技术总结
本发明涉及用于清洁含有二氧化碳和二氧化硫的气流的气体清洁系统，所述气体清洁系统包括：预调理工段(3)；CO2去除阶段(5)；和后调理工段(4)；所述预调理工段包括相对于所述气体的流向配置在所述CO2去除阶段(5)上游的至少两个气液接触装置(19、20)；且所述后调理工段包括相对于所述气体的流向配置在所述CO2去除阶段下游的至少两个气液接触装置(30、31)。本发明还涉及用于清洁含有二氧化碳和二氧化硫的气流的方法，所述方法包括在二氧化碳去除步骤中通过使所述气流与包含氨的液体接触来从所述气流中至少部分地除去二氧化碳；在所述二氧化碳去除步骤上游的至少两个步骤中使所述气流与液体接触；和在所述二氧化碳去除步骤下游的至少两个步骤中使所述气流与液体接触。
技术研发人员：P.U.科斯
受保护的技术使用者：通用电器技术有限公司
文档号码：201610581196
技术研发日：2010.11.11
技术公布日：2016.12.07