酰化纤维素薄膜的利记博彩app_2

文档序号:8958284阅读:来源:国知局
基、四嗪基、三唑基、四唑基、呋咕基 (furazany 1)、啦啶基、啦嗪基、啼啶基、U达嗪基等,但不限定于此。
[0051] 更具体地,所述化学式1中,
[0052] 所述 A 为 *-0_&-0-*,
[0053] 所述 R1 选自(C1-C20)亚烷基、(C6-C20)亚芳基、*-R 12HnU12-* 或
[0054] 所述R11及R12分别独立地选自(C1-C20)亚烷基、(C6-C20)亚芳基,
[0055] 所述队及B 2分别独立地选自
[0056] 所述私及1?3分别独立地选自(C1-C20)亚烷基、(C6-C20)亚芳基,
[0057] 所述〇、p及q分别独立地为选自1至10的整数,所述〇、p及q为大于2的情况 下,所述私及1? 3可以各自不同,
[0058] 所述(^及C 2分别独立地为(C6-C20)芳基或(Cl-ClO)酰基,
[0059] 所述n为选自1或2的整数。
[0060] 更具体地,所述化学式1中,所述A为*-0-&-0_*,
[0061] 所述 R1 选自(Cl-ClO)亚烷基、(C6-C10)亚芳基、*-R ^H11H12-* 或
[0062] 所述R11及R12分别独立地选自(Cl-ClO)亚烷基、(C6-C10)亚芳基,
[0063] 所述队及B2分别独立地选自
[0064] 所述o、p及q分别独立地为选自1至5的整数,所述o、p及q为大于2的情况下, 所述私及1?3可以各自不同,
[0065] 所述私及1?3分别独立地选自(Cl-ClO)亚烷基、(C6-C10)亚芳基,
[0066] 所述(^及C 2分别独立地为(C6-C10)芳基或(C1-C4)酰基,
[0067] 所述n为选自1或2的整数。
[0068] 所述化学式1可以选自下列化合物,但并不限定于此。

[0071] 所述化学式1的化合物可以根据如下述反应式1及反应式2中所示的方法制得, 但化学式1的化合物的制备方法不被下述制备方法所限定,下述制备方法的变形对本领域 技术人员来说是显而易见的。
[0072] [反应式1]
[0073]
[0076] (在反应式1及反应式2中,
[0077] 所述R1选自(C1-C20)亚烷基、(C6-C20)亚芳基,包含选自N、0及S中的一种以 上兀素的(C6-C20)杂亚芳基、 5^-R12H11U12-*或
[0078] 所述&的亚烷基、亚芳基、杂亚芳基可以进一步被选自(C1-C20)烷基或(C6-C20) 芳基中的任一种以上取代,
[0079] 所述R11及R12分别独立地选自(C1-C20)亚烷基、(C6-C20)亚芳基,
[0080] 所述私及1?3分别独立地选自(C1-C20)亚烷基、(C6-C20)亚芳基,以及包含选自 N、0及S中的一种以上元素的(C6-C20)杂亚芳基,
[0081] 所述私及1?3的亚烷基、亚芳基、杂亚芳基可以进一步被选自(C1-C20)烷基、 (C6-C20)芳基、(C1-C20)烷氧基、(C3-C20)环烷基、(C2-C7)烯基、卤素、羟基、氰基、氨基、 硝基及CF 3中的任一种以上取代,
[0082] 所述C分别独立地选自(C1-C20)烷基、(C6-C20)芳基、(Cl-ClO)酰基或氨甲酰基 (-CONH 2),
[0083] 所述C的烷基、芳基、酰基或氨甲酰基可以进一步被选自(C1-C20)烷基、(C6-C20) 芳基、(C1-C20)烷氧基、(C3-C20)环烷基、(C2-C7)烯基、卤素、羟基、氰基、氨基、硝基和CF 3 中的任一种以上取代,
[0084] 所述n及m分别为选自1至10的整数。)
[0085] 在本发明的一个实施方式中,所述化学式1的化合物的分子量优选为400至3000。 如果分子量小于400,则储存稳定性会发生问题,如果分子量大于3000,则与酰化纤维素树 脂之间的相容性会出现问题,从而会增加薄膜的雾度。
[0086] 对于100重量份酰化纤维素树脂,可以使用0.1至30重量份的所述酯类增塑剂, 更具体地,优选使用1至15重量份。如果使用量小于0. 1重量份,则效果微弱,如果使用量 大于30重量份,则增塑剂会渗出到薄膜表面。
[0087] 本发明由于含有所述酯类增塑剂,从而可以提供透湿度为70, OOOg ? ixm/m2 ? day 以下的酰化纤维素薄膜。如果透湿度大于70, OOOg ? ym/m2* day,则在高温高湿环境下 透过保护膜的水分会对偏光薄膜的偏光度产生影响,从而会发生漏光现象。在透湿度小 于70, OOOg ? y m/m2 ? day的范围内,如果适用于光学薄膜时,透湿度低,则虽然偏光器保 护效果优异,但是使酰化纤维素保护膜与偏光器接触时,通常使用水系接合,因此需要使 一定程度的水通过才不会使偏光器与保护膜之间剩余的水分排出产生问题。因此应在 70, 000g. y m/m2. day以下,更优选为40, 000至60, 000g. y m/m2. day,在上述范围内可 以提供既保护偏光器,而且还不会在水系接合后出现问题的光学膜。
[0088] 并且,可以提供一种在140°C下热处理72小时后的透湿度变化率小于10%且质量 变化率小于1.5 %的薄膜。
[0089] 如上所述,由于透湿度经时变化率及质量变化率小,因此长期保存稳定性及薄膜 的物理性质变化小,从而可以提供一种作为光学膜使用优异的薄膜。
[0090] 本发明的一个实施方式中,酰化纤维素树脂作为纤维素和乙酸的酯,存在于构成 纤维素的葡萄糖单元的2位、3位及6位上的羟基的全部或一部分氢原子可以被选自乙酰 基、丙酰基、丁酰基中的任一种或两种以上取代。虽然对酰化纤维素树脂的分子量的范围没 有限制,但优选重量平均分子量为200, 000至350, 000的范围。并且,酰化纤维素树脂的分 子量分布图Mw/Mn (Mw为重量平均分子量,Mn为数平均分子量)优选为1. 5至3. 0,更优选 为1. 8至2. 5。此时,重量平均分子量是利用凝胶渗透色谱法(GPC)来测定的,使用分子量 为50, 000的苯乙烯作为标准物质。流动相表示使用以4:1的重量比混合二氯甲烷和丙酮 的混合溶剂来进行测定。此时的柱可以使用shodex K803,K805,K806等。
[0091] 本发明的一个实施方式中,所述酰化纤维素薄膜可以进一步包含选自抗紫外线 剂、微粒、增塑剂、劣化防止剂、剥离剂、红外线吸收剂、光学各向异性控制剂中的一种或两 种以上的添加剂。
[0092] 本发明的一个实施方式中,所述酰化纤维素薄膜优选通过使用酰化纤维素涂料溶 液的溶剂铸造法来制得。溶剂铸造法可以为将酰化纤维素溶解于溶剂中的溶液(涂料)铸 造到支撑体上,并将溶剂蒸发,从而形成薄膜。
[0093] 酰化纤维素涂料溶液的原料优选使用酰化纤维素颗粒。此时,所述酰化纤维素颗 粒的90重量%以上优选使用平均粒径为0. 5至5mm的颗粒。并且,使用的酰化纤维素颗粒 的50重量%以上优选具有1至4mm的平均粒径。
[0094] 酰化纤维素颗粒优选具有尽可能接近于球形的形状。所述酰化纤维素颗粒优选干 燥至含水率为2重量%以下,更优选至1重量%以下后,制备成涂料溶剂。
[0095]下面,对用于酰化纤维素薄膜的添加剂进行说明。
[0096] 在用于溶剂铸造法的酰化纤维素溶液(涂料)中,根据用途可以在制备工序中添 加各种添加剂,例如,可以添加抗紫外线剂、劣化防止剂、微粒、剥离剂、红外线吸收剂、光学 各向异性控制剂等添加剂。如果,这些添加剂的具体种类只要是本领域中通常使用的种类, 对其使用没有限制,其含量优选在不降低薄膜物理性质的范围内使用。添加添加剂的时间 根据添加剂的种类来决定。还可以在调制涂料的最后实施加入添加剂的工序。
[0097] 并且,除了所述化学式1的酯类增塑剂以外,根据需要还可以进一步包含本领域 通常使用的增塑剂。只要是通常使用的增塑剂,则对其使用没有限制,例如有选自磷酸酯及 邻苯二甲酸酯或柠檬酸酯的羧酸酯等。磷酸酯可以列举如磷酸三苯酯(TPP)、联苯基二苯基 磷酸酯(biphenyl diphenyl phosphate)及磷酸三甲酸酯(TCP)等。邻苯二甲酸酯可以列 举邻苯二甲酸二甲酯(DMP)、邻苯二甲酸二乙酯(DEP)、邻苯二甲酸二丁酯(DBP)、邻苯二甲 酸二辛酯(DOP)、邻苯二甲酸二苯酯(DPP)及邻苯二甲酸二乙基己酯(DEHP)等。柠檬酸酯 可以列举邻乙酰柠檬酸三乙酯(OACTE)及邻乙酰柠檬酸三丁酯(OACTB)等。其它羧酸酯可 以列举油酸丁酯、甲基乙酰基赖氨酸油酸酯、癸二酸二丁酯及各种偏苯三酸酯。优选可以使 用邻苯二甲酸酯(DMP、DEP、DBP、DOP、DPP、DEHP)增塑剂。此时,增塑剂的总含量对于100 重量份的酰化纤维素可以使用〇. 1至30重量份,更优选使用5至15重量份。
[0098]所述抗紫外线剂可以使用羟基二苯甲酮类化合物、苯并三唑类化合物、水杨酸酯 类化合物、氰基丙烯酸酯类化合物等。抗紫外线的量对于100重量份的酰化纤维素可以使 用0. 1至3重量份,更优选使用0. 5至2重量份。
[0099] 所述劣化防止剂例如可以使用抗氧化剂、过氧化物分解剂、自由基抑制剂、金属失 活剂、脱氧剂、光稳定剂(受阻胺等)等。尤其优选的劣化抑制剂可以列举如丁基羟基甲苯 (BHT)及三苄胺(TBA)。劣化抑制剂的量对于100重量份酰化纤维素可以使用0. 01至5重 量份,更优选使用〇. 1至1重量份。
[0100] 所述微粒是为了抑制薄膜的卷曲、传送性、防止在卷形态中的粘连或维持良好的 耐伤性而添加的,可以使用选自无机化合物、有机化合物中的任一种。作为无机化合物优选 使用含有娃的化合物、二氧化娃、氧化钛、氧化锌、氧化铝、氧化钡、氧化错、氧化锁、氧化铺、
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