投影光学系统的制造方法以及器件制造方法

文档序号:9886720阅读:415来源:国知局
投影光学系统的制造方法以及器件制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及投影光学系统的制造方法以及器件制造方法。
【背景技术】
[0002]曝光装置是在作为半导体器件、液晶显示装置等的制造工序的光刻工序中,对掩模(掩模板(reticle))进行照明,经由投影光学系统将掩模的图案转印到涂覆了感光剂(抗蚀剂)的基板(晶片、玻璃板等)上的装置。
[0003]例如,在将图案转印到玻璃板的投影曝光装置中,近年来,要求将掩模上的更大的面积图案在基板上一并曝光的曝光装置。为了应对该要求,提出了能够得到高分辨率并且能够使大画面曝光的步进扫描(step and scan)方式的扫描型投影曝光装置。在该扫描型曝光装置中,在使掩模以及基板移动的同时,通过透射了狭缝的曝光光对掩模进行照明,经由投影光学系统在基板上对曝光光进行扫描,从而将掩模的图案转印到基板上。在日本专利5398185号公报中,记载了具有具备用于调整这样的转印工序中的掩模的图案的投影倍率的调整机构的投影光学系统的曝光装置。调整机构具备具有柱状面的多个光学部件,通过变更光学部件间的间隔来调整投影倍率。通过光学部件、与其保持机构连接了的致动器,进行光学部件的移动。
[0004]在制造投影光学系统时,需要组装多个光学部件而进行调整的工序。在调整工序中,变更光学部件的位置,以使组装误差、像差降低。日本专利5398185号公报记载的调整机构中的光学部件也能够为了调整而变更其位置。即,在调整工序中,在移动该光学部件的位置而制造出投影光学系统之后,在曝光工序中为了调整投影倍率而变更该光学部件的位置。如果在调整工序中移动了光学部件,则有时在曝光工序中为了调整投影倍率而所需的光学部件的移动量超过光学部件的可动范围,无法充分地调整投影倍率。即,投影光学系统的成像性能的调整范围变窄。

【发明内容】

[0005]解决上述课题的本发明的一个侧面是一种将物体的像投影到像面的投影光学系统的制造方法,其特征在于,具有:组装工序,通过对包括具备驱动部的可动光学部件的多个光学部件进行组合配置,组装所述投影光学系统;调整工序,通过利用所述驱动部使所述可动光学部件移动,调整所述投影光学系统;取得工序,取得使所述驱动部移动到根据该驱动部的驱动范围决定的规定的位置的状态下的所述投影光学系统的像差的信息;加工工序,根据取得的像差的信息,对加工用光学部件的表面进行加工;以及装入工序,将加工了的所述加工用光学部件装入到所述投影光学系统,还具有移动工序,使所述驱动部移动到根据所述驱动范围决定的规定的位置。
[0006]根据(参考附图)对示例性实施例的下面的描述,本发明的另外的特征将变得清
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【附图说明】
[0007]图1是曝光装置的概要图。
[0008]图2是用于移动光学部件的驱动部的概略图。
[0009]图3是投影光学系统的以往的制造方法的流程图。
[0010]图4是第I实施方式中的投影光学系统的制造方法的流程图。
[0011]图5是第2实施方式中的投影光学系统的制造方法的流程图。
【具体实施方式】
[0012]以下,根据附图,详细说明本发明的优选的实施方式。
[0013](第I实施方式)
[0014]图1是曝光装置的概略图。曝光装置包括照明光学系统IL、投影光学系统PO。在照明光学系统IL与投影光学系统PO之间,配置了能够保持并移动描绘了应制造的器件的电路图案的掩模I的掩模载置台2。在照明光学系统IL中包括光源,能够使用例如高压汞灯。但是,关于光源,能够任意地选择适合于进行制造的器件的装置。照明光学系统IL使用来自光源的光对掩模I进行照明,通过投影光学系统PO,将掩模I的图案的像投影到保持在基板载置台4的基板3。在基板3上涂覆了对曝光光有感光度的光致抗蚀剂,使曝光图案显影,从而在基板3上形成抗蚀剂图案。在曝光时,在使掩模载置台2和基板载置台4同步地移动的同时,在规定的照明区域中在基板3上进行扫描同时进行曝光。
[0015]投影光学系统PO沿着来自掩模I的光的行进方向,依次包括折射光学部件5、梯形镜20的平面镜20a、第一凹面镜6、折射光学部件7、凸面镜8、第二凹面镜9、梯形镜20的平面镜20b、折射光学部件10。折射光学部件5、10是用于校正投影光学系统PO的成像性能、例如倍率、像差等的校正光学系统。各折射光学部件由非球面的透镜、板或者楔状的光学部件等构成。
[0016]在折射光学部件5、10中,分别构成了驱动部11以及12。图2示出折射光学部件5及其驱动部11的概略图。驱动部11具有底座21、致动器22、可动机构23、以及保持折射光学部件5的保持机构。致动器22是马达、压电元件等,将其驱动力传递给可动机构23,使可动机构23上下移动。能够通过驱动致动器而经由可动机构变更折射光学部件5的位置。即,折射光学部件5被构成为可动光学部件。能够通过例如激光干涉计等位置测定装置,测定折射光学部件的位置。由位置测定装置测定出的折射光学部件的位置被用于折射光学部件的位置的调整。另外,驱动部11还能够与可动机构23 —起具备或者替代可动机构23而具备将致动器的驱动力传递给折射光学部件的其他可动机构。例如,有在相对作为折射光学部件的透镜的光轴垂直的方向上移动的可动机构、在绕相对透镜的光轴垂直的轴的旋转方向上使透镜旋转的可动机构、或者在这些多个方向上移动的可动机构。另外,驱动部11具备测定与致动器连接了的可动机构的位置的编码器、激光干涉计等传感器。控制器13进行驱动部11的控制,使用由传感器测定出的位置的信息,进行致动器22的反馈控制等。此处,说明了在折射光学部件5中具备的驱动部11,但在折射光学部件10中具备的驱动部12也是与驱动部11同样的结构。
[0017]—般,形成了的图案重叠在基板3上,在其上使图案曝光,在基板3上层叠形成多个图案,从而制造由曝光装置制造的器件。基板3在抗蚀剂涂覆、显影处理时,由于进行热处理等而伸缩。如果基板3伸缩,则在基板上重叠图案而曝光时,产生重叠误差。为了降低该重叠误差,通过在曝光装置中具备的未图示的测量装置,测量基板3的伸缩量。控制器13根据该测量值,计算用于使图案的重叠误差成为最小的折射光学部件5、10的目标位置或者移动量。然后,控制器13根据计算出的目标位置或者移动量,计算用于使折射光学部件5,10移动的驱动部11、12的致动器的驱动量。然后,控制器13根据计算出的驱动量,向驱动部11、12的致动器发送驱动指令,使该致动器驱动。在通过驱动部11、12的致动器使折射光学部件5、10移动之后,进行向基板3上的图案的曝光,从而能够降低图案的重叠误差。
[0018]基于折射光学部件5、10以及驱动部11、12的投影光学系统的成像性能的调整范围包括从原点观察时向正侧的调整和向负侧的调整。例如,作为投影光学系统的倍率的调整范围,构成为能够进行向放大的方向的倍率调整、和向缩小的方向的倍率调整。具体而言,设计成将与致动器连接了的可动机构处于可动机构的可动范围(驱动部的驱动范围)的中心附近的状态作为初始位置而配置折射光学部件。然后,通过致动器使可动机构从其中心附近移动到一方侧,从而使折射光学部件移动,进行向放大的方向的倍率调整。另一方面,构成为通过致动器使可动机构从其中心附近移动到与一方侧相反的一侧,从而折射光学部件也向相反侧移动,能够进行向缩小的方向的倍率调整。
[0019]重叠误差根据基板而分别有偏差,所以需要应对更宽的范围的重叠误差。因此,需要连同正侧的调整范围以及负侧的调整范围一起,更宽地确保基于折射光学部件5、10以及驱动部11、12的投影光学系统的成像性能的调整范围。
[0020]但是,折射光学部件5、10除了被用于重叠误差的调整以外,还被用于投影光学系统PO的组装误差、投影光学系统PO的像差的调整,为了各调整,需要对驱动部11、12的致动器进行驱动。因此,存在如下问题:如果为了投影光学系统PO的组装误差、投影光学系统PO的像差的调整而驱动致动器,则为了重叠误差的调整用而确保的投影光学系统的成像性能的调整范围变窄。
[0021]使用图3,说明投影光学系统PO的以往的制造方法的步骤。图3是示出投影光学系统的以往的制造方法的流程图。
[0022]首先,加工而制造用于构成投影光学系统的多个反射镜、透镜等光学部件(S201)。然后,组合加工了的多个
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