有机电子器件的利记博彩app
【技术领域】
[0001] 本申请涉及一种有机电子器件及其用途。
【背景技术】
[0002] 有机电子器件（OED !Organic Electronic Device)是一种包括至少一个能够传导 电流的有机材料层的器件。有机电子器件的类型包括有机发光器件（OLED)、有机太阳能电 池、有机光导体（OPC)、或有机晶体管等。
[0003] 作为典型的有机电子器件的有机发光器件依次包括基板、透明电极层、有机层和 反射电极层。在称为底部发光器件（bottom emitting device)的结构中，透明电极层可形 成为透明电极层，并且反射电极层可形成为反射电极层。再者，在称为顶部发光器件（top emitting device)的结构中，透明电极层可形成为反射电极层，并且反射电极层可形成为 透明电极层。通过电极层来注入电子（electron)和空穴（hole)，所注入的电子和空穴在存 在于有机层中的发光单元（emitting unit)中重新结合（recombination)以产生光。光可 发射至基板侧或反射电极层侧。在有机发光器件的结构中，由于通常用作透明电极层的铟 锡氧化物（ΙΤ0，Indium Tin Oxide)、有机层和基板之间的折射率差而在发光单元产生光， 由此所产生的光因全内反射（total internal reflection)现象等而在有机层和透明电极 层的界面处或在基板中捕获（trap)，仅有极少量的光发射出来。因此，为解决该问题提出了 许多方法，但目前已提出的方法适用于利用所谓的刚性（rigid)基板如玻璃基板的结构， 人们正在进行用于柔性器件的结构的各种研究。
[0004] 有机电子器件所要考虑的重要问题是耐久性。由于有机层或电极等非常容易被外 界物质如水分或氧气所氧化，所以确保对于环境因素的耐久性是重要的。为此目的，例如， 在专利文献1至4中提出了用于防止外界物质渗入的结构。在利用通常比玻璃具有更低的 阻挡性的基板的结构中，有关耐久性的问题可能也显得更加严峻。
[0005] 现有技术文献
[0006] 专利文献
[0007] 专利文献1 :美国专利第6, 226, 890号
[0008] 专利文献2 :美国专利第6, 808, 828号
[0009] 专利文献3 :日本公开专利第2000-145627号
[0010] 专利文献4 :日本公开专利第2001-252505号
【发明内容】
[0011] 发明要解决的课题
[0012] 本申请的目的在于，提供一种有机电子器件及其用途。本申请提供一种例如在用 作柔性有机发光器件时具有优异的耐久性和光提取效率的有机电子器件及其用途。
[0013] 解决课题的方法
[0014] 示例性的有机电子器件可包括阻挡膜101、散射粘合剂层102、基底膜103、透明电 极层104、有机层105和反射电极层，它们如图1所示那样朝上部方向依次存在。所述各层 可以以在相邻的层之间不存在有其他层的状态直接层叠，或以其他层为媒介进行层叠。
[0015] 如图1所示，有机电子器件可包括基底膜103、和通过散射粘合剂层102来粘合在 基底膜103下部的阻挡膜101。此处，散射粘合剂层102可包含粘着性粘合剂1021和散射 颗粒1022,并且散射颗粒可以具有比粘合剂更高的折射率。除非另有特别的定义，否则折射 率是相对于波长约为550nm的光的折射率。
[0016] 除非另有特别的定义，否则本说明书中使用的术语"上部方向"是指从透明电极层 朝向反射电极层的方向，且除非另有特别的定义，否则本说明书中使用的术语"下部方向" 是指从反射电极层朝向透明电极层的方向。
[0017] 在本说明书的下文中，为便于描述，在上述结构中，包括存在于透明电极层下部 的所有要素（透明电极层除外）的区域称为基板区域（substrateregion)，包括透明电极 层、反射电极层、及在这些之间存在的作为器件区域（device region)的所有要素，并将 包括在反射电极层上部存在的所有要素（反射电极层除外）的区域称为上部区域（upper region)〇
[0018] 对可包括在有机电子器件中的基底膜的类型无特殊限制。例如，作为基底膜，可 使用本领域中已知为常规用于实现柔性器件的基底膜。基底膜的代表性实例为薄玻璃膜 或聚合物膜。作为玻璃膜，可使用由以下物质所形成的膜：钠钙玻璃、含钡/锶的玻璃、铅 玻璃、铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、钡硼硅酸盐玻璃或石英；且作为聚合物膜，可使用包 含以下物质的膜：聚酰亚胺（PI，polyimide)、聚萘二甲酸乙二酯（PEN，polyethylene)、聚 碳酸酯（PC，polycarbonate)、丙稀酸树脂、聚（对苯二甲酸乙二酯）（PET，poly (ethylene terephthatle))、聚（酿硫酿）（PES，poly(ether sulfide))，或者聚讽（PS，polysulfone) 等，但本申请并不限于此。
[0019] 作为基底膜可使用透光膜。术语"透光膜"例如可是指，相对于可见光区中的任意 一种或整个可见光区中的光的透光率为50%或更多、60 %或更多、70%或更多或者80 %或 更多的透光率的膜。该基底膜可为具有驱动用薄膜电晶体（TFT，Thin Film Transistor) 的TFT基底膜。
[0020] 基底膜可具有约5ppm/°C至70ppm/°C范围内的热膨胀系数（CTE)。该范围可有利 于阻止缺陷如层间剥离，所述层间剥离在同时存在有机材料层和无机材料层的结构中可能 发生。
[0021] 基底膜可具有约200°C或更高的玻璃化转变温度。玻璃化转变温度可为基底膜本 身的玻璃化转变温度，或为形成有后述的缓冲层的基底膜的玻璃化转变温度。在制作有机 电子器件过程中，该范围可适合于用于沉积或图案化的高温工艺。在另一实例中，玻璃化转 变温度可为约210°(：或更高、220°(：或更高、230°(：或更高、240°(：或更高或250°(：或更高。玻 璃化转变温度的上限例如可为约400°C、350°C或300°C，但不特别限于此。
[0022] 在基底膜中，表面粗糙度（RMS，Root Mean Square)可调节至约0· 1至5nm的范 围。该表面粗糙度可为对于基底膜表面的表面粗糙度，或为对形成有后述的缓冲层的基底 膜的、所述缓冲层表面的表面粗糙度。该表面粗糙度的范围可有利于改善形成于缓冲层上 部的层的性能。例如，当形成具有阻挡性的第一无机材料层时，如果在具有上述范围的RMS 的表面形成该第一无机材料层，则可形成具有优异的防水特性等的层。在另一实例中，RMS 可为约4nm或更少、约3nm或更少、约2. 5nm或更少或约2nm或更少。
[0023] 基底膜可具有约1.5或更多、1.6或更多、1.7或更多或1.75或更多的折射率。除 非另有特别的定义，否则本说明书中所使用的术语"折射率"是相对于波长约为550nm的光 所测量的折射率。当有机电子器件为有机发光器件时，基底膜的该折射率的范围可有利于 提尚器件的发光效率。对基底I旲的折射率无特别限制，例如可以约2. 0左右。
[0024] 对于基底膜的厚度而言，考虑到所需性能如柔性、光提取效率或阻挡性，可在合适 的范围内进行选择，但无特殊限制。例如，基底膜的厚度可约为IOym至50 μπι或20 μπι至 30 μ m的范围。
[0025] 阻挡膜可通过散射粘合剂层粘合在基底膜下部。可使用于本说明书中的阻挡膜 的类型无特殊限制，且例如，可使用以下膜：其中在基底膜如塑料膜等可形成已知为防水的 层，如硅的氧化物、硅的氮化物或硅的氧氮化物。在一个实例中，阻挡膜可具有包括聚合物 基底层和无机材料层的结构，所述聚合物基底层和无机材料层可形成在基底层的单个表面 或两侧表面上。作为包括在阻挡层中的聚合物基底层，合适的类型可选自上述基底膜（图 1中的基底膜103)。因此，聚合物基底层可具有上述的透光率、热膨胀系数、玻璃化转变温 度、表面粗糙度和基底层折射率中的至少一个物理特性。同时，作为无机材料层，例如，可使 用与后述的包括在基板区域中的第一无机材料层相同的无机材料层。
[0026] 可通过散射粘合剂层将阻挡膜粘合在基底膜下部。本说明书中使用的术语"散射 粘合剂层"可以是指使入射光散射而形成的粘合剂层。散射粘合剂层可具有，例如，40%或 更多、45%或更多或50%或更多的雾度。通过具有该范围的雾度的粘合剂层来可以改善有 机电子器件的光提取效率。雾度的上限可为90%或更少、85%或更少、80%或更少、75%或 更少或70%或更少，但并不限于此。在本申请中，粘合剂层的雾度通过以下实施例中所公开 的方法进行测量。
[0027] 散射粘合剂可通过将散射颗粒配合在粘着性粘合剂中而制备。本说明书中使用的 术语"散射颗粒"例如可以是指，可以对与周围物质如粘着性粘合剂等具有不同的折射率且 具有合适的尺寸，从而对入射的光进行散射、折射或衍射的所有类型的颗粒。
[0028] 作为粘着性粘合剂，可使用本领域已知的任意的光学透明粘合剂，无特殊限制。作 为粘着性粘合剂，可使用非可交联粘合剂或可交联粘合剂，并且可交联粘合剂可以是可热 固化的、可蒸汽固化的、可室温固化的，或者可以使用可活性能量辐射（例如，紫外光束或 电子束等）固化的粘着性粘合剂。
[0029] 光学性透明的粘着性粘合剂的代表性实例可为丙烯酸粘着性粘合剂、石蜡基粘着 性粘合剂或橡胶基粘着性粘合剂，并且所有的这些粘合剂类型都可用在本申请中。就易于 获得和施用、和易于调节后述的散射颗粒之间的折射率关系等而言，可使用丙烯酸粘着性 粘合剂。作为丙烯酸粘着性粘合剂，可使用常规的类型，例如，具有（甲基）丙烯酸酯单体 作为主要单元，并如果需要还具有各种可交联的官能团的类型。另外，就调节粘合剂层的雾 度和调节后述的散射颗粒之间的折射率关系而言，粘着性粘合剂可具有约1. 2至1. 5或约 1.2至1.45范围的折射率。
[0030] 作为在粘合剂层中所包含的散射颗粒，可使用与粘着性粘合剂具有不同的折射率 的颗粒。考虑到与包括粘合剂层的位置相关的合适的光提取效率，散射颗粒可具有比粘着 性粘合剂更高的折射率。在本申请的有机电子器件的结构中，与粘合剂层包含比粘着性粘 合剂具有更低的折射率的散射颗粒时相比，当粘合剂层包含比粘着性粘合剂具有更高的折 射率的散射颗粒的时候，在相同的雾度范围内可展现出相当高的光提取效率。在一个实例 中，散射颗粒的折射率（A)与粘着性粘合剂的折射率（B)之差（A-B)可为约0.05或更多、 〇. 1或更多、〇. 3或更多或0. 5或更多。另外，折射率之差的上限不特别限制，可为约1. 5或 更少、约1. 3或更少或约1或更少。在该范围内，粘合剂层的雾度可限定在合适的范围内， 并且正当在合适水平的雾度范围内可确保更佳的光提取效率。
[0031] 散射颗粒的尺寸可进行适当地调节，但无特殊限制。但是，当散射颗粒的尺寸远 小于入射光的波长的尺寸时，确保散射效率是困难的，因此散射颗粒例如可具有50nm或更 多、IOOnm或更多、500nm或更多或1，OOOnm或更多的平均粒径。散射颗粒的平均粒径，例如 可为1，OOOnm或更少。
[0032] 该散射颗粒可为氧化铝、铝硅酸盐、氧化钛或氧化锆，并且只要颗粒满足上述条 件，则不特殊限于某一具体的类型。关于能够轻易确保高折射率的颗粒，可使用金红石型氧 化钛，并且该颗粒也可使用在本申请中。
[0033] 粘合剂层中的散射颗粒的比例可带来上述雾度，并且对其无特殊限制，只要是将 比例调节为不背离粘着性粘合剂的粘合性能。
[0034] 除上述组分外，粘合剂层可包含附加