带有顶针的升降装置的制造方法

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带有顶针的升降装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及平板显示器件的制备机台,更确切地说,是涉及一种带有顶针的升降装置,主要用于减压干燥设备中。
【背景技术】
[0002]在平板显示器的TFT(thin film transistor,薄膜晶体二极管)阵列基板的制作过程中,例如在黄光等的光阻涂布工艺步骤中,光阻涂布完成后,需将TFT阵列基板传送至减压干燥腔体(VCD chamber)进行减压干燥制程,从而将光阻自身内部吸附的大部份的溶剂去除,以便在后道工艺的预烘烤(Pre-bake)阶段使其烘烤时间有效缩短,增加设备的产能。其中减压干燥工艺的原理主要是,在一个相对密闭的腔体内执行持续抽真空动作,并利用腔体的真空环境,使光阻中的溶剂大量产生挥发效应,以去除光阻之中的大部份非预期的溶剂,一旦当抽真空程序完成后,还必须再通入氮气来破坏真空,破真空程序完成后减压干燥腔体打开,从而完成整个减压干燥流程。
[0003]当在进行破真空程序时,当在减压干燥腔内进行真空与大气处理过程中,由于气体分子会发生剧烈运动,导致该腔室内的玻璃基板温度发生急剧变化,此阶段由于减压干燥设备中用于支撑TFT阵列基板的升降臂上的顶针与TFT阵列基板会存在着一定的温度差,进而导致在TFT阵列基板上留下明显的被业界称之为顶针痕迹(Pin-Mura),此顶针痕迹大部分是发生在平板显示器件的显示区域内,从而造成产品不期望的显示不良。即便仅仅从外观上观察,该痕迹都很难被许可接受。
【实用新型内容】
[0004]为解决现有技术中存在的技术问题,本实用新型提供了一种带有顶针的升降装置,其特征在于,包括:
[0005]沿水平方向延伸的条状升降臂;
[0006]设置在所述条状升降臂的顶部的数个条状卡槽;
[0007]安装在每个所述卡槽内的顶针,且所述顶针在所述卡槽内可沿着所述升降臂的长度方向执行往返移动;
[0008]连接于所述升降臂的底部的升降机构,且所述升降机构引导所述升降臂上下移动。
[0009]作为一个优选的实施例,上述的带有顶针的升降装置中,所述升降机构为沿垂直方向延伸的传导杆,所述传导杆引导所述升降臂上下移动。
[0010]作为一个优选的实施例,上述的带有顶针的升降装置中,所述传导杆穿插在一个支撑基座的柱塞孔中并引导所述升降臂上下移动。
[0011]作为一个优选的实施例,上述的带有顶针的升降装置中,所述支撑基座的顶面设置有一个条状槽体以适配性的容纳所述升降臂,以及
[0012]在所述槽体的底部下方设置有位于所述支撑基座中的且在垂直方向上延伸的所述柱塞孔。
[0013]作为一个优选的实施例,上述的带有顶针的升降装置中,在所述顶针中镶嵌磁性物体并且还在所述卡槽的底部安置磁性物体,位于所述卡槽的底部安置的所述磁性物体吸附所述顶针,以将所述顶针以可移动方式的固持在所述卡槽中。
[0014]作为一个优选的实施例,上述的带有顶针的升降装置中,所述顶针底部为圆柱形,并且所述顶针的圆柱形底部的直径等于所述卡槽的宽度。
[0015]作为一个优选的实施例,上述的带有顶针的升降装置中,所述顶针顶部为圆柱形,并且所述顶针的圆柱形顶部的半径小于所述顶针的圆柱形底部的半径。
[0016]作为一个优选的实施例,上述的带有顶针的升降装置中,在所述顶针中镶嵌的所述磁性物体与在所述卡槽的底部安置的所述磁性物体的磁极性相反。
【附图说明】
[0017]阅读以下详细说明并参照以下附图之后,本实用新型的特征和优势将显而易见:
[0018]图1是用于减压干燥设备的升降臂的鸟瞰图。
[0019]图2是TFT阵列基板承载在升降臂上的示意图。
[0020]图3是本实用新型提供的升降臂的立体图。
[0021]图4是采用本实用新型的升降臂与采用现有技术的升降臂的顶针痕迹对比图。
【具体实施方式】
[0022]参见图1,为了简便起见并未完整的体现整个减压干燥设备,但是图1中示范性的展示了减压干燥设备的一个升降臂(lifter bar)103局部示意图。减压干燥设备的一个金属支撑基座100上形成有长条状的容纳槽体101,而金属基座100中还设置有一些位于槽体101底部的未标注的柱塞孔,每个柱塞孔中均可用来安置一个柱状的传导杆102,传导杆102沿垂直于槽体101底部的垂直方向延伸,而且各个传导杆102的一端固定在长条状的升降臂103的底面。传导杆102可以在槽体101底部的柱塞孔中在垂直方向上自由上下运动,以此带动升降臂103的上下移动,升降臂103的长度方向与条状槽体1I的长度方向保持一致,并且升降臂103的整个垂直投影刚好落在该长条状的槽体101中,以便当升降臂103下降到最大程度时,升降臂103恰好对准槽体101与其重合并相适配的容纳在槽体101之中。
[0023]参见图2,当移动机械手Robot按照预定的作业程序,将TFT阵列基板200传送至减压干燥设备的干燥腔体时,该干燥腔体(VCD chamber)中的升降臂(lifter bar) 103会垂直上升来迎合并承载起TFT阵列基板200,当移动机械手Robot移走后,干燥腔体中的升降臂103连同被其承载的TFT阵列基板200—起下降,直至降至干燥腔体的底部,此时干燥腔体的闭锁构件将会按照预定程序关闭来隔绝外部环境,并开始执行真空减压干燥程序及破真空程序。当所有的程序完成后该干燥腔体会重新打开,将升降臂103连同TFT阵列基板200—起上升至预定的定位位置后,移动机械手Robot会再次将该干燥腔中的TFT阵列基板200取走,并传送至整个工艺流程中的下一个工序的设备,以便继续完成后续的流程作业。
[0024]但是,在当前的主流技术中,因为干燥腔体中的升降臂103顶面上的用于支撑起TFT阵列基板200的若干示范性的顶针(support pin) 103a、103b、103c完全是固定在升降臂103上,也就是说这些顶针103a?103c近乎与升降臂103是一体化结构,在现有设备中并不能按照旨意而人为的自由移动顶针。本领域的技术人员都知道,TFT阵列基板200上设置有多个阵列排布的显示单元250,在显示单元250之间存在非显示单元,如此一来,在执行减压干燥及破真空的程序过程中,因为TFT阵列基板200会与升降臂103上的若干顶针103a?103c直接接触,由于支撑TFT阵列基板200的顶针103a?103c与TFT阵列基板200存在着一定的温度差,进一步诱使TFT阵列基板200上与顶针103a?103c接触的那些点或区域产生顶针痕迹,一旦这些点或区域落在用
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