抛光装置的制造方法
【技术领域】
[0001] 本实用新型设及表面处理的技术领域，特别设及一种抛光装置。
【背景技术】
[0002] 随着人们生活水平的不断提高，从而使得人们对工件表面的光洁度提出了更高的 要求，为了迎合人们的需求，一种用于提高工件表面光洁度的抛光工艺受到人们的青睐，该 抛光工艺通过设备喷射系统将橡胶磨粒喷射于需抛光的工件表面，进而使橡胶磨粒撞击磨 擦工件表面W达到抛光的效果。
[0003] 但，由于上述抛光工艺为干式喷射抛光，橡胶磨粒撞击磨擦工件表面将会形成抛 光粉尘，人员误吸入该抛光粉尘将有可能造成人体的伤害。另外，该抛光工艺无降溫设施， 工件发热量较大，从而造成工件的变形。 【实用新型内容】
[0004] 鉴于上述状况，有必要提供一种抛光良率较高且安全系数较佳的抛光装置。
[0005] -种抛光装置，用于将抛光液喷向工件W对该工件进行抛光处理。该抛光装置包 括储液机构、输送机构，及喷液机构，该输送机构连接于该储液机构与该喷液机构之间，W 将该储液机构中的抛光液输送至该喷液机构，该喷液机构用于将该抛光液喷向该工件，该 抛光装置还包括回收器及定位板，该定位板收容于该回收器中并固定连接于该回收器的 周壁上，该定位板用于承载该工件，该定位板上开设有多个漏液孔W利于该抛光液经由该 多个漏液孔流入该回收器中。
[0006] 进一步地，该储液机构包括用于储存该抛光液的储液器及用于对该储液器中的抛 光液进行揽拌的揽拌器，该储液器上设有一盖子，该揽拌器包括装设于该盖子上的揽拌电 机及揽拌杆，该揽拌杆的一自由端贯穿该盖子并伸入该抛光液中，该揽拌电机驱动该揽拌 杆转动W揽拌该抛光液。
[0007] 进一步地，该抛光装置还包括一回流管，该回收器的底部设有一回收孔，该回流管 一端连接于该回收孔，另一端连接于该储液机构的储液器。
[000引进一步地，该输送机构包括高压累、第一输液管，及第二输液管道，该第一输液管 的一端延伸至该储液器的底部，另一端与该高压累连接，W吸取该储液器中的抛光液;该第 二输液管的一端连接于该高压累，另一端连接于该喷液机构，W将该高压累抽取的抛光液 导向该喷液机构。
[0009] 进一步地，该喷液机构还包括机械臂及喷枪，该喷枪连接于该机械臂的末端，该机 械臂控制该喷枪朝向该工件运动。
[0010] 进一步地，该喷枪包括枪体、开设于该枪体上的进液口、进气口及喷口，该进液口、 该进气口及该喷口相互连通，该进液口连接于该输送机构，该输送机构经由该进液口向该 喷枪输送该抛光液，该进气口连接于外界的气源，该喷口与该进气口同轴设置W喷出高压 气体及该抛光液。
[0011] 进一步地，该抛光装置还包括一固定连接于该回收器上的保护罩，该保护罩朝向 该喷液机构的一侧开设有一操作窗口，该喷液机构经由该操作窗口伸入该保护罩内并对该 工件喷射抛光液。
[0012] 上述抛光装置利用抛光液替代了传统的橡胶磨粒，并结合储液机构、输送机构及 喷液机构之间的配合W使该抛光液高速喷向工件，进而实现了工件表面的抛光处理。抛光 液将会带走抛光工艺产生的粉尘，从而降低了环境污染，为工作人员提供良好的工作环境； 同时，抛光液还会带走工件表面过高的热量，W达到对工件降溫的效果，防止出现工件因溫 度过高而变性的可能，进而提高了工件抛光的良率。
【附图说明】
[0013] 图1是本实用新型实施方式的抛光装置的立体示意图。
[0014] 图2是图1所示的抛光装置的另一角度的立体示意图。
[0015] 图3是图2所示抛光装置的定位机构的立体示意图。
[0016] 图4是图3所示定位机构的分解示意图。
[0017] 图5是图2所示抛光装置的储液机构的立体示意图。
[0018] 图6是图5所示储液机构的分解示意图。
[0019] 图7是图2所示抛光装置的喷枪的立体示意图。
[0020] 图8是图7所示的喷枪沿VIII-Vin线的剖视图。
[0021] 主要元件符号说明
[0024] 如下【具体实施方式】将结合上述附图进一步说明本实用新型。
【具体实施方式】
[0025] 下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进 行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部 的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提 下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[00%]需要说明的是，当一个组件被认为是"连接"另一个组件，它可W是直接连接到另 一个组件或者可能同时存在居中设置的组件。当一个组件被认为是"设置在"另一个组件， 它可W是直接设置在另一个组件上或者可能同时存在居中设置的组件。
[0027] 除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领 域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为 了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语"及/或"包括 一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
[0028] 请同时参阅图1与图2,本实用新型实施例提供的一种抛光装置100,用于对工件 (图未示）的表面进行抛光处理。抛光装置100包括底座10、定位机构20、储液机构30、输送机 构40、喷液机构50，及电控箱60。定位机构20、储液机构30、输送机构40、喷液机构50，及电控 箱60分别装设于底座10上。定位机构20用于定位工件，储液机构30用于储存抛光液，输送机 构40用于将储液机构30中的抛光液传送至喷液机构50，喷液机构50用于将抛光液喷射至工 件上W对工件表面进行抛光处理。电控箱60分别电性连接于储液机构30、输送机构40及喷 液机构50, W提供=者的电源并协调=者之间的动作指令。
[0029] 请同时参阅图3与图4,定位机构20包括定位支架21、回收器22、定位板23,及保护 罩24。定位支架21固定设置于底座10上，回收器22装设于定位支架21上，定位板23收容于回 收器22中，并固定连接于回收器22的周壁上，工件可定位于定位板23上。定位板23上开设 有多个漏液孔231W利抛光液经由漏液孔231回流入回收器22中。回收器22背离底座10的一 侧设有一开口221，保护罩24固定连接于回收器22并罩设于开口221;