一种抗静电聚酯保护膜的制备方法

文档序号:8958919阅读:358来源:国知局
一种抗静电聚酯保护膜的制备方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种聚酯保护膜,尤其涉及一种抗静电聚酯保护膜的制备方法。
【背景技术】
[0002] 在IXD行业,背光模组BLU在生产或运输过程中,其表面极易受到环境中灰尘的污 染或者在剥离保护膜时,由于静电而导致光学器件表面产生污染。因此,电子行业对保护膜 的需求量越来越大,要求也越来越高。
[0003] 目前,国内外IXD行业在不断兴起,各生产厂商的竞争力也不断上升,有的甚至造 成大量货物库存,客户在使用这种经长期放置后的产品时,仍要保证剥离保护膜时,光学元 件表面不会产生任何污染。因此,保护膜与被保护面长期贴合的情况下,不但要求保护膜胶 层无转移、无气泡,保护膜的抗静电性也要具备长期高耐候的效果。保护膜包括基材层和 胶粘层,目前市场上销售的保护膜是通过离线涂布的方式将胶粘层粘结在基材层的表面, 即直接在胶黏剂中添加抗静电剂,基材层放卷,经搅拌均匀后的胶黏剂再涂布于基材上面, 然后对胶层进行烘干,胶黏剂形成胶粘层,再覆上离型膜。此过程中增加了复卷的次数,也 就增加了成本的使用。上述复卷指放卷、收卷。上述的胶黏剂指压敏胶,压敏胶是胶水的总 称,压敏胶又分为多类,比如天然橡胶,合成橡胶、树脂胶水、聚氨酯类胶,亚克力胶、有机硅 类胶等。
[0004] 由于聚氨酯胶系价格略高,所以传统的保护膜厂商使用的胶黏剂多数为硅胶,亚 克力胶系。如大家所知,硅胶和亚克力胶经长期放置后,对保护面易产生污染,例如白雾残 胶。

【发明内容】

[0005] 为了解决现有聚酯保护膜的制备过程中采用离线涂布工艺涂布胶粘层的过程复 杂的缺陷,本发明提供一种抗静电聚酯保护膜的制备方法。该方法采用在线涂布工艺,减少 了复卷次数,既能使用好的聚氨酯胶系,又能降低成本,并且提高生产效率。
[0006] 为了解决上述技术问题,本发明采用以下技术方案:
[0007] 本发明提供一种抗静电聚酯保护膜的制备方法,所述保护膜包括聚酯基材层,压 敏胶层及离型层;所述压敏胶层的一面与聚酯基材层相贴合,所述压敏胶层的另一面与离 型层相贴合,该制备方法中,通过在线涂布工艺将压敏胶层涂布于基材层上;所述压敏胶层 的原料选自聚氨酯胶黏剂。
[0008] 所述的PET基材层为ABA三层结构,在母料中加入抗静电剂,通过共挤制成ABA结 构的PET薄膜,其中A层为掺有抗静电剂的PET薄层,B层为纯的PET薄层。
[0009] 进一步的,所述压敏胶层厚度为3-5 μ m。
[0010] 进一步的,所述的抗静电聚酯保护膜的制备方法中,所述聚酯基材层为ABA三层 结构,所述A层为添加抗静电剂的聚酯薄层,所述B层为纯聚酯层。
[0011] 进一步的,所述聚酯为PET。
[0012] 进一步的,在ABA结构基材中,A层中加入的抗静电剂为聚噻吩类。
[0013] 进一步的,所述的抗静电聚酯保护膜的制备方法中,所述基材层是双向拉伸聚酯 薄膜层。
[0014] 进一步的,上述的抗静电保护膜基材层为耐高温、高透光的双拉聚对苯二甲酸乙 二醇酯(BOPET)薄膜。
[0015] 进一步的,所述的抗静电聚酯保护膜的制备方法中,所述聚氨酯胶黏剂包括主剂 和固化剂。
[0016] 进一步的,所述主剂用量50份,固化剂用量2. 7-3. 4份,所述份数为重量份。
[0017] 进一步的,所述主剂的化学成分是聚氨酯多元醇,或高分子聚酯多元醇。所述固化 剂为含NCO基团的多元醇,或多元胺。
[0018] 进一步的,所述主剂用量50份,固化剂用量2. 1-4. 1份。
[0019] 进一步的,所述聚氨酯胶黏剂是液态原料。
[0020] 进一步的,所述聚氨酯胶黏剂选用的是日本IPPOSA的US1401系列。
[0021] 或者,所述聚氨酯胶黏剂的主剂选用上海丽石贸易公司提供的UA6系列,固化剂 为UA6同系列助剂。或者,所述聚氨酯胶黏剂的主剂选用上海丽石贸易提供的UA5-8系列, 固化剂为UA5-8同系列助剂。或者,所述聚氨酯胶黏剂中,所述主剂为日本TOYO INK生产 的SH-109系列,固化剂为日本TOYO INK生产的T-501B。或者,所述聚氨酯胶黏剂中,所述 主剂为台湾长兴化学生产的7786系列,固化剂为台湾长兴化学生产的EC-92。
[0022] 进一步的,所述主剂为上海丽石贸易提供的UA6系列,用量10份,固化剂用量0.42 份。
[0023] 进一步的,所述聚氨酯胶黏剂的主剂选用上海丽石贸易提供的UA5-8系列,用量 50份,固化剂为UA5-8同系列助剂,用量2. 1份。
[0024] 进一步的,所述聚氨酯胶黏剂中,所述主剂为日本TOYO INK生产的SH-109系列, 用量50份,固化剂为日本TOYO INK生产的T-501B,用量7. 5份。
[0025] 进一步的,所述聚氨酯胶黏剂中,所述主剂为台湾长兴化学生产的7786系列,用 量50份,固化剂为台湾长兴化学生产的EC-92,用量5份。
[0026] 进一步的,所述聚氨酯胶黏剂还包括润湿剂、催化剂。所述主剂为日本Τ0Υ0Β0生 产的SS0700系列,固化剂为德国Bayer生产的N3300,润湿剂为日本Τ0Υ0Β0生产的SS0760, 催化剂为二月桂酸二丁基锡。
[0027] 进一步的,所述聚氨酯胶黏剂还包括润湿剂、催化剂。所述主剂为日本Τ0Υ0Β0生 产的SS0700系列,用量50份,固化剂为德国Bayer生产的N3300,用量4. 1份,润湿剂为日 本Τ0Υ0Β0生产的SS0760,催化剂为二月桂酸二丁基锡。
[0028] 进一步的,所述的抗静电聚酯保护膜的制备方法中,所述基材层的厚度为 38-75 μ m,所述压敏胶层的厚度为3-5 μ m,所述离型层的厚度为38-75 μ m。
[0029] 所述基材层的厚度为38μηι或50μηι或75μηι,所述压敏胶层的厚度为3-5 μ m,所 述离型层的厚度为38 μ m或50 μ m或75 μ m。
[0030] 进一步的,所述的抗静电聚酯保护膜的制备方法中,所述聚氨酯胶黏剂包括主剂 和固化剂,所述聚氨酯胶黏剂在涂布到基材层表面上之前,先加入稀释剂配制成涂布液;所 述主剂与稀释剂的重量比例为1-3:1_5。进一步的,所述主剂与稀释剂的重量比例为1:1。
[0031] 所述主剂与稀释剂的重量比例也称为稀释比。稀释比不同,也就是胶液的固含量 不同,也是直接影响后期胶层的粘着力和对被保护面是否产生污染的主要因素。
[0032] 进一步的,所述聚氨酯压敏胶层粘着力小于2gf/inch(2克力/英寸)。
[0033] 进一步的,所述的抗静电聚酯保护膜的制备方法中,所述聚氨酯胶黏剂在涂 布到基材层表面上之前,先配制成涂布液;所述涂布液中聚氨酯胶黏剂的固含量是 19% -35. 5%。进一步的,所述涂布液中聚氨酯胶黏剂的固含量是26% -28. 5%。
[0034] 进一步的,所述保护膜的外表面与胶层面均具有抗静电性,所述保护膜的外表面 与胶层面的表面阻抗值均小于1011。
[0035] 表面阻抗值越低,抗静电性越好。
[0036] 进一步的,所述的抗静电聚酯保护膜的制备方法中,所述离型层为CD结构,D层为 PET封闭层,C层为有机硅涂层,所述D层通过C层粘附在所述压敏胶层上。
[0037] 进一步的,所述的抗静电聚酯保护膜的制备方法中,通过在线涂布工艺将压敏胶 层涂布于基材层上,再经过纵拉、横拉、烘干等工艺制备抗静电聚酯保护膜。
[0038] 进一步的,上述的抗静电保护膜是通过在线涂布工艺,将压敏胶层涂于PET表面, 再通过纵向拉伸、横向拉伸3倍之后,胶层厚度可达3-5 μπι,覆上离型膜后收卷。分切后达 到了一卷变三卷的效果,大大提高了生产效率,减少复卷次数,降低成本。
[0039] 与现有技术相比,本发明提供的制备方法减少了复卷次数,提高了生产效率,降低 了生产成本。本发明提供的制备方法制得的抗静电聚酯保护膜广泛应用于保护光学元件。
【附图说明】
[0040] 图1为本发明提供的抗静电保护膜的结构示意图。
【具体实施方式】
[0041] 为了更易理解本发明的结构及所能达成的功能特征和优点,下文将本发明的较佳 的实施例,并配合图式做详细说明如下:
[0042] 如图1所示,本发明提供一种抗静电聚酯保护膜的制备方法,所述保护膜包括,基 材层1,压敏胶层2及离型层3 ;所述压敏胶层2的一面与基材层1相贴合,所述压敏胶层2 的另一面与离型层3相贴合。所述基材层1包括ABA三层结构,所述A层为添加抗静电剂 的聚酯薄层,所述B层为纯聚酯层。该制备方法中,通过在线涂布工艺将压敏胶层涂布于基 材层上。
[0043] 本发明实施例中所用基材、抗静电添加剂、压敏胶层、离型膜等材料来源,制备方 法,各材料配比以及所制得保护膜性能检测评价方法,如下所述:
[0044] 1、所述基材为中国长阳科技生产的耐高温、高透光的双拉聚对苯
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