亚联环己基、乙烯撑及乙炔组 成的组中。
[0032] 根据本发明一具体例，本发明的聚倍半硅氧烷共聚物利用溶胶-凝胶反应使选自 由上述化学式1、化学式2及化学式3组成的组中的两种以上的化合物共聚合而制成，并不局 限于各聚合单位的排列顺序。
[0033] 并且，根据本发明一具体例，本发明的聚倍半硅氧烷共聚物利用溶胶-凝胶反应使 上述化学式1、化学式2及化学式3的化合物共聚合而制成，并不局限于各聚合单位的排列顺 序。
[0034] 发明的效果
[0035] 本发明的倍半硅氧烷类正性光致抗蚀剂组合物，因露光部的容易的碱溶液显像 性，不仅可形成3μπι的高解析度图案，而且图案形成后，当进行热重量分析(TGA)时，在300Γ 高温下，重量减少小于3%，在400°C高温下，重量减少小于20%，由此呈现出优秀的耐热性。
[0036] 并且，因调节倍半硅氧烷类共聚物的分子量，从而可实现图案的锥角（Taper angle)的调节，因此可收容多种工序条件。尤其，以小于30°的圆滑的低锥角形成的图案有 利于均匀的氧化铟锡、氧化铟锌（ΙΖ0)及氮化硅(SiNx)，各种金属电极膜的后续蒸镀。
[0037]并且，若替代以往的丙稀酸类绝缘膜(k = 3.6)或酰亚胺类绝缘膜(k = 3.5)，由本 发明的倍半硅氧烷类正性光致抗蚀剂组合物来形成绝缘膜或分区，则因实现低介电（k = 3.3)特性，可减少配线之间的信号干扰，并且可在相对低的厚度下实现绝缘特性，因此有利 于设备设计和生产率的提高。
【附图说明】
[0038]图1为常规的有机电致发光显示装置的简要剖视图。
[0039]图2为由本发明的组合物形成的抗蚀膜的扫描型电子显微镜的照片（右侧：3μπι宽 度、中间：5μπι宽度、左侧:7μπι宽度）。
[0040] 图3为将本发明的组合物用作有机电致发光显示装置的分区用抗蚀剂的扫描型电 子显微镜照片（1〇μπι图案的截面照片）。
【具体实施方式】
[0041] 本说明书及发明要求保护范围中使用的术语不应局限于常规或词典上的意义来 解释。
[0042] 根据本发明优选一具体例，本发明涉及正性光致抗蚀剂组合物，上述正性光致抗 蚀剂组合物包含：5至50重量百分比的聚倍半硅氧烷共聚物；2至40重量百分比的萘醌二叠 氮基磺酸酯基被取代的结构的感光剂及10至93重量百分比的有机溶剂，其中，还添加0.01 至10重量百分比的表面活性剂，上述聚倍半硅氧烷共聚物利用溶胶-凝胶反应使选自由上 述化学式1、化学式2及化学式3组成的组中的两种以上的化合物共聚合而制成。
[0043]并且，根据本发明优选一具体例，本发明涉及正性光致抗蚀剂组合物，上述正性光 致抗蚀剂组合物包含：5至50重量百分比的聚倍半硅氧烷共聚物；2至40重量百分比的萘醌 二叠氮基磺酸酯基被取代的结构的感光剂及10至93重量百分比的有机溶剂，其中，还添加 〇. 01至10重量百分比的表面活性剂，上述聚倍半硅氧烷共聚物利用溶胶-凝胶反应使在上 述化学式1、化学式2及化学式3中记述的各种功能性有机硅烷类单体共聚合而制成。
[0044] 包含于本发明的正性光致抗蚀剂组合物中的倍半硅氧烷类共聚物的主链结构本 身为Si-〇x结合，在后烘工序中，有机取代基引起固化反应。因此，可向由本发明的正性光致 抗蚀剂组合物固化而成的抗蚀膜，赋予优秀的耐热性、低排气(out-gas)性、低吸湿性及耐 化学性。
[0045] 在碱溶液中，包含溶解性末端的硅烷类单体优选为以以下化学式1表示的单体。
[0046] 化学式1:
[0047] Ri-R2-Si(R3)3
[0048]优选地，在上述化学式1中，心包含可在碱性溶液中形成盐的取代基或包含亲水基 作为碱溶性成分。更优选地，Ri选自由羧酸、马来酸酐、衣康酸酐、丁二酸酐、苯酐、水杨酸、 苯酚、硫醇、羟基、磺酸基及在酸性催化剂下由羧酸或苯酚脱保护的叔丁氧羰基、叔丁氧基 苯乙烯基、对-(1-乙氧基乙氧基)苯乙烯基及对乙酰氧基苯乙烯基组成的组中。
[0049]在上述化学式1中，R2为碳原子数为1至12个的直链型或支链型亚烷基、碳原子数 为6至18个的芳香族或碳原子数为3至18个的脂环族，优选地，R2为碳原子数为1至6个的直 链型或支链型亚烷基、碳原子数为6至14个的芳香族或脂环族，更优选地，R 2为碳原子数为1 至4个的直链型或支链型亚烷基、亚苯基、亚联苯基、亚环己基、或亚联环己基，R3为碳原子 数为1至4个的可水解的烷氧基。作为上述烷氧基的具体例，可例举甲氧基、乙氧基、丙氧基、 叔丁氧基等，但并不局限于它们。
[0050]在本发明中，除了化学式1的碱溶性成分之外，包含碱不溶性的各种有机类末端作 为共聚合成分的硅烷类单体优选为以以下化学式2表示的单体。
[0051 ] 化学式2:
[0052] R4-R5-Si(R6)3
[0053] 在上述化学式2中，R4为碱不溶性成分，优选地，R4在碱性溶液中无法形成盐，或者， R4包含疏水性取代基。更优选地，R4选自由氢、碳原子数为1至5个的直链型或支链型烷基、苯 基、联苯、环己基、联环己基、氧化缩水甘油、环氧环己基、氧杂环丁烷、丙烯酰氧基、甲基丙 烯酰氧基、三氟甲基、乙烯基、碳原子数为1至4个的烷氧基及异氰基组成的组中。
[0054]在上述化学式2中，R5为碳原子数为1至12个的直链型或支链型亚烷基、碳原子数 为6至18个的芳香族或碳原子数为3至18的脂环族，优选地，R5为碳原子数为1至6的直链型 或支链型亚烷基、碳原子数为6至14的芳香族或脂环族，更优选地，抱为1至4个的碳的直链 型或支链型亚烷基、亚苯基、亚联苯基、亚环己基或亚联环己基，R 6为碳原子数为1至4个的 可水解的烷氧基。作为上述烷氧基的具体例，可例举甲氧基、乙氧基、丙氧基、叔丁氧基等， 但并不局限于它们。
[0055] 在本发明中，除了化学式1的碱溶性成分和化学式2的共聚合成分之外，用于调节 分子量的6-官能对称结构的有机硅烷优选为以化学式3表示的单体。
[0056] 化学式3:
[0057] (R7)3Si-R8-Si(R7)3
[0058] 在上述化学式3的双硅烷结构中，R7为碳原子数为1至4个的可水解的烷氧基。作为 上述烷氧基的具体例，可例举甲氧基、乙氧基、丙氧基、叔丁氧基等，但并不局限于它们。 [0059] R8为碳原子数为1至12个的直链型或支链型亚烷基、碳原子数为6至18个的芳香族 或碳原子数为3至18个的脂环族。优选地，R 8为碳原子数为1至6的个直链型或支链型亚烷 基、碳原子数为6至14个的芳香族或脂环族。更优选地，R8选自由碳原子数为1至4个的直链 型或支链型亚烷基、亚苯基、亚联苯基、亚环己基、4,4_亚联环己基、乙烯撑及乙炔组成的组 中。
[0060] 根据本发明一具体例，本发明的聚倍半硅氧烷共聚物利用溶胶-凝胶反应使选自 由上述化学式1、化学式2及化学式3组成的组中的两种以上的化合物共聚合而制成，并不局 限于各聚合单位的排列顺序。
[0061] 并且，根据本发明一具体例，本发明的聚倍半硅氧烷共聚物利用溶胶-凝胶反应使 上述化学式1、化学式2及化学式3的化合物共聚合而成，并不局限于各聚合单位的排列顺 序。
[0062]在本发明一具体例中，本发明的组合物可以为由下列实验例1制备而成的随机共 聚物，但并不局限于此。
[0063] 实验例1
[0064]
[0065]优选地，在组合物总重量中，包含5至50重量百分比的本发明的倍半硅氧烷类共聚 物。若上述含量小于5重量百分比，则旋涂时无法取得为薄膜形态，若上述含量超过50重量 百分比，则无法取得充分的感光特性。
[0066] 为了优秀的感光特性，优选地，使用如下上述倍半硅氧烷类共聚物:倍半硅氧烷类 共聚物的重均分子量(Mw)为300至100000,倍半硅氧烷类共聚物的分散度为1.0至10.0,倍 半硅氧烷类共聚物的酸价为10至400K0Hmg/g。更优选地，使用如下上述倍半硅氧烷类共聚 物:倍半硅氧烷类共聚物的重均分子量为1000至30000,倍半硅氧烷类共聚物的分散度为 1.3至3.0，倍半硅氧烷类共聚物的酸价为20至200K0H mg/g。
[0067] 并且，本发明的倍半硅氧烷类正性光致抗蚀剂组合物可包含对光敏感的感光剂 (光敏混合物(Photo-active compound))。作为在本发明的组合物中使用的感光剂，可使用 通常使用于正性光致抗蚀剂的感光剂，例如，可使用如下感光剂:感光剂通过在酯化母体中 使萘醌-1，2-二叠氮基-4-磺酸酯或萘醌-1，2-二叠氮基-5-磺酸酯基取代而成，上述酯化母 体选自由9,9_双(4-羟基苯基)芴、双酚-△、4,4'-[1-[4-[1-(4-羟基苯基)-1-甲基乙基]苯 基]亚乙基]双酚、2，3,4_三羟基二苯甲酮、2，3,4_三羟基苯乙酮、2,3，4_三羟基苯基己基 酮、2,4,4'_三羟基二苯甲酮，2,4,6_三羟基二苯甲酮、2,3,4_羟基-2'-甲基-二苯甲酮、2， 2'，4,4'_四羟基二苯甲酮、2,3,4,4'-四羟基二苯甲酮、4,4'，4"-三羟基苯基甲烷，4,4'， 4"-亚乙基三（2-甲基苯酚）、双(4-羟基苯基）甲基苯基甲烷、1，1，4_三(4-羟基苯基）