方法的原理是利用高能量的激光照射消融材料层并与其发生反应，主要是高能量使高分子键断裂，氧化成有机小分子，形成H2O或0)2等，使消融材料层迅速气化，以使位于消融材料层上的电铸层、脱模剂层与金属基板分离。
[0047]需要说明的是，还可以通过其他方法去除消融材料层，例如，采用等离子蚀刻方法去除消融材料层，利用等离子气流使消融材料层的高分子链断裂形成小分子，以去除消融材料层，又如，采用碱液浸泡，以去除消融材料层。
[0048]S160、通过脱模工序，使位于所述开口内的所述电铸层与所述金属基板分离，得到所述掩膜板。
[0049]具体的，通过热胀冷缩脱模法，即利用金属基板100与电铸层400的热胀系数不同，使具有通孔410的电铸层400与金属基板100分离，得到掩膜板500，通孔410形成掩膜板500的蒸镀孔510，其完成后的截面示意图请参阅图2G，结构示意图请参阅图4。例如，采用烘箱、喷灯、热油等加热的方法，在金属基板和电铸层因热胀程度不同的情况下松动后，将电铸层与金属基板分离。
[0050]由于通过曝光显影后，消融材料层形成的开口的截面为上宽下窄的梯形，S卩，喇叭状结构，在开口内形成的电铸层，由于以消融材料层为模板，因此，也会形成喇叭状结构，即，请参阅图4，得到的掩膜板的蒸镀孔的边缘线为喇叭状结构，这样，可以避免蒸镀时蒸镀孔对蒸镀材料的遮挡，提高蒸镀良率。
[0051]需要说明的是，当金属基板的材料与电铸层的材料不相同时，S卩，金属基板的热胀系数与电铸层的热胀系数不同时，步骤S130也可省略。
[0052]S170、将所述掩膜板固定在掩模框架上。
[0053]具体地，将掩膜板500与掩模框架600进行绑定，使其形成一整体，其完成后的截面示意图请参阅图2H。由于掩膜板的厚度较小，重量较轻，通过将掩膜板500固定在掩模框架600上，可以增加掩膜板的稳定性。
[0054]上述掩膜板的利记博彩app的原理为:利用对消融材料层200进行曝光显影，得到具有开口 210的图形，再利用电铸工艺在开口 210处形成电铸层400，然后，通过去除消融材料层200，使位于消融材料层200上的电铸层400与金属基板100分离，而保留开口 210处的电铸层400，使电铸层形成通孔410，再通过脱模工序，使开口 210处的电铸层400与金属基板100分离，具有通孔410的电铸层400即形成掩膜板500，通孔410即形成掩膜板500的蒸镀孔510。
[0055]与现有技术相比，上述掩膜板，由于无需采用刻蚀技术，生产工艺简单，生产成本较低，而且可以使得到的掩膜板精密度较高，从而可以使其满足高像素显示屏的要求。
[0056]而且，通过对曝光的控制，使得到的掩膜板的蒸镀孔的边缘线具有喇叭状的结构，可以避免蒸镀时蒸镀孔对蒸镀材料的遮挡，进一步提高掩膜板的精度。
[0057]下面结合具体实施例对本发明做进一步说明。
[0058]S101、在衬底上沉积金属层。
[0059]具体地，在干净的衬底上，例如玻璃基板、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等，通过溅射形成金属层，金属层的材料为铬、钼铝钼、不锈钢或因瓦合金等，金属层的厚度为I?2微米。
[0060]S102、在金属层远离衬底的表面形成光敏性聚酰亚胺(PI)层。
[0061]具体地，在金属层远离衬底的表面通过喷涂形成光敏性聚酰亚胺层。在本实施例中，光敏性聚酰亚胺层的厚度为10?15微米。
[0062]S102、对光敏性聚酰亚胺层进行曝光、显影，以在光敏性聚酰亚胺上形成具有开口的图形区域，并使其露出开口处的金属层。
[0063]具体地，通过使用具有预定图案的掩膜板，对光敏性聚酰亚胺层进行曝光、显影，以使光敏性聚酰亚胺层上形成具有开口的图形区域，并使其露出开口处的金属层。例如，通过形成有预定图案的掩膜板对光敏性聚酰亚胺层进行曝光，通过将曝光的光敏性聚酰亚胺层浸泡到显影液中，对浸泡过的光敏性聚酰亚胺层进行显影，使得到具有开口的图形。
[0064]具体的，根据蒸镀所需的蒸镀孔设计预定图案，例如，光敏性聚酰亚胺为正性光学胶，曝光光源从光敏性聚酰亚胺层一侧照射，并将蒸镀孔对应的位置进行遮蔽，其他位置进行曝光，显影后，保留未曝光区的光敏性聚酰亚胺，使得到的光敏性聚酰亚胺在曝光区具有开口，且两个开口之间的距离等于蒸镀所需的蒸镀孔的尺寸，开口的横截面为上宽下窄的梯形。
[0065]S103、在开口内形成脱模剂层。
[0066]具体的，采用溅射的方法，在开口内沉积一层0.5?1.0微米厚的石墨粉、铬酸盐、硫化物或铅锡合金，即得到脱模剂层。
[0067]S104、通过电铸工艺在脱模剂层上形成因瓦合金层，因瓦合金层与脱模剂层的厚度之和小于光敏性聚酰亚胺的厚度。
[0068]具体的，将金属层连接负极，将电铸材料因瓦合金作为正极，将含有电铸金属离子的溶液如硫酸镍、氯化镍、与硫酸亚铁等盐溶液作为媒介，通以直流电，经电解反应在金属基板上于脱模剂层上形成6?10微米厚的因瓦合金层。
[0069]S105、去除金属基板上的光敏性聚酰亚胺层，得到具有因瓦合金层的金属基板。
[0070]具体的，采用CO2红外激光或UV紫外激光烧蚀的方法去除光敏性聚酰亚胺层，使位于光敏性聚酰亚胺层上的因瓦合金层及脱模剂层与位于开口内的因瓦合金层及脱模剂层分离，得到具有因瓦材料层的金属基板，且因瓦材料层在光敏性聚酰亚胺未被显影区域形成通孔。
[0071]S106、通过热胀脱模法，使位于开口内的因瓦材料层与金属基板分离，得到所述掩膜板。
[0072]具体的，采用烘箱、喷灯、热油等加热的方法，在金属基板和电铸层因热胀程度不同的情况下松动后，将金属基板与电铸层分离。
[0073]S107、将掩膜板固定在掩模框架上。
[0074]上述掩膜板，由于无需采用刻蚀技术，生产工艺简单，生产成本较低，而且可以使得到的掩膜板精密度较高，从而可以使其满足高像素显示屏的要求。
[0075]以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
[0076]以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
【主权项】
1.一种掩膜板的利记博彩app，其特征在于，包括如下步骤: 在金属基板上形成消融材料层； 对所述消融材料层远离所述金属基板的表面进行曝光、显影，以在所述消融材料层形成具有开口的图形区域； 通过电铸工艺在所述开口内形成电铸层； 去除所述金属基板上的所述消融材料层，得到具有所述电铸层的所述金属基板； 通过脱模工序，使位于所述开口内的所述电铸层与所述金属基板分离，得到所述掩膜板。2.根据权利要求1所述的利记博彩app，其特征在于，在形成所述电铸层之前，还包括在所述开口内形成脱模剂层，所述电铸层形成于所述脱模剂层远离所述金属基板的表面。3.根据权利要求2所述的利记博彩app，其特征在于，所述电铸层与所述脱模剂层的厚度之和小于所述消融材料层的厚度。4.根据权利要求1所述的利记博彩app，其特征在于，所述开口的横截面为梯形。5.根据权利要求1所述的利记博彩app，其特征在于，所述消融材料层为光敏性聚酰亚胺。6.根据权利要求5所述的利记博彩app，其特征在于，采用激光烧蚀方法去除所述消融材料层。7.根据权利要求1所述的利记博彩app，其特征在于，所述金属基板包括衬底及沉积形成于所述衬底的金属层，所述金属层的厚度为I?2微米。8.根据权利要求1所述的利记博彩app，其特征在于，所述电铸层的材料为纯镍或镍铁合金。9.根据权利要求2所述的利记博彩app，其特征在于，所述脱模剂层的材料为石墨粉、铬酸盐、硫化物及铅锡合金。10.根据权利要求9所述的利记博彩app，其特征在于，所述脱模剂层的厚度为0.5?I微米。
【专利摘要】一种掩膜板的利记博彩app，包括如下步骤：在金属基板上形成消融材料层；对所述消融材料层远离所述金属基板的表面进行曝光、显影，以在所述消融材料层形成具有开口的图形区域；通过电铸工艺在所述开口内形成电铸层；去除所述金属基板上的所述消融材料层，得到具有所述电铸层的所述金属基板；通过脱模工序，使位于所述开口内的所述电铸层与所述金属基板分离，得到所述掩膜板。上述掩膜板，由于无需采用刻蚀技术，生产工艺简单，生产成本较低，而且可以使得到的掩膜板精密度较高，从而可以使其满足高像素显示屏的要求。
【IPC分类】C23C14/04
【公开号】CN105177496
【申请号】
【发明人】周扬川, 柯贤军, 吴俊雄, 任晓光, 冉应刚, 雷淇淋, 苏君海, 李建华
【申请人】信利（惠州）智能显示有限公司
【公开日】2015年12月23日
【申请日】2015年9月25日