一种高耐热光刻胶组合物及其使用工艺的利记博彩app
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种含有临羟基苯甲醛线性酚醛树脂正性光刻胶，以及将该光刻胶用 于光刻的工艺，属于图纹面的照相制版工艺领域。
【背景技术】
[0002] 光刻胶是电子工业进行光刻过程的常用功能性材料，光刻胶的化学及物理性质直 接影响光刻胶在大规模集成电路中的使用效果。根据使用工艺的不同，光刻胶分为正性光 刻胶与负性光刻胶两类，其中，正性光刻胶的作用机理是在光刻过程中，光刻胶薄膜上图形 曝光的部分被显影液洗去后，未曝光的部分留下形成图形。与正性光刻胶配合使用的光源 有多种，其中紫外光的活性衰减最小，因而将紫外光照射在正性光刻胶表面时，光线可到达 光刻胶的较深部位，从而使光刻的图案线条均匀、清晰，因此紫外正性光刻胶的使用更为广 泛。
[0003] 目前，用于制造电子器件的正性光刻胶基本以树脂体系为主。胶膜的耐热温度为 135~140度，当坚膜的温度更高，或者其他更高温度的工艺要求时，就会导致就会导致图形 变形失真。
【发明内容】
[0004] 本发明所要解决的技术问题是光刻胶在较高的烘烤温度条件下，出现图形变形失 真的问题;进而提出一种使用含有临羟基苯甲醛线性酚醛树脂的紫外正性光刻胶。
[0005] 为解决上述技术问题，本发明提供了一种含有临羟基苯甲醛线性酚醛树脂的紫外 正性光刻胶，以重量百分数计，由如下组分组成，
[0006]
[0007] 所述重氮类感光剂为通式(1)和(2)化合物中的一种或几种的混合物，
[0008] 通式（1)
[0009]
[0010]
[0011]
[0012]
[0013] 上述通式（1)和(2)中，A为硫原子或氧原子，和R4中至多有一个为氢原子， R6、R7和Rs中至多有一个为氢原子，R5为碳原子数1-5的烷基，其余为(I)或(II)结构；
[00141 m
[001 y
[001
[0017 ]所述酚醛树脂为线性酚醛树脂。
[0018]所述线性酚醛树脂为下列通式(3)结构，
[0019] 通式⑶
[0020]
[0021]上述通式(3)中，R9为含有不多于10个碳原子的任意基团，η为自然数。
[0022] 所述线性酚醛树脂的分子量为2000-30000。
[0023] 所述表面活性剂为下列通式(4)和(5)化合物中的一种或几种的混合物，
[0024] 通式⑷
[0025]
[0026] 通式(5)
[0027]
[0028] 上述通式(4)和（5)中，R1Q、Rn、R12和R13为氢、氨基、甲基、乙基、丙基、甲氧基、乙氧 基、二甲氨基或季铵碱基，k为2-10范围内的整数，m为4-10范围内的整数。
[0029] 所述黏附促进剂为三嗪类含氮杂环化合物、通式(6)和(7)化合物中一种或几种的 混合物，
[0030] 通式(6)
[0031]
[0032] 通式(7)
[0033]
[0034]
[0035] 上述通式（6)和（7)中，R14、Ri5、Ri6为氢原子、碳原子数1-5的烷基、氨基或者乙醇 基，Rn为碳原子数1-5的烷基或者氨基。
[0036] 所述三嗪类含氮杂环化合物为以下结构，
[0037]
[0038]其中，R18、R19、R2Q为碳原子数2-6的烷基、碳原子数2-6的烷氧基或者氨基。
[0039]所述溶剂为丙二醇单甲醚乙酸酯、乳酸乙酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、环己酮、丙二醇 单甲醚、乙酰丙酮、N-甲基吡咯烷酮、二乙二醇单甲醚和二乙二醇二甲醚中的一种或几种的 混合物。
[0040] 所述溶剂为丙二醇单甲醚乙酸酯。
[0041] 在此基础上，还进一步提出了所述紫外正性光刻胶的光刻工艺，包括如下步骤，
[0042] (1)将紫外正性光刻胶均匀涂布在基板上，并蒸干光刻胶内的溶剂；
[0043] (2)对基板表面进行曝光，曝光后用四甲基氢氧化铵、NaOH或Κ0Η溶液显影；
[0044] (3)将显影后的所述基板烘干后进行刻蚀；
[0045] (4)用去胶液去除所述基板上残留的光刻胶即可。
[0046] 本发明与现有技术方案相比具有以下有益效果：
[0047] (1)本发明所述含有临羟基苯甲醛线性酚醛树脂的紫外正性光刻胶，以重量百分 数计，由如下组分组成，重氮类感光剂2-40%、酚醛树脂8-50%、表面活性剂0-2%、黏附促 进剂0-10%和溶剂40-90%;并且给出了临羟基苯甲醛线性酚醛树脂的结构。上述光刻胶组 合物中含有临羟基苯甲醛线性酚醛树脂，具有很高的耐热性，耐热温度根据分子量的大小 可以达到140到200度。本发明所述含有临羟基苯甲醛线性酚醛树脂的紫外正性光刻胶，使 用的表面活性剂为硅氧烷系化合物。该化合物可强烈降低紫外正性光刻胶的表面张力，以 消除涂布中产生的条纹，使所涂布的光刻胶膜表面均匀、平整。
[0048] (2)本发明所述含有临羟基苯甲醛线性酚醛树脂的紫外正性光刻胶，所使用的黏 附促进剂可提高紫外正性光刻胶在金属、二氧化硅和氧化铟锡等基板表面的黏附性，促使 光刻胶膜与基板表面紧密贴合，在后续曝光、显影等处理中不易脱落。
[0049] (3)本发明所述含有临羟基苯甲醛线性酚醛树脂的紫外正性光刻胶，所使用的溶 剂能够较好地溶解酚醛树脂，并且由于溶剂的闪点大于40度、沸点高于120度，安全性很高。
【具体实施方式】
[0050] 实施例1
[0051 ]将22g重氮类感光剂、100g线性酚醛树脂、0.0 lg表面活性剂、5g六甲氧基甲基均三 嗪和200g丙二醇单甲醚乙酸酯混合得到光刻胶1。
[0052]本实施例中的重氮类感光剂的结构如下，
[0053]
,
[0054]
[0055] 其中，A为氧原子，Ri为氢原子，R2、R3和R4为以下结构，
[0056]
[0057] 本实施例中线性酚醛树脂的结构如下，
[0058]
[0059] 其中，R9为丙基，η为50;
[0060] 本实施例中表面活性剂的结构如下，
[0061]
[0062] 实施例2
[0063] 将22g的重氮类感光剂、100g线性酚醛树脂、O.lg表面活性剂、5g的六甲氧基甲基 均三嗪黏附促进剂和200g丙二醇单甲醚乙酸酯混合得到光刻胶2。
[0064] 本实施例中的重氮类感光剂的结构如下，
[0065]
[0066]
[0067] 其中，A为硫原子，R2为氢原子，Rl、R3和R4为以下结构，
[0068]