使用编码孔径的反射式阴影掩模对准的利记博彩app
【专利说明】
[0001] 相关申请的交叉引用
[0002] 本申请要求2013年8月22日提交的美国申请No. 13/973,328的优先权，该美国申请 No. 13/973,328为2012年10月31日提交的美国申请No. 13/695,488的部分继续申请，该美国 申请No. 13/695,488为2011年5月23日提交的国际申请No.PCT/US2011/037501的美国国家 阶段申请，该国际申请No. PCT/US2011/037501要求2010年6月4日提交的美国临时申请 No. 61/351,470的优先权。运些文件中每一个文件的公开内容均通过引用方式全部并入本 文。
技术领域
[0003] 本发明设及与气相沉积系统中在衬底上沉积材料相关的阴影掩模与衬底的精确 对准。
【背景技术】
[0004] 汽相沉积系统中阴影掩模与衬底的精确对准是在衬底上精确沉积一种或多种材 料的关键。遗憾的是，大多数气相沉积系统包括发生一个或多个气相沉积事件的封闭式真 空沉积容器，并且难W手动地将阴影掩模与衬底进行高精确度的对准。此外，当在衬底上汽 相沉积材料时，特别是当使用多种不同阴影掩模对衬底进行多次汽相沉积时，现有的用于 将阴影掩模与衬底对准的自动和半自动的系统不具备所需的对准精度来提供所期望的精 确度。
[0005] 因此，有必要提供一种阴影掩模与衬底对准的方法和系统，使得可W利用一个或 多个阴影掩模W高精度及可重复方式将一种或多种材料汽相沉积在衬底上。
【发明内容】
[0006] 本文公开了一种阴影掩模-衬底对准的方法，包括：（a)将准直光源、分束器、包括 第一格栅的衬底、包括第二格栅的阴影掩模W及光接收器相对于彼此进行定位，W限定包 括由所述准直光源输出的被所述分束器至少部分地反射的准直光的光路，所述至少部分地 反射的准直光通过所述第一格栅或所述第二格栅中的一者并且被所述第一格栅或所述第 二格栅中的另一者至少部分地反射而返回通过所述第一格栅或所述第二格栅中的所述一 者，并且被反射而返回通过所述第一格栅或所述第二格栅中的所述一者的至少部分地反射 的光至少部分地通过所述分束器W被所述光接收器接收；W及(b)使所述衬底、所述阴影掩 模或运两者的定向得到调整W定位所述第一格栅、所述第二格栅或者所述第一格栅和所述 第二格栅运两者，直到所述光接收器接收到预定量为止。
[0007] 各个格栅可W包括多个间隔直条。间隙可W将各对间隔直条间隔开。各个直条和 各个间隙可W具有相同的宽度。
[0008] 各个格栅可W包括多个间隔直条和将各对间隔直条间隔开的间隙。步骤(b)可W 包括使所述衬底、所述阴影掩模或者运两者的定向得到调整，W将所述第一格栅的直条的 长轴定位成平行于所述第二格栅的直条的长轴且将所述第一格栅的直条和所述第二格栅 的直条定位成分别与所述第二格栅的间隙和所述第一格栅的间隙部分地重叠。
[0009] 所述第一格栅的直条和所述第二格栅的直条可W分别与所述第二格栅的间隙和 所述第一格栅的间隙部分地重叠50%。
[0010] 所述准直光源可W包括:LED; W及准直透镜，其能用于将所述L邸输出的光准直。
[0011] 所述光接收器可W包括:PIN二极管；W及聚焦透镜，其能用于将从所述分束器接 收到的光聚焦到所述PIN二极管上。
[0012] 各个直条的纵轴线可W相对于对应的衬底或阴影掩模的中央轴线径向地延伸± 15度。
[0013] 本文还公开了一种阴影掩模-衬底对准的方法，包括：（a)提供具有呈一图案的多 个第一格栅的第一衬底，其中，各个第一格栅包括多个间隔直条和位于各对间隔直条之间 的间隙；（b)提供具有呈与所述多个第一格栅相同的图案的多组间隔反射表面的第二衬底， 其中，各组所述间隔反射表面包括一对间隔反射表面；（C)限定多个光路，其中，各个光路包 括:光源和光接收器，它们位于所述光路的相反两端；W及分束器，其在所述光路中位于所 述光源与所述光接收器之间；（d)在各个光路中将一个第一格栅定位成与一组间隔反射表 面粗略对准；W及(e)在各个光路上的光被反射通过所述分束器，在所述光路中被至少一个 所述间隔反射表面反射并且在所述光路中二次通过所述第一格栅中的至少一个间隙之后， 所述光被所述光路的所述光接收器接收，此时将所述第一衬底、所述第二衬底或运两者精 细定位。
[0014] 各组间隔反射表面可W由第二格栅组成，所述第二格栅包括多个间隔直条和位于 各对间隔直条之间的间隙。所述第二格栅的各个直条可W限定一个反射表面。所述第二格 栅的各个间隙可W限定所述第二衬底的具有比各个反射表面的反射率低的反射率的结构。
[0015] 各个光接收器可W输出信号，所述信号的电平与所述光接收器接收到的光量相 关。步骤(e)可W包括将所述第一衬底、所述第二衬底或运两者精细定位，直到由所述光接 收器输出的信号电平的组合等于预定值或落在预定值范围内。所述预定值可W为零。
[0016] 所述第一衬底和所述第二衬底可W均具有矩形形状或正方形形状。所述第一衬底 可W具有与各个角相邻的一个第一格栅。所述第二衬底可W具有与各个角相邻的一组间隔 反射表面。
[0017] 本文还公开了一种阴影掩模-衬底对准的方法，包括：（a)提供具有呈一图案的多 个第一格栅的衬底；（b)提供具有呈与所述多个第一格栅相同的图案的多个第二格栅的阴 影掩模，其中，各个格栅包括多个间隔直条和位于各对间隔直条之间的间隙；（C)限定多个 光路，其中，各个光路包括光源、光接收器和分束器；（d)在各个光路中将一个第一格栅定位 成与一个第二格栅粗略对准；W及(e)将所述衬底、所述阴影掩模或运两者精细定位，直到 在下述事件发生之后所述光路的所述光接收器接收到所述光路上的预定光量为止：由所述 光路的所述光源输出的各个光路上的光被所述光路的所述分束器反射，在所述光路中首次 通过所述第一格栅和所述第二格栅中的一者的至少一个间隙，在所述光路中被所述第一格 栅和所述第二格栅中的另一者的至少一个直条反射，在所述光路中返回而二次通过所述第 一格栅和所述第二格栅中的所述一者的所述至少一个间隙，然后通过所述光路的所述分束 器W被所述光路的所述光接收器接收。
[0018] 各个直条和各个间隙可W具有相同的宽度。
[0019] 步骤(e)可W包括将所述衬底、所述阴影掩模或运两者精细定位，直到所述第一格 栅的直条和所述第二格栅的直条分别与所述第二格栅的间隙和所述第一格栅的间隙部分 地重叠为止。
[0020] 所述第一格栅的直条和所述第二格栅的直条可W分别与所述第二格栅的间隙和 所述第一格栅的间隙部分地重叠50%。
[0021] 各个光接收器可W输出信号，所述信号的电平与所述光接收器接收到的光量相 关。步骤(e)可W包括将所述衬底、所述阴影掩模或运两者精细定位，直到多个所述光接收 器输出的信号电平的组合等于预定值或落在预定值范围内。所述预定值可W为零。
[0022] 所述衬底和所述阴影掩模可W均具有矩形形状或正方形形状，一个格栅与所述矩 形形状或正方形形状的各个角相邻。各个直条的纵轴线可W相对于对应的衬底或阴影掩模 的中央轴线径向地延伸±15度。
【附图说明】
[0023] 图1A为阴影掩模沉积系统的示意图，该阴影掩模沉积系统用于形成高分辨率0LED 有源矩阵底板的像素结构；
[0024] 图1B为图1A的阴影掩模沉积系统的单个沉积真空容器的放大视图；
[0025] 图2为第一示例性阴影掩模对准系统的示意图；
[0026] 图3A和图3B分别为示例性衬底和阴影掩模的俯视图，衬底和阴影掩模均包括许多 对准格栅，W便于将阴影掩模相对于衬底进行定向和定位，或者反之亦然；
[0027] 图4为沿着图2的线IV-IV截取的视图；
[0028] 图5为沿着图2的线V-V截取的视图；
[0029] 图6为第二示例性阴影掩模对准系统的示意图；
[0030] 图7为沿着图6的线VI-VI截取的视图；W及
[0031] 图8为沿着图6的线VII-VII截取的视图。
【具体实施方式】
[0032] 参照图1A和图1B，用于形成电子设备(例如，但不局限于，高分辨率有源矩阵有机 发光二极管(0LED)显示器）的阴影掩模沉积系统2包括多个串联排列的沉积真空容器4(例 如，沉积真空容器4a至4x)。沉积真空容器4的数量和排列取决于用来形成的任一指定产品 所需的沉积事件的数量。
[0033] 在阴影掩模沉积系统2的一个示例性的非限制性应用中，连续的柔性衬底6利用卷 轴间机构（其包括分配卷轴8和收取卷轴10)平移通过运些串联排列的沉积真空容器4。或 者，衬底6可W是单独的(相对于连续的而言)衬底，该衬底借助本技术领域中已知的任何合 适的方法，平移通过连续排列的沉积真空容器4。在下文中，出于描述本发明的目的，将假设 衬底6为单独的衬底。
[0034] 每个沉积真空容器包括沉积源12、衬底支撑物14、阴影掩模对准系统15W及阴影 掩模16。例如，沉积真空容器4a包括沉积源12a、衬底支撑物14a、掩模对准系统15aW及阴影 掩模16a;沉积真空容器4b包括沉积源12b、衬底支撑物14b、掩模对准系统15bW及阴影掩模 16b，对于任何数量的沉积真空容器4W此类推。
[0035] 每个沉积源12装载有所需的材料，该材料将要在沉积事件过程中通过对应的阴影 掩模16(其在对应沉积真空容器4中与衬底6的一部分保持紧密接触）中的一个或多个开口 沉积到衬底6上。阴影掩模16可W是常规的单层阴影掩模或者是在授予Brody(布罗迪)的美 国专利No. 7，638，417中公开的类型的复合(多层）阴影掩模，美国专利No. 7，638，417通过引 用方式并入本文。
[0036] 阴影掩模沉积系统2的每个阴影掩模16包括一个或多个开口。位于各个阴影掩模 16中的一个或多个开口对应于所需图案，该图案是衬底6平移通过阴影掩模沉积系统2时在 对应沉积真空容器4中