机构的当前位置，控制器13取得传感器的测量信号，取得其当前位置的信息(S404)。控制器13根据取得的位置的信息，将可动机构的移动范围(驱动部的驱动范围)的中心位置作为目标位置来控制驱动部，使可动机构移动到该中心位置(S405)。
[0043]接下来，使用像差测量装置，测量投影光学系统的像差(S406)。接下来，根据测量出的像差，调整投影光学系统的像差(S407)。在S407中，根据像差的测量结果，针对具备在S405中返回到驱动范围的中心位置的驱动部的光学部件以外的光学部件进行间隔调整、偏心调整。
[0044]然后，测量残存在投影光学系统中的像差(S408)。接下来，使用运算装置，根据测量出的残存像差，计算为了降低残存像差而所需的加工用光学部件的表面形状的加工量(S409)。然后，使用研磨加工装置，根据计算出的加工量，对加工用光学部件的表面进行研磨而加工(S410)。接下来，将加工了的光学部件装入到投影光学系统(S411)。
[0045]此处，说明了在S406的像差测量之后进行S407的像差调整以及S408的像差测量的方法，但在通过S403的调整而充分修正了的情况下，还能够使用S406的像差测量结果来计算加工用光学部件的表面形状的加工量。在计算表面形状的加工量的情况下，还能够以调整具备返回到驱动范围的中心位置的驱动部的光学部件以外的光学部件的间隔、偏心为前提而计算。
[0046]接下来的S409至S411与S310至S312相同，S412至S415与S314至S317相同，所以省略说明。
[0047]以上，通过如本实施方式那样制造投影光学系统，与第I实施方式同样地，在使驱动部的可动机构移动到可动范围的中心位置的状态下配置光学部件，对加工用光学部件的表面进行加工。因此，之后的投影光学系统的成像性能的正侧的调整范围以及负侧的调整范围中的任一个都能够确保充分的范围。如上所述，使驱动部移动到驱动范围的中心而测量像差，并将根据其测量结果来校正所产生的像差那样的面形状附加到加工用光学部件，从而能够在使驱动部位于驱动范围的中心位置的状态下校正投影光学系统的像差。通过使驱动部位于驱动范围的中心，能够制造无需使驱动部复杂化、大型化而确保充分的驱动范围、同时具有良好的成像性能的投影光学系统。
[0048](第3实施方式)
[0049]接下来，说明利用了上述曝光装置的器件(半导体IC元件、液晶显示元件等)的制造方法。首先，通过上述制造方法制造投影光学系统。然后，使用具备制造出的投影光学系统的曝光装置，通过该投影光学系统将掩模的图案的像投影到涂覆了感光剂的基板(晶片、玻璃基板等)上，使基板曝光。然后，通过经由使曝光了的基板(感光剂)显影的工序、和对显影了的基板进行加工的其他公知的工序来制造器件。在其他公知的工序中，包括蚀亥|J、抗蚀剂剥离、切割(dicing)、接合(bonding)、封装等。根据本器件制造方法，能够制造比以往更高的质量的器件。
[0050]以上，说明了本发明的优选的实施方式，但本发明不限于这些实施方式，能够在其要旨的范围内进行各种变形以及变更。例如，测定驱动部的可动机构的位置的传感器也可以处于驱动部外。另外，作为投影光学系统的像差测量方法，能够应用实际地在基板上使图案曝光而根据其曝光结果测量在投影光学系统中产生的像差等各种方法。
[0051]另外，关于投影光学系统PO的结构，列举包括反射镜和透镜等光折射部件的投影光学系统作为例子进行了说明，但不限于上述结构。只要是将物体的像投影到像面的投影光学系统即可，例如，可以成为不包括反射镜的、由多个透镜构成的投影光学系统等任意的结构。
[0052]另外，在上述实施方式中，在S309、S313或S405中，在使驱动部移动到其驱动范围的中心位置的状态下配置光学部件。但是，只要能够充分地确保投影光学系统的成像性能的调整范围，则驱动部应配置的位置不限于驱动范围的中心位置。例如，也可以根据投影光学系统的成像性能的调整范围和驱动部的驱动范围的对应关系，决定与成像性能的调整范围的原点对应的驱动范围内的位置，作为所述中心位置的替代。即，也可以在使驱动部移动到根据驱动范围决定的规定的位置的状态下配置光学部件。
[0053]虽然参考示例性实施方式对本发明进行了说明，但应当理解本发明不限于公开的示例性实施方式。下面的权利要求书的范围应当被赋予最宽的解释，以包括所有这样的变形以及等同的结构和功能。
[0054]本申请要求2014年11月28日提交的日本专利申请N0.2014-242531的优先权，其全部内容通过在此弓I用被并入本文。
【主权项】
1.一种将物体的像投影到像面的投影光学系统的制造方法，其特征在于，具有: 组装工序，通过对包括具备驱动部的可动光学部件的多个光学部件进行组合配置，组装所述投影光学系统； 调整工序，通过利用所述驱动部使所述可动光学部件移动，调整所述投影光学系统； 取得工序，取得使所述驱动部移动到根据该驱动部的驱动范围决定的规定的位置的状态下的所述投影光学系统的像差的信息； 加工工序，根据取得的像差的信息，对加工用光学部件的表面进行加工；以及 装入工序，将加工了的所述加工用光学部件装入到所述投影光学系统， 还具有移动工序，使所述驱动部移动到根据所述驱动范围决定的规定的位置。2.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于， 根据所述驱动范围决定的规定的位置是所述驱动范围的中心位置。3.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于， 所述加工用光学部件是所述可动光学部件， 在所述加工工序中，取出处于所述投影光学系统的所述可动光学部件，对所述可动光学部件的表面进行加工， 在所述装入工序中，将加工了的所述可动光学部件装入到所述投影光学系统。4.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于， 所述加工用光学部件是处于在所述组装工序中组装了的所述投影光学系统外的光学部件， 在所述加工工序中，对处于所述投影光学系统外的光学部件的表面进行加工， 在所述装入工序中，通过交换处于所述投影光学系统的所述可动光学部件、和加工了的所述加工用光学部件，将加工了的所述加工用光学部件装入到所述投影光学系统。5.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于， 在所述取得工序之后进行所述移动工序， 在所述取得工序中，取得所述驱动部的位置的信息，基于取得的所述位置和根据所述驱动范围决定的规定的位置的差，计算所述状态下的所述投影光学系统的像差的信息，从而取得所述投影光学系统的像差的信息。6.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于， 在所述调整工序之后并且在所述取得工序之前进行所述移动工序， 在所述取得工序中，通过测量进行了所述移动工序之后的所述投影光学系统的像差，取得所述像差的信息。7.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于， 在所述调整工序中，调整所述投影光学系统的像差。8.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于， 在所述调整工序中，调整所述投影光学系统的组装误差。9.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于， 所述投影光学系统是将掩模的图案投影到像面的投影光学系统。10.一种器件制造方法，其特征在于，具有: 通过权利要求1至9中的任意一项所述的制造方法来制造投影光学系统的工序； 使用制造出的该投影光学系统，将掩模的图案投影到基板上而使所述基板曝光的工序; 使曝光了的基板显影的工序；以及 对显影了的基板进行加工来制造器件的工序。
【专利摘要】本发明涉及投影光学系统的制造方法以及器件制造方法。提供能够充分确保投影光学系统的成像性能的调整范围的投影光学系统。一种投影光学系统的制造方法，具有：通过对包括具备驱动部的可动光学部件的多个光学部件进行组合配置来组装投影光学系统的工序；通过利用驱动部使可动光学部件移动来调整投影光学系统的工序；取得使驱动部移动到根据其驱动范围决定的规定的位置的状态下的投影光学系统的像差的信息的工序；根据取得的像差的信息对加工用光学部件的表面进行加工的工序；以及将加工了的加工用光学部件装入到投影光学系统的工序，还具有使驱动部移动到根据所述驱动范围决定的规定的位置的工序。
【IPC分类】G03F7/20
【公开号】CN105652600
【申请号】
【发明人】大野文靖
【申请人】佳能株式会社
【公开日】2016年6月8日
【申请日】2015年11月24日