技术总结
本发明公开了一种适用于涂膜表面的真空镀膜设备，设置有上挂预备腔室、紫外固化腔室、等离子辐照腔室、磁控溅射沉积腔室、冷却腔室、下挂取样腔室；上挂预备腔室、紫外固化腔室、等离子辐照腔室、磁控溅射沉积腔室、冷却腔室、下挂取样腔室内设有用于挂架产品台的推送机构；上挂预备腔室、紫外固化腔室、等离子辐照腔室、磁控溅射沉积腔室、冷却腔室、下挂取样腔室之间设置有插板阀；上挂预备腔室、下挂取样腔室与大气连通的一侧采用翻板阀密封。本发明实现了工艺批量生产的连续式真空镀膜设备，在真空镀膜中沉积的金属膜与打底层有良好的结合力，有效提高了产品的质量；可以实现复合装饰涂层产品的连续生产，大大提高了生产效率。
技术研发人员：谢辉;周灵平;杨武霖;朱家俊;符立才;李德意
受保护的技术使用者：湖南省霖辉高新材料科技有限公司;东莞市霖辉金属表面处理材料有限公司
文档号码：201610917079
技术研发日：2016.10.20
技术公布日：2017.03.15