第二开合结构的间距适当的小些，可选的，当第二开合结构闭合时，第二支撑针22与对应的第二开合结构之间的间距可为6_。
[0038]需要说明的是，本实施例中，操作人员可通过在曝光机的控制面板上进行操作，从而对曝光机的支撑针及支撑针控制器等部件进行控制，并对曝光机的工作状态进行监控等。
[0039]实施例二
[0040]本实施例提供了一种曝光方法，该曝光方法适用于实施例一提供的曝光机，该曝光方法包括以下步骤:
[0041]根据待曝光的显示基板的显示区域和非显示区域的具体位置，确定上述曝光机的多个支撑针中要使用的支撑针，使要使用的支撑针对应该显示基板的非显示区域；
[0042]控制要使用的支撑针伸出上述曝光机的基台的上表面，支撑该显示基板，开始对该显示基板进行曝光。
[0043]上述曝光方法中，根据不同显示基板中显示区域和非显示区域的位置等的不同，从曝光机的多个支撑针选择部分支撑针，使这些支撑针与显示基板的非显示区域所在的位置相对应，确定所选择的支撑针为要使用的支撑针。
[0044]曝光时，控制要使用的支撑针伸出曝光机的基台的上表面，并顶在待曝光的显示基板的非显示区域上，以支撑该显示基板，之后可控制处于使用状态的支撑针回缩至基台上表面的一定位置处，开始对显示基板进行曝光。
[0045]上述曝光方法可在曝光时，使支撑针仅作用在非显示区域上，因此在该显示基板进行显影后，因支撑针的作用导致显示基板上形成的痕迹只是出现在了显示基板的非显示区域上，从而在显示面板进行画面显示时不会出现姆拉现象，提高了显示面板的画面质量，也就提尚了显不面板的良品率。
[0046]本发明的实施例一和实施例二中所提供的曝光机和曝光方法适用于各种显示面板，下面简单介绍其中一种显示面板的结构，仅以此例使本发明所适用的范围具体化，以便于理解本发明所提供的技术方案。
[0047]所述显示面板主要包括对盒的彩膜基板和阵列基板，其中，彩膜基板主要包括玻璃基板、用于区别各像素的黑矩阵、用于滤光的彩色光阻、用于保护彩色光阻的保护层和用于与阵列基板电连接的透明导电薄膜，彩膜基板还包括彩膜基板和阵列基板对盒时用于支撑盒厚的隔垫物。在上述结构的制备过程中，所需要曝光的环节均可采用本发明所提供的曝光机和曝光方法。
[0048]值得一提的是，随着显示装置轻薄化的发展趋势，制备显示面板时所使用的玻璃基板也越来越薄，若使用现有的支撑针为固定设置的曝光机，在曝光时因支撑针作用在显示基板上而导致形成姆拉现象更为严重，因此本发明所提供的曝光机和曝光方法显得尤为重要。
[0049]以上所述，仅为本发明的【具体实施方式】，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
【主权项】
1.一种曝光机，包括基台，及设置于所述基台中并可从所述基台的上表面伸出的多个支撑针，其特征在于，所述曝光机还包括与各支撑针相连的支撑针控制器，所述支撑针控制器包括: 与各支撑针相连的支撑针确定单元，所述支撑针确定单元用于根据待曝光的显示基板的显示区域和非显示区域的具体位置，确定多个所述支撑针中要使用的支撑针，使所述要使用的支撑针对应所述显示基板的非显示区域； 与所述支撑针确定单元相连的伸缩控制单元，所述伸缩控制单元还与各支撑针相连，所述伸缩控制单元用于控制所述要使用的支撑针在曝光时伸出所述基台的上表面，以支撑所述显示基板。2.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，多个所述支撑针包括多个第一支撑针和多个第二支撑针，所述第一支撑针包括针体和设置于所述针体内部的吸附管道； 所述曝光机还包括抽真空装置，所述抽真空装置与各所述第一支撑针内的吸附管道相连，在所述第一支撑针支撑所述显示基板时，所述吸附管道靠近所述显示基板的一端在所述抽真空装置的作用下产生负压，以吸附所述显示基板。3.根据权利要求2所述的曝光机，其特征在于，多个所述第一支撑针在所述基台上表面上的分布密度为1/3.52?1/2.52个/cm2。4.根据权利要求3所述的曝光机，其特征在于，多个所述第一支撑针在所述基台上表面上的分布密度为1/32个/cm2。5.根据权利要求2所述的曝光机，其特征在于，多个所述第二支撑针在所述基台上表面上的分布密度为1/2.52?1/1.52个/cm2。6.根据权利要求5所述的曝光机，其特征在于，多个所述第二支撑针在所述基台上表面上的分布密度为I /42个/cm2。7.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述基台的上表面内设置有多个安装孔，多个所述支撑针一一对应的安装在多个所述安装孔内，所述安装孔内靠近所述基台上表面的一侧设置有开合结构。8.根据权利要求7所述的曝光机，其特征在于，所述开合结构包括两个对称设置的半圆形上盖，在所述开合结构闭合时，两个所述上盖拼接构成一圆形，在所述开合结构打开时，两个所述上盖能够收缩进所述基台的主体的内部。9.根据权利要求8所述的曝光机，其特征在于，所述第一支撑针的顶部为圆形，所述第一支撑针的顶部的直径为8_，与所述第一支撑针对应的开合结构闭合时的直径为I Omm ； 所述第二支撑针的顶部为圆形，所述第二支撑针的顶部的直径为4mm，与所述第二支撑针对应的开合结构闭合时的直径为6mm。10.根据权利要求8所述的曝光机，其特征在于，所述开合结构的厚度为0.5mm。11.根据权利要求8所述的曝光机，其特征在于，所述开合结构闭合时与所述基台的上表面处于同一平面内。12.根据权利要求7所述的曝光机，其特征在于，在所述开合结构闭合时，所述第一支撑针与对应的开合结构之间的间距为10mm，所述第二支撑针与对应的开合结构之间的间距为6mm ο13.根据权利要求7所述的曝光机，其特征在于，所述支撑针控制器还包括与所述开合结构相连的开合控制单元，所述开合控制单元用于控制所述开合结构闭合或者打开。14.一种曝光方法，其特征在于，所述曝光方法适用于权利要求1?13任一项所述的曝光机，所述曝光方法包括: 根据待曝光的显示基板的显示区域和非显示区域的具体位置，确定所述曝光机的多个支撑针中要使用的支撑针，使所述要使用的支撑针对应所述显示基板的非显示区域； 控制所述要使用的支撑针伸出所述曝光机的基台的上表面，支撑所述显示基板，开始对所述显示基板进行曝光。
【专利摘要】本发明提供了一种曝光机及曝光方法，涉及显示技术领域，在曝光过程中使支撑针顶在显示基板的非显示区域上，从而避免了采用这种显示基板进行画面显示时出现姆拉现象。所述曝光机包括基台、设置于基台中并可从基台的上表面伸出的多个支撑针、与各支撑针相连的支撑针控制器，支撑针控制器包括：与各支撑针相连的支撑针确定单元，用于根据待曝光的显示基板的显示区域和非显示区域的具体位置，确定多个支撑针中要使用的支撑针，使要使用的支撑针对应显示基板的非显示区域；与支撑针确定单元和各支撑针均相连的伸缩控制单元，用于控制要使用的支撑针在曝光时伸出基台的上表面，以支撑显示基板。本发明提供的曝光机用于对显示基板进行曝光。
【IPC分类】G03F7/20
【公开号】CN105652608
【申请号】
【发明人】刘浏, 石鹏程, 元敏
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 合肥京东方光电科技有限公司
【公开日】2016年6月8日
【申请日】2016年4月14日