.2、防护材料的顶层区域；17.3、中间层区域；18、第二吸收层；19、保护层；20、密着层；21、改善层。
【具体实施方式】
[0022]参照图1，本光辐射阻隔薄膜，由透明基膜I以及附着于其上的反射层2构成，其特征是:所述反射层2由反射材料的底层区域2.1、防护材料的顶层区域2.2以及所述反射材料和所述防护材料混合在一起的中间层区域2.3组成，所述底层区域2.1采用Ag、Ag合金、Au、Au合金或Ti的反射材料，所述顶层区域2.2采用NiCr或Ti的防护材料，所述底层区域2.1、中间层区域2.3和顶层区域2.2均是在同一个真空溅镀室内依次连续成型，所述反射层2的总厚度控制在5-50nm、所述中间层区域2.3的厚度控制在0.5_15nm。
[0023]参照图2，本光辐射阻隔薄膜，由透明基膜3以及依次附着于其上的第一吸收层
4、反射层5、第二吸收层6、保护层7构成，其特征是:所述反射层5由反射材料的底层区域
5.1、防护材料的顶层区域5.2以及所述反射材料和所述防护材料混合在一起的中间层区域5.3组成，所述底层区域5.1采用Ag、Ag合金、Au、Au合金或Ti的反射材料，所述顶层区域5.2采用NiCr或Ti的防护材料，所述底层区域5.1、中间层区域5.3和顶层区域5.2均是在同一个真空溅镀室内依次连续成型，反射层5的总厚度控制在5-50nm、所述中间层区域5.3的厚度控制在0.5-15nm0
[0024]参照图3，本光辐射阻隔薄膜，由透明基膜8以及依次附着于其上的第一吸收层9、第一反射层10、第二吸收层11、第二反射层12、第三吸收层13、保护层14构成，其特征是:所述第一反射层10由反射材料的第一底层区域10.1、防护材料的第一顶层区域10.2和所述反射材料和所述防护材料混合在一起的第一中间层区域10.3组成，第二反射层12由反射材料的第二底层区域12.1、防护材料的第二顶层区域12.2和所述反射材料和所述防护材料混合在一起的第二中间层区域12.3组成，所述第一底层区域10.1和第二底层区域12.1均采用Ag层、Ag合金层、Au层、Au合金层或Ti合金层的反射材料，所述第一顶层区域
10.2和第二顶层区域12.2均采用NiCr层或Ti层的防护材料，所述第一底层区域10.1、第一中间层区域10.3和第一顶层区域10.2是在同一个真空溅镀室内依次连续成型，所述第一反射层10的总厚度控制在5-50nm、所述第一中间层区域10.3的厚度控制在0.5_15nm，所述第二底层区域12.1、第二中间层区域12.3和第二顶层区域12.2是在另一个真空溅镀室内依次连续成型的，所述第二反射层12的总厚度控制在5-50nm、所述第二中间层区域12.3的厚度控制在0.5-15nm0
[0025]参照图4，本光辐射阻隔薄膜，由透明基膜15以及依次附着于其上的第一吸收层
16、反射层17、第二吸收层18、保护层19构成，其特征是:所述反射层17由反射材料的底层区域17.1、防护材料的顶层区域17.2以及所述反射材料和所述防护材料混合在一起的中间层区域17.3组成，所述底层区域17.1采用Ag、Ag合金、Au、Au合金或Ti的反射材料，所述顶层区域17.2采用NiCr或Ti的防护材料，所述底层区域17.1、中间层区域17.3和顶层区域17.2均是在同一个真空溅镀室内依次连续成型，反射层17的总厚度控制在5-50nm、所述中间层区域17.3的厚度控制在0.5-15nm，所述透明基膜15和所述第一吸收层14之间还设有改善附着性能的密着层20，所述密着层20的材料采用SiNxS S1xNy，所述第一吸收层16和所述反射层17之间还设有用于改善吸收层的透射特性的改善层21，所述改善层21的材料采用ZnO、AZO或IT0。
【主权项】
1.一种光辐射阻隔薄膜，由透明基膜以及附着于其上的反射层，其特征是:所述反射层由反射材料的底层区域、防护材料的顶层区域以及所述反射材料和所述防护材料混合在一起的中间层区域组成，所述底层区域采用Ag、Ag合金、Au、Au合金或Ti的反射材料，所述顶层区域采用NiCr或Ti的防护材料，所述底层区域、中间层区域和顶层区域均是在同一个真空溅镀室内依次连续成型，所述反射层的总厚度控制在5-50nm、所述中间层区域的厚度控制在0.5-15nm。2.按权利要求1所述的光辐射阻隔薄膜，其特征是所述透明基膜与所述反射层之间设有第一吸收层，所述反射层顶面依次设有第二吸收层和保护层。3.按权利要求2所述的光辐射阻隔薄膜，其特征是所述第二吸收层和所述保护层之间还依次设有另外的一个以上的反射层并间以一个以上的吸收层，另外的反射层的材质和结构与所述反射层相同，另外的吸收层的材质与所述吸收层相同。4.按权利要求1或2所述的光辐射阻隔薄膜，其特征是所述反射层的厚度取10-35nm。5.按权利要求1或2所述的光辐射阻隔薄膜，其特征是所述反射层的中间层区域的较佳厚度可以取0.5-10nmo6.按权利要求2所述的光辐射阻隔薄膜，其特征是所述第一吸收层或第二吸收层的材料可以采用 ZnO、AZO、SnOx、Nb2Ox' T1x、TiNx、T1xNy、SiNx或 S1 xNy。7.按权利要求2所述的光辐射阻隔薄膜，其特征是所述保护层的材料采用SnOx、S12,SiNx或 S1xNy08.按权利要求2所述的光辐射阻隔薄膜，其特征是所述透明基膜和所述第一吸收层之间还设有改善附着性能的密着层，所述密着层的材料采用S13J^ S1 xNy。9.按权利要求2所述的光辐射阻隔薄膜，其特征是所述透明基膜和所述第一吸收层和所述反射层之间还设有用于改善吸收层的透射特性的改善层，所述改善层的材料采用ZnO、AZO 或 ITO0
【专利摘要】一种光辐射阻隔薄膜。本发明为了解决现有同类光辐射阻隔薄膜存在复合金属层的二个不同材质金属层结合能力较差，容易脱层，不耐用，当被弯曲或受热膨胀时容易发生层间损坏的缺陷。技术方案要点：由透明基膜以及附着于其上的反射层构成，特征是所述反射层由反射材料的底层区域、防护材料的顶层区域以及所述反射材料和所述防护材料混合在一起的中间层区域组成，所述底层区域采用Ag、Ag合金、Au、Au合金或Ti的反射材料，所述顶层区域采用NiCr或Ti的防护材料，所述底层区域、中间层区域和顶层区域均是在同一个真空溅镀室内依次连续成型，所述反射层的总厚度控制在5-50nm、所述中间层区域的厚度控制在0.5-15nm。
【IPC分类】B32B27/00, B32B15/04, B32B23/00
【公开号】CN105172261
【申请号】
【发明人】杜成城, 尹瑞堂
【申请人】汕头万顺包装材料股份有限公司
【公开日】2015年12月23日
【申请日】2015年9月6日