曝光机及曝光方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种曝光机及曝光方法。
【背景技术】
[0002]在显示面板的基板制造过程中，会多次使用构图工艺，构图工艺包括涂胶、曝光、显影、刻蚀、清洗等工序。其中，曝光工序需要使用曝光机，曝光机包括用于承载待曝光的显示基板的基台10，参见图1，基台10中设置有可从基台10的上表面伸出的多个支撑针20。在曝光机未使用时，支撑针20回缩在基台10内；当使用曝光机对显示基板进行曝光时，将待曝光的显示基板移动至基台10上方，支撑针20伸出基台10的上表面，待曝光的显示基板下降，直至接触支撑针20顶部，然后支撑针20承托着待曝光的显示基板回缩，直至待曝光的显示基板到达预定位置，之后开始进行曝光。
[0003]在整个曝光过程中，支撑针20支撑显示基板，使得在显示基板对应有支撑针20支撑的部位上，受到了支撑力，从而该支撑力的作用会干扰到显示基板的曝光过程，造成显影后显示基板上留下支撑针20顶部圆圈形的痕迹。由于不同规格的显示基板上显示区域的位置各不相同，非显示区域的位置也各不相同，但是支撑针20在基台10上的位置却是固定的，因此难免会有支撑针20刚好顶在显示基板的显示区域内，导致前述圆圈形的痕迹出现在显示区域内，从而在进行画面显示时，显示区域内出现亮斑、亮线、暗斑等亮度不均一的现象，这种亮度不均一的现象称为姆拉现象。存在姆拉现象会导致显示面板的画面质量下降，降低了显示面板的良品率。
【发明内容】
[0004]本发明的目的在于提供一种曝光机及曝光方法，在曝光过程中使支撑针顶在显示基板的非显示区域上，从而避免了采用这种显示基板进行画面显示时出现姆拉现象。
[0005]为了达到上述目的，本发明提供如下技术方案:
[0006]—方面，本发明提供了一种曝光机，包括基台，及设置于所述基台中并可从所述基台的上表面伸出的多个支撑针，所述曝光机还包括与各支撑针相连的支撑针控制器，所述支撑针控制器包括:与各支撑针相连的支撑针确定单元，所述支撑针确定单元用于根据待曝光的显示基板的显示区域和非显示区域的具体位置，确定多个所述支撑针中要使用的支撑针，使所述要使用的支撑针对应所述显示基板的非显示区域;与所述支撑针确定单元相连的伸缩控制单元，所述伸缩控制单元还与各支撑针相连，所述伸缩控制单元用于控制所述要使用的支撑针在曝光时伸出所述基台的上表面，以支撑所述显示基板。
[0007]在本发明所提供的曝光机中，设置有与各支撑针相连的支撑针控制器，在曝光前，支撑针控制器的支撑针确定单元根据待曝光的显示基板的显示区域和非显示区域的具体位置，在基台中的多个支撑针中，选择与非显示区域对应的支撑针，确定为要使用的支撑针;在曝光时，支撑针控制器的伸缩控制单元控制所确定的要使用的支撑针伸出基台的上表面，并顶在该显示基板的非显示区域上。因此在显影后，因支撑针作用在显示基板上而形成的圆圈形的痕迹只会出现在显示基板的非显示区域上，从而在显示面板进行画面显示时不会出现姆拉现象，提高了显示面板的画面质量，也就提高了显示面板的良品率。
[0008]另一方面，本发明提供了一种曝光方法，所述曝光方法适用于上述曝光机，所述曝光方法包括:根据待曝光的显示基板的显示区域和非显示区域的具体位置，确定所述曝光机的多个支撑针中要使用的支撑针，使所述要使用的支撑针对应所述显示基板的非显示区域;控制所述要使用的支撑针伸出所述曝光机的基台的上表面，支撑所述显示基板，开始对所述显示基板进行曝光。
[0009]本发明所提供的曝光方法的有益效果与上述曝光机的有益效果相同，在此不再赘述。
【附图说明】
[0010]此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
[0011]图1现有技术中的曝光机的基台的结构示意图；
[0012]图2为本发明实施例所提供的曝光机的基台的结构示意图；
[0013]图3为本发明实施例所提供的支撑针的结构示意图。
[0014]附图标记:
[0015]10-基台；20-支撑针；21-第一支撑针；
[0016]22-第二支撑针；30-安装孔； 40-上盖。
【具体实施方式】
[0017]为使本发明所提出的技术方案的目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面将结合附图，对本发明所提出的技术方案的实施例进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是所提出的技术方案的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，均属于本发明保护的范围。
[0018]需要说明的是，本发明中所述的“显示区域”是指显示面板中各像素的开口区域，即能够透光的区域；“非显示区域”是指显示面板中除各像素的开口区域以外的区域，即遮光的区域，这些区域包括相邻像素之间的缝隙区域及边框区域等。
[0019]实施例一
[0020]本实施例提供了一种曝光机，参见图2，该曝光机包括用于承载待曝光的显示基板的基台10和支撑针控制器，基台10中设置有多个支撑针20，多个支撑针20可从基台10的上表面伸出，且多个可伸缩的支撑针20均与支撑针控制器相连。支撑针控制器包括相连的支撑针确定单元和伸缩控制单元，且支撑针确定单元与各支撑针20相连，伸缩控制单元也与各支撑针相连;其中，支撑针确定单元用于根据待曝光的显示基板的显示区域和非显示区域的具体位置，确定多个支撑针20中要使用的支撑针20，使要使用的支撑针20对应显示基板的非显示区域，伸缩控制单元用于控制要使用的支撑针20在曝光时伸出基台10的上表面，以支撑该显示基板。
[0021]使用上述曝光机对显示基板进行曝光之前，支撑针控制器的支撑针确定单元根据待曝光的显示基板的显示区域和非显示区域的具体位置，从多个支撑针20中，选择与待曝光的显示基板的非显示区域所在位置相对应的支撑针20，确定为要使用的支撑针;在曝光时，支撑针控制器的伸缩控制单元控制要使用的支撑针20伸出基台10的上表面，以使支撑针20的顶部顶在显示基板的非显示区域上，从而将显示基板支撑在基台10上。因此在该显示基板进行显影后，因支撑针20作用在显示基板上而留下的痕迹只会出现在显示基板的非显示区域上，当由该显示基板制成的显示面板进行画面显示时，显示区域上并不会出现姆拉现象，不会影响到显示面板的画面质量，从而提高了显示面板的良品率。
[0022]基台10上的支撑针20可对显示基板起到支撑的作用，以方便显示基板起降，从而完成曝光动作，进一步的，为了将显示基板固定于基台10上进行曝光，可通过使部分支撑针20吸附在显示基板上来实现。因此，参见图2，本实施例中的多个支撑针20可包括多个同时具有支撑和吸附功能的第一支撑针21和多个具有支撑功能的第二支撑针22。其中，第一支撑针21的结构可为:包括针体和设置于针体内部的吸附管道，各第一支撑针21的吸附管道远离显示基板的一端与抽真空装置相连，在第一支撑针21支撑显示基板时，抽真空装置能够为吸附管道内提供气流，从而吸附管道靠近显示基板的一端能够产生负压，以吸附显示基板。优选的，抽真空装置可为气缸。
[0023]在实际生产中，各显示面板的显示区域和非显示区域的位置各不相同，因而对应的显示基板上的显示区域和非显示区域的位置也各