光灯为UVL邸灯，照射功率控制在50W，选择波长为 350皿;全氣締控、氧气和第S单体的质量比为100 :100 :1。 阳126] (B)在含酷氣端基产物中加入去离子水进行水解，保持水解的持续进行，分离去除 水解产物中的气体和水后，得到一端带簇酸酸性基团的含氣低聚合物。含酷氣端基产物水 解、分离后，获得一端带簇酸酸性基团的含氣低聚合物，其中，去离子水与含酷氣端基产物 的质量比控制在1.5:1。 阳127] (C)步骤B中获得的含氣低聚合物经成盐配置后，制得含氣表面活性剂成品，成盐 配置包括： C. 1 :对步骤B制得的一端带簇酸酸性基团的含氣低聚合物进行水洗和油水分离后，获 得含氣聚酸簇酸半成品； C. 2 :对含氣聚酸簇酸半成品进行精制，包括预热和脱低的过程，获得含氣聚酸簇酸成 品，预热溫度控制在220°C，脱低后含氣聚酸簇酸成品的分子量控制在300 ; C. 3 :对含氣聚酸簇酸成品中和后，制得含氣聚酸表面活性剂成品，中和是在含氣聚酸 簇酸成品中加入碱性无机盐和去离子水的过程，其中，含氣聚酸簇酸成品、碱性无机盐、去 离子水的质量比为30 :10 :30,碱性无机盐可选用钢盐和钟盐组成的混合物，其中，钢盐与 钟盐的质量比为1 :1。 阳12引实施例29: 本实施例是用于实施例9的不含全氣辛酸的含氣表面活性剂的制备方法，该制备方法 为连续化生产过程，包括W下步骤： (A)全氣締控、氧气和第S单体巧日氯乙烘）组成的混合物料在16°C的溫度和0. 4Mpa 的压力下连续进料，在紫外光照射下完成光氧化反应，保持混合物料的持续进料和紫外光 的持续照射，经气液分离回收反应产物中的全氣締控后，得到含酷氣端基产物，其中，混合 物料的进料速度控制在80L/H ;紫外光灯为UVL邸灯，照射功率控制在60W，选择波长为 400皿;全氣締控、氧气和第S单体的质量比为1 :1 :1。
[0129] (B)在含酷氣端基产物中加入去离子水进行水解，保持水解的持续进行，分离去除 水解产物中的气体和水后，得到一端带簇酸酸性基团的含氣低聚合物。含酷氣端基产物水 解、分离后，获得一端带簇酸酸性基团的含氣低聚合物，其中，去离子水与含酷氣端基产物 的质量比控制在2:1。
[0130] (C)步骤B中获得的含氣低聚合物经成盐配置后，制得含氣表面活性剂成品，成盐 配置包括： C. 1 :对步骤B制得的一端带簇酸酸性基团的含氣低聚合物进行水洗和油水分离后，获 得含氣聚酸簇酸半成品； C. 2 :对含氣聚酸簇酸半成品进行精制，包括预热和脱低的过程，获得含氣聚酸簇酸成 品，预热溫度控制在200°C，脱低后含氣聚酸簇酸成品的分子量控制在200 ; C. 3 :对含氣聚酸簇酸成品中和后，制得含氣聚酸表面活性剂成品，中和是在含氣聚酸 簇酸成品中加入碱性无机盐和去离子水的过程，其中，含氣聚酸簇酸成品、碱性无机盐、去 离子水的质量比为25 :8 :20,碱性无机盐可选用锭盐、钢盐和钟盐组成的混合物，其中，锭 盐、钢盐与钟盐的质量比为2 :3 :1。
[0131] 实施例30: 本实施例是用于实施例10的不含全氣辛酸的含氣表面活性剂的制备方法，该制备方 法为连续化生产过程，包括W下步骤： (A)全氣締控、氧气和第S单体巧日偏氣乙締)组成的混合物料在10°C的溫度和0. 25Mpa 的压力下连续进料，在紫外光照射下完成光氧化反应，保持混合物料的持续进料和紫外光 的持续照射，经气液分离回收反应产物中的全氣締控后，得到含酷氣端基产物，其中，混合 物料的进料速度控制在45L/H ;紫外光灯为UVL邸灯，照射功率控制在85W，选择波长为 390nm ;全氣締控、氧气和第=单体的质量比为80 :90 :1。 阳132] (B)在含酷氣端基产物中加入去离子水进行水解，保持水解的持续进行，分离去除 水解产物中的气体和水后，得到一端带簇酸酸性基团的含氣低聚合物。含酷氣端基产物水 解、分离后，获得一端带簇酸酸性基团的含氣低聚合物，其中，去离子水与含酷氣端基产物 的质量比控制在1. 6 :1。 阳133] (C)步骤B中获得的含氣低聚合物经成盐配置后，制得含氣表面活性剂成品，成盐 配置包括： C. 1 :对步骤B制得的一端带簇酸酸性基团的含氣低聚合物进行水洗和油水分离后，获 得含氣聚酸簇酸半成品； C. 2 :对含氣聚酸簇酸半成品进行精制，包括预热和脱低的过程，获得含氣聚酸簇酸成 品，预热溫度控制在200°C，脱低后含氣聚酸簇酸成品的分子量控制在260 ; C. 3 :对含氣聚酸簇酸成品中和后，制得含氣聚酸表面活性剂成品，中和是在含氣聚酸 簇酸成品中加入碱性无机盐和去离子水的过程，其中，含氣聚酸簇酸成品、碱性无机盐、去 离子水的质量比为12 :8 :27,碱性无机盐可选用钟盐。 阳134] 为适应本发明的工业化生产，下面W几个典型实施例来举例说明实施例11~20中制 备方法所设及的工业生产系统。 阳135] 实施例31 : 本实施例是用于是实施例11的制备不含全氣辛酸的含氣表面活性剂的工艺系统，在 本实施例中，工艺系统包括依次连通的光氧化反应器、水解反应蓋、热处理反应蓋和中和反 应蓋，光氧化反应器上分别连接有全氣締控储罐和通气管，通气管为向光氧化反应器中通 入混合气体的水封管，混合气体由氧气和第=单体组成，在中和反应蓋上连接有存储含氣 聚酸表面活性剂的成品储罐。 阳136]实施例32: 本实施例是用于是实施例12的制备不含全氣辛酸的含氣表面活性剂的工艺系统，该 工艺系统与实施例31的区别在于：本实施例设及的光氧化反应器为内设有石英銷和热电 偶的不诱钢设备，所述的石英銷均匀分布在W光氧化反应器中轴线为中屯、的圆周上，并沿 光氧化反应器中轴线由内向外设有两层，在所述的光氧化反应器上设有排气口。 阳137]实施例33: 本实施例是用于是实施例13的制备不含全氣辛酸的含氣表面活性剂的工艺系统，该 工艺系统与实施例31的区别在于：本实施例在光氧化反应器上设有回流冷凝管，来自全氣 締控储罐的全氣締控经回流冷凝管送入光氧化反应器中，回流冷凝管的冷凝溫度为-30°C。 阳13引实施例34: 本实施例是用于是实施例14的制备不含全氣辛酸的含氣表面活性剂的工艺系统，该 工艺系统与实施例31的区别在于：本实施例设及的水解反应蓋为碳钢衬氣或碳钢喷涂聚 四氣涂料的反应设备，在水解反应蓋上设有供光氧化反应产物和去离子水加入的液相加料 口、排空口和冷却夹套，在水解反应蓋内设有揽拌器。 阳139]实施例35: 本实施例是用于是实施例15的制备不含全氣辛酸的含氣表面活性剂的工艺系统，该 工艺系统与实施例31的区别在于：本实施例设及的热处理反应蓋为碳钢衬氣或碳钢聚四 氣乙締喷涂的反应设备，在所述的热处理反应蓋上设有揽拌器、加热内盘管、加热夹套、导 热油装置。 阳140]实施例36 : 本实施例是用于实施例16的制备不含全氣辛酸的含氣表面活性剂的工艺系统，该工 艺系统与实施例31的区别在于：本实施例设及的中和反应蓋为不诱钢反应蓋，在中和反 应蓋上设有供碱性溶液和去离子水加入的加料口和冷却水夹套，在中和反应蓋内设有揽拌 器。 阳141]实施例37: 本实施例是用于是实施例17的制备不含全氣辛酸的含氣表面活性剂的工艺系统，该 工艺系统流程如下： (A)在-20°C的溫度下，将全氣締控加入光氧化反应器中，向光氧化反应器中通入氧气 和第=单体巧日氯乙烘）组成的混合气体，保持紫外光灯照射和通气时间为化后，关闭紫外 光灯、排气，经室溫蒸发后回收未反应的全氣締控，制得含酷氣端基产物。在上述过程中， 全氣締控、氧气和第S单体的质量比为100 :100 :1，光氧化反应器选用内设有石英銷和热 电偶的不诱钢设备，石英銷均匀分布在W光氧化反应器中轴线为中屯、的圆周上，并沿光氧 化反应器中轴线由内向外设有两层，在光氧化反应器上设有排气口和回流冷凝管，来自全 氣締控储罐的全氣締控经回流冷凝管送入光氧化反应器中，回流冷凝管的冷凝溫度控制 在-60°C，石英銷内的紫外光照射功率控制在100W，选择波长为305nm。
[0142] (B) B. 1 :向水解反应蓋中加入去离子水和步骤A制得的含酷氣端基产物，揽拌混 合； B. 2 :控制步骤B. 1制备物料中液相流体的溫度为30°C，继续向水解反应蓋中加入步骤 A制得的含酷氣端基产物，加入速度为1 L/H，揽拌时间控制在0.化； B. 3 :揽拌停止后，静止分层，去除上层水后得到一端带簇酸酸性基团的含氣低聚合物。 阳143] 在上述过程中，去离子水和步骤A制得的含酷氣端基产物的质量比为1. 5 :1，水解 反应蓋选用碳钢衬氣或碳钢喷涂聚四氣涂料的反应设备，在水解反应蓋上设有供步骤A制 得的含酷氣端基产物和去离子水加入的液相加料口、排空口和冷却夹套，在水解反应蓋内 设有揽拌器。
[0144] (C)将步骤B制得的含氣低聚合物送入热处理反应蓋，经除过氧处理后获得含过 氧基团小于Ig/lOOg的一端带簇酸及其盐的含氣油性聚合物，其中，热处理反应蓋选用碳 钢衬氣或碳钢聚四氣乙締喷涂的反应设备，在热处理反应蓋上设有揽拌器、加热内盘管、加 热夹套、导热油装置。
[0145] (D)化1 :在中和反应蓋中加入步骤C制得的一端带簇酸及其盐的含氣油性聚合物 和去离子水，混合并揽拌； 化2 :向步骤化1制备物料中加入碱金属氨氧化物水溶液，得到含氣表面活性剂成品， 送入成品储罐储存。
[0146] 在上述过程中，中和反应蓋可选用不诱钢反应蓋，在中和反应蓋上设有供碱性溶 液和去离子水加入的加料口和冷却水夹套，在中和反应蓋内设有揽拌器。 阳147] 实施例38 : 本实施例是用于是实施例18的制备不含全氣辛酸的含氣表面活性剂的工艺系统，该 工艺系统流程如下： (A)在-25°C的溫度下，将全氣締控加入光氧化反应器中，向光氧化反应器中通入氧气 和第=单体巧日氯乙締)组成的混合气体，保持紫外光灯照射和通气时间为2化后，关闭紫外 光灯、排气，经室溫蒸发后回收未反应的全氣締控，制得含酷氣端基产物。在上述过程中，全 氣締控、氧气和第=单体的质量比为1 :1 :1，光氧化反应器选用内设有石英銷和热电偶的 不诱钢设备，石英銷均匀分布在W光氧化反应器中轴线为中屯、的圆周上，并沿光氧化反应 器中轴线由内向外设有两层，在光氧化反应器上设有排气口和回流冷凝管，来自全氣締控 储罐的全氣締控经回流冷凝管送入光氧化反应器中，回流冷凝管的冷凝溫度控制在-40°C， 石英銷内的紫外光照射功率控制在lOOOW，选择波长为420nm。
[0148] (B) B. 1 :向水解反应蓋中加入去离子水和步骤A制得的含酷氣端基产物，揽拌混 合； B. 2 :控制步骤B. 1制备物料中液相流体的溫度为50°C，继续向水解反应蓋中加入步骤 A制得的含酷氣端基产物，加入速度为100 L/H，揽拌时间控制在化； B. 3 :揽拌停止后，静止分层，去除上层水后得到一端带簇酸酸性基团的含氣低聚合物。 阳149] 在上述过程中，去离子水和步骤A制得的含酷氣端基产物的质量比为2 :1，水解反 应蓋选用碳钢衬氣或碳钢喷涂聚四氣涂料的反应设备，在水解反应蓋上设有供步骤A制得 的含酷氣端基产物和去离子水加入的液相加料口、排空口和冷却夹套，在水解反应蓋内设 有揽拌器。
[0150] (C)将步骤B制得的含氣低聚合物送入热处理反应蓋，经除过氧处理后获得含过 氧基团小于Ig/lOOg的一端带簇酸及其盐的含氣油性聚合物，其中，热处理反应蓋选用碳 钢衬氣或碳钢聚四氣乙締喷涂的反应设备，在热处理反应蓋上设有揽拌器、加热内盘管、加 热夹套、导热油装置。 阳151] (D)化1 :在中和反应蓋中加入步骤C制得的一端带簇酸及其盐的含氣油性聚合物 和去离子水，混合并揽拌； 化2 :向步骤化1制备物料中加入氨水水溶液，得到含氣表面活性剂成品，送入成品储 罐储存。
[0152] 在上述过程中，中和反应蓋可选用不诱钢反应蓋，在中和反应蓋上设有供碱性溶 液和去离子水加入的加料口和冷却水夹套，在中和反应蓋内设有揽拌器。 阳153] 实施例39 : 本实施例是用于是实施例19的制备不含全氣辛酸的含氣表面活性剂的工艺系统，该 工艺系统流程如下： (A)在-23°C的溫度下，将全氣締控加入光氧化反应器中，向光氧化反应器中通入氧 气和第=单体巧日偏氣乙締）组成的混合气体，保持紫外光灯照射和通气时间为1化后，关 闭紫外光灯、排气，经室溫蒸发后回收未反应的全氣締控，制得含酷氣端基产物。在上述过 程中，全氣締控、氧气和第S单体的质量比为50 :80 :1，光氧化反应器选用内设有石英銷和 热电偶的不诱钢设备，石英銷均匀分布在W光氧化反应器中轴线为中屯、的圆周上，并沿光 氧化反应器中轴线由内向外设有两层，在光氧化反应器上设有排气口和回流冷凝管，来自 全氣締控储罐的全氣締控经回流冷凝管送入光氧化反应器中，回流冷凝管的冷凝溫度控制 在-55°C，石英銷内的紫外光照射功率控制在800W，选择波长为380nm。
[0154] (B) B. 1 :向水解反应蓋中加入去离子水和步骤A制得的含酷氣端基产物，揽拌混 合； B. 2 :控制步骤B. 1制备物料中液相流体的溫度为40°C，继续向水解反应蓋中加入步骤 A制得的含酷氣端基产物，加入速度为55L/H，揽拌时间控制在3.化； B. 3 :揽拌停止后，静止分层，去除上层水后得到一端带簇酸酸性基团的含氣低聚合物。 [0K5] 在上述过程中，去离子水和步骤A制得的含酷氣端基产物的质量比为1. 6 :1，水解 反应蓋选用碳钢衬氣或碳钢喷涂聚四氣涂料的反应设备，在水解反应蓋上设有供步骤A制 得的含酷氣端基产物和去离子水加入的液相加料口、排空口和冷却夹套，在水解反应蓋内 设有揽拌器。
[0156] (C)将步骤B制得的含氣低聚合物送入热处理反应蓋，经除过氧处理后获得含过 氧基团小于Ig/lOOg的一端带簇酸及其盐的含氣油性聚合物，其中，热处理反应蓋选用碳 钢衬氣或碳钢聚四氣乙締喷涂的反应设备，在热处理反应蓋上设有揽拌器、加热内盘管、加 热夹套、导热油装置。 阳157] (D)化1 :在中和反应蓋中加入步骤C制得的一端带簇酸及其盐的含氣油性聚合物 和去离子水，混合并揽拌； 化2 :向步骤化1制备物料中加入氨水水溶液，得到含氣表面活性剂成品，送入成品储 罐储存。
[0158] 在上述过程中，中和反应蓋可选用不诱钢反应蓋，在中和反应蓋上设有供碱性溶 液和去离子水加入的加料口和冷却水夹套，在中和反应蓋内设有揽拌器。 阳159] 实施例40 : 本实施例是用于是实施例20的制备不含全氣辛酸的含氣表面活性剂的工艺系统，该 工艺系统流程如下： (A)在-22°C的溫度下，将全氣締控加入光氧化反应器中，向光氧化反应器中通入氧 气和第=单体巧日氯乙烘）组成的混合气体，保持紫外光灯照射和通气时间为1化后，关闭 紫外光灯、排气，经室溫蒸发后回收未反应的全氣締控，制得含酷氣端基产物。在上述过程 中，全氣締控、氧气和第S单体的质量比为30 :60 :1，光氧化反应器选用内设有石英銷和热 电偶的不诱钢设备，石英銷均匀分布在W光氧化反应器中轴线为中屯、的圆周上，并沿光氧 化反应器中轴线由内向外设有两层，在光氧化反应器上设有排气口和回流冷凝管，来自全 氣締控储罐的全氣締控经回流冷凝管送入光氧化反应器中，回流冷凝管的冷凝溫度控制 在-35°C，石英銷内的紫外光照射功率控制在700W，选择波长为320nm。
[0160] (B) B. 1 :向水解反应蓋中加入去离子水和步骤A制得的含酷氣端基产物，揽拌混 合； B. 2 :控制步骤B. 1制备物料中液相流体的溫度为40°C，继续向水解反应蓋中加入步骤 A制得的含酷氣端基产物，加入速度为70L/H，揽拌时间控制在4.化； B. 3 :揽拌停止后，静止分层，去除上层水后得到一端带簇酸酸性基团的含氣低聚合物。 阳161] 在上述过程中，去离子水和步骤A制得的含酷氣端基产物的质量比为1.8 :1，水解 反应蓋选用碳钢衬氣或碳钢喷