电光器件及其制造方法
【专利说明】电光器件及其制造方法
[0001]本申请为申请日为2010年07月15日、申请号为201010227384.2、名称为“电光器件及其制造方法”的发明专利申请的分案申请。
技术领域
[0002]本发明涉及一种电光器件及其制造方法，更具体地，涉及一种能够通过利用激光划线工艺去除用于上电极的顶膜的一部分并因而形成上电极来简化形成上电极的工艺的电光器件及制造这种电光器件的方法。
【背景技术】
[0003]通常，多个有机发光器件(OLED)设置在单个基板上的有机发光显示器包括基板、在该基板上形成的多个下电极、覆盖所述下电极的边缘区域的绝缘膜、在所述多个下电极上形成的有机膜以及在有机膜上形成的、由分隔物隔开为与所述多个下电极交叉的多个上电极，从而多个OLED能够被独立驱动。简单地说，在制造有机发光显示器的现有方法中，该方法首先在基板的整个表面上沉积诸如氧化铟锡(ITO)的透明导电材料。接着，执行光刻工艺，从而形成多个下电极。然后，在下电极的边缘区域上、即在下电极的上表面的边缘区域和侧面上形成绝缘膜。接着，为了在后续工艺中形成上电极，按照与下电极交叉的方式形成分隔物。在这里，通过用负性光刻胶涂覆基板，接着对该涂覆的负性光刻胶执行光刻工艺来形成5 μπι或更高的分隔物。然后，在基板上形成有机膜。接着，在形成有下电极和有机膜的基板的整个表面上沉积金属膜。金属膜被分隔物分隔开，由此被分隔开的金属膜用作多个上电极。由于这样形成分隔物和上电极，所以多个OLED能够被独立驱动。
[0004]但是，如果利用如同现有技术方法中的光刻工艺形成分隔物，就会需要多个制造步骤。因此，制造工艺太复杂，导致光刻工艺时间增加，制造成本也增加。
【发明内容】
[0005]本发明提供一种能够通过利用激光划线工艺去除在基板的整个表面上形成的顶膜的一部分并因而形成上电极来简化形成上电极的工艺的电光器件，以及制造这种电光器件的方法。
[0006]根据典型实施例，一种用于制造电光器件的方法包括:在基板上形成下电极；形成与下电极交叉的第一绝缘膜；在形成有下电极和所述第一绝缘膜的基板上形成有机膜；在有机膜上形成顶膜；以及通过利用激光划线工艺去除顶膜的一部分形成与下电极交叉的上电极。在这里，在利用激光划线工艺形成上电极时，上电极的下表面的边缘区域位于第一绝缘膜的上方。
[0007]在利用激光划线工艺形成上电极时，可以去除设置在顶膜下方的有机膜的一部分以形成有机图案，同时可以去除设置在有机膜下方的第一绝缘膜的一部分。
[0008]在激光划线工艺中使用的激光的宽度可以小于第一绝缘膜的宽度，且所述激光沿着第一绝缘膜的上侧的中心区域移动。
[0009]在所述激光划线工艺期间，在激光沿着第一绝缘膜的上侧的中心区域移动时，第一绝缘膜的中心区域、与第一绝缘膜的中心区域对应的有机膜和顶膜的一部分可以被去除。
[0010]所述有机图案的边缘区域和上电极的边缘区域可位于其中心区域被去除的所述第一绝缘膜的边缘区域的上方。
[0011]该方法可以包括形成覆盖下电极的边缘区域的第二绝缘膜，其中第二绝缘膜与下电极平行并与上电极和第一绝缘膜交叉。
[0012]第一绝缘膜和第二绝缘膜可以同时形成。
[0013]第一绝缘膜和第二绝缘膜可以由有机材料、无机材料和氧化物中的一种形成。
[0014]可以利用印刷工艺和光刻工艺中的一种形成第一绝缘膜和第二绝缘膜。
[0015]根据另一典型实施例，一种电光器件包括:设置在基板上的下电极；与下电极交叉的上电极；以及设置在下电极和上电极之间以与下电极交叉并与上电极平行的第一绝缘膜。
[0016]上电极的下表面的边缘区域位于第一绝缘膜的上方。
[0017]该电光器件还可以包括被设置成与下电极平行并覆盖下电极的边缘区域的第二绝缘膜。
[0018]该电光器件还可以包括设置在上电极和下电极之间的有机图案，且有机图案的边缘区域可以设置在第一绝缘膜上。
【附图说明】
[0019]由下面的结合附图的说明，可以更详细地理解典型实施例，其中:
[0020]图1A到图5A是示出典型实施例的制造电光器件的方法的俯视图；以及
[0021]图1B到图5B是沿着图1A到图5A的A_A’线截取的截面图。
【具体实施方式】
[0022]下面将参考附图更加详细地描述本发明的具体实施例。但是，本发明可以以不同的形式体现，因此不应解释为限制于这里阐述的实施例。更确切地说，提供这些实施例是为了使本发明全面且完整，并向本领域技术人员充分地传达本发明的范围。本文中相同的附图标记表示相同的元件。
[0023]图1A到图5A是示出根据典型实施例的制造电光器件的方法的俯视图，并且图1B到图5B是沿着图1A到图5A的A-A’线截取的截面图。
[0024]根据典型实施例的制造电光器件的方法能够简化形成多个上电极600b的工艺，并提高该电光器件的可靠性。以下，将参照图1A到图5A以及图1B到图5B描述根据典型实施例的制造电光器件的方法。
[0025]参照图1A和图1B，在基板100上形成以预定距离彼此分隔的多个下电极200。该基板可以是具有80%或更高透光率的塑料基板(例如，PES、PEN等)和玻璃基板中的任意一种，但并不限于此。换句话说，基板100可以是其他各种基板，例如，薄硅基板或蓝宝石基板。在该典型实施例中，使用玻璃基板作为基板100。在这里，多个下电极200中的每个在基板100上沿着预定方向延伸，例如，图1A中所示的水平方向。虽然未示出，但是可以通过在基板100上沉积诸透明导电材料，例如沉积氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)和氧化铟(In2O3)中的一种，接着对沉积的透明导电材料构图来形成下电极200。在该典型实施例中，通过利用溅射工艺在基板100上沉积诸如ITO的透明导电材料，接着利用光刻对沉积的透明导电材料构图来形成多个下电极200。但是，透明导电材料的沉积不限于溅射方法，可以使用除了溅射方法之外的其他各种沉积方法。另外，也可以通过利用湿蚀刻、划线、印刷等对透明导电材料构图而形成下电极200。
[0026]参照图2A和图2B，在形成有多个下电极200的基板上形成绝缘膜300。根据典型实施例的绝缘膜300包括多个第一绝缘膜300a和多个第二绝缘膜300b。多个第一绝缘膜300a形成为与下电极200交叉，而多个第二绝缘膜300b形成为与下电极200平行。在这里，第一绝缘膜300a防止随后形成的上电极600b的边缘区域接触下电极200，从而防止漏电流产生并且防止电光器件发生故障。第一绝缘膜300a形成在下电极200上，以使第一绝缘膜与下电极200交叉并与上电极600b平行。可按照这样的方式形成第一绝缘膜300a:上电极的下表面的边缘区域位于第一绝缘膜300a的上方。此外，第二绝缘膜300b与下电极200平行地设置在所述下电极200之间，从而覆盖下电极200的每个的边缘区域。更具体地，第二绝缘膜300b覆盖下电极200的每个的上表面的边缘区域和侧面。在这里，第二绝缘膜300b起到覆盖会在下电极200的形成工艺期间变形的下电极200的边缘区域的作用。结果，第一绝缘膜300a与下电极200交叉，而第二绝缘膜300b与下电极200平行形成。第一绝缘膜300a和第二绝缘膜300b由诸如光刻胶(PR)的有机材料和诸如氮化物或例如氧化铝(Al2O3)的氧化物的无机材料形成。在典型实施例中，通过利用属于印刷方法中一种的丝网印刷法涂覆绝缘材料来形成第一绝缘膜300a和第二绝缘膜300b。简单地说，在基板100上方设置模板掩模，该模板掩模暴露下电极200的边缘区域和上电极600b的边缘区域。该模板掩模包括第一开口部分和第二开口部分，该第一开口部分与下电极200交叉并暴露上电极600b的边缘区域，而该第二开口部分与下电极200平行并暴露下电极200之间的区域和下电极200的边缘区域。然后，通过模板掩模施加绝缘材料。在这里，通过移动挤压机喷射绝缘材料，并且绝缘材料被填充到模板掩模的开口部分，由此被构图。结果，第一绝缘膜300a与下电极200交叉，而第二绝缘膜300b与下电极200平行。第一绝缘膜300a以这样的方式形成，即随后形成的上电极600b的边缘区域位于第一绝缘膜300a的上方。第二绝缘膜300b形成在下电极200的上表面的边缘区域和侧面处。这样，根据典型实施例，通过单一的丝网印刷在形成有下电极200的基板100上同时形成了第一绝缘膜300a和第二绝缘膜300b。在现有OLED的情况下，虽然未示出，但是在基板上仅形成覆盖下电极的边缘区域的绝缘膜。然而，在典型实施例中，形成覆盖下电极200的上表面的边缘区域和侧面的第二绝缘膜300b，同时形成第一绝缘膜300a，上电极600b的下表面的边缘区域位于该第一绝缘膜的上方。换句话说，第一绝缘膜300a和第二绝缘膜300b通过单一的工艺同时形成在下电极200上。于是，不需要另外执行形成第一绝缘膜300a的工艺，上电极600b的下表面的边缘区域位于该第一绝缘膜300a的上方。因此，即使利用相同的处理时间，也能够不仅形成覆盖下电极200的上表面的边缘区域和侧面的第二绝缘膜300b，还形成第一绝缘膜300a，上电极600b的下表面的边缘区域位于该第一绝缘膜的上方。虽然绝缘膜300在典型实施例中是通过丝网印刷工艺形成的，但并不限于此，所以各种印刷方法能够被使用。换句话说，第一绝缘膜300a和第二绝缘膜300b可以利用笔印刷(pen-printing)、滚筒印刷(roller-printing)和凹版印刷(gravure-printing)中的一种形成。此外，第一绝缘膜300a和第二绝缘膜300b可以通过在形成有下电极200的基板100上施加光刻胶并通过光刻对光刻胶构图来形成。
[0027]参照图3A和图3B，在形成有下电极200、第一绝缘膜300a和第二绝缘膜300b的基板100的整个表面上形