数据需要进行采集和处理，采用定时采集的 方式进行全面的工艺数据采集和处理将会严重浪费资源和时间。因此，下位机控制程序更 常采用是基于数据的变化进行的增量采集方式，下位机控制程序只在上工艺数据发生一定 变化时进行采集，由此，可以避免重复采集现象发生，保证工艺数据采集的及时性。
[0005] 由于在增量采集方式中对工艺数据的采集是基于工艺数据的变化而进行的，因 此，不同的工艺参数在同一工艺过程中采集点也是不确定的，例如，参数一在时间点t n、 112…tln处有采集值，而参数二在时间点t21、t 22…t2n处有采集值，此时，监测人员并不能直 接获取到参数一在时间点t21、tyt 2n处的数据值，也不能直接获取到参数二在时间点tn、 t12··· tln处的数据值。因此，上位机的数据库中存在严重的数据缺失现象，导致监测人员无 法直接分析和对比参数一和参数二在相同时间点处的数值。因此，对于工艺过程整体而言， 各个工艺数据在时间采集点上彼此之间的关联度不高，缺少工艺数据的完备性与一致性， 且对于监测人员来说单个工艺数据的原始工艺数据信息的易用性较差，工艺数据缺失现象 的客观存在将会严重影响到后期的数据分析。
【发明内容】
[0006] 本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。
[0007] 为此，本发明的第一个目的在于提出一种工艺数据的处理方法，该工艺数据的处 理方法针对采集到的工艺数据缺失情况，最大限度的发掘工艺数据信息，保证了工艺过程 中的工艺数据的完备性，有利于监测人员的查看，为后续的工艺数据的分析工作提供了完 整有效的数据支持。
[0008] 本发明的第二个目的在于提出一种工艺数据的处理装置。
[0009] 为达上述目的，本发明第一方面实施例提出了一种工艺数据的处理方法，包括以 下步骤：获取采集的多个工艺数据，其中，所述多个工艺数据中包括多个采集时间点 以及所述多个采集时间点对应的多个工艺参数值bfh ;根据所述多个采集时间点生 成多个插值区间；获取插值点集合，其中，所述插值点集合中包括η个插值点χη，η为正整 数；以及获取所述插值点集合中每个插值点X所处的插值区间，并根据所述每个插值点所 处的插值区间计算所述每个插值点X对应的工艺参数值y。
[0010] 本发明实施例的工艺数据的处理方法，通过采集到的工艺数据中的采集时间点生 成多个插值区间，并确定多个插值点所处的插值区间，以及利用分段线性插值原理计算得 到插值点上的工艺参数值，对工艺数据进行插值处理，由此，针对采集到的工艺数据缺失情 况，最大限度的发掘工艺数据信息，保证了工艺过程中的工艺数据的完备性，有利于监测人 员的查看，为后续的工艺数据的分析工作提供了完整有效的数据支持。
[0011] 为达上述目的，本发明第二方面实施例提出了一种工艺数据的处理装置，包括：第 一获取模块，用于获取采集的多个工艺数据，其中，所述多个工艺数据中包括多个采集时间 点a。-^以及所述多个采集时间点a。-^对应的多个工艺参数值bfh ;生成模块，用于根据 所述多个采集时间点生成多个插值区间；第二获取模块，用于获取插值点集合，其中，所述 插值点集合中包括η个插值点χ η，η为正整数；以及计算模块，用于获取所述插值点集合中 每个插值点X所处的插值区间，并根据所述每个插值点所处的插值区间计算所述每个插值 点X对应的工艺参数值y。
[0012] 本发明实施例的工艺数据的处理装置，通过采集到的工艺数据中的采集时间点生 成多个插值区间，并确定多个插值点所处的插值区间，以及利用分段线性插值原理计算得 到插值点上的工艺参数值，对工艺数据进行插值处理，由此，针对采集到的工艺数据缺失情 况，最大限度的发掘工艺数据信息，保证了工艺过程中的工艺数据的完备性，有利于监测人 员的查看，为后续的工艺数据的分析工作提供了完整有效的数据支持。
[0013] 本发明附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变 得明显，或通过本发明的实践了解到。
【附图说明】
[0014] 本发明上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变 得明显和容易理解，其中 ：
[0015] 图1是本发明一个实施例的工艺数据的处理方法的流程图；
[0016] 图2是本发明一个实施例的工艺数据在时间轴上的分布示意图；以及
[0017] 图3是本发明一个实施例的工艺数据的处理装置的结构示意图。
【具体实施方式】
[0018] 下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终 相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附 图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
[0019] 此外，术语"第一"、"第二"仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性 或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有"第一"、"第二"的特征可以明示或 者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，"多个"的含义是两个或两个以 上，除非另有明确具体的限定。
[0020] 流程图中或在此以其他方式描述的任何过程或方法描述可以被理解为，表示包括 一个或更多个用于实现特定逻辑功能或过程的步骤的可执行指令的代码的模块、片段或部 分，并且本发明的优选实施方式的范围包括另外的实现，其中可以不按所示出或讨论的顺 序，包括根据所涉及的功能按基本同时的方式或按相反的顺序，来执行功能，这应被本发明 的实施例所属技术领域的技术人员所理解。
[0021] 为了实现上述实施例，本发明提出一种外延过程中外延层的测量方法。
[0022] 图1是本发明一个实施例的工艺数据的处理方法的流程图。
[0023] 如图1所示，工艺数据的处理方法，包括：
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