图案化的导体触摸屏的利记博彩app
【技术领域】
[0001] 本发明设及触摸屏，更具体地设及使用透明导体的图案作为触摸感测元件的展出 的触摸屏W及制造该种触摸屏的方法。
【背景技术】
[0002] 触摸屏已经变成用户与电子系统直观交互的越来越普遍的方式，所述电子系统一 般是包括用于观看信息的显示器的那些系统。透明触摸屏可W被布置在可变显示器和/或 静态图像上方，使得被显示的信息和图像可W通过触摸屏观看。适合于用在该种配置中的 触摸屏技术包括电阻式、电容式、投射电容式、电感式、表面声波式、压力式等等。
[0003] 透明触摸屏利用基本透明的基板(例如玻璃或PET)和由透明导电材料(例如口0， 铜锡氧化物）制成的一个或两个图案化层来感测用户输入的位置。
[0004] 导电材料膜的一个重要参数是它的WQ/正方形测量的表面电阻。取决于所附着 的电子设备，典型的触摸屏应用用范围为10-100Q/正方形的表面电阻值工作，其中越小 的表面电阻需要越厚的透明导电材料的膜厚度。
[0005] 另一重要性能参数是应当尽可能高的透明触摸屏设备的总体透射率。期望的透射 率值是90%和更多。
[0006] 由于透明导体层被图案化并且因此不是均匀分布在基板上方，因此当比较分别具 有和不具有透明传导层的区域时反射率和透射率不同。由此，图案变得对触摸屏用户可见。 该所谓的"图案可见性"必须被最小化，因为它可能干扰信息从显示器的透射和/或由于纯 美容的（purecosmetic)原因。换句话说，应当减小在反射率和透射率两方面的在有和没 有透明导体层的覆盖的情况下的基板区域之间的颜色差。
[0007] 定义 在该上下文中颜色差指的是在光谱范围内从触摸屏反射或透射通过触摸屏的光学信 号的差，所述光谱范围对触摸屏设备的人类终端用户是可见的-由此从380nm到780nm的 光谱范围必须被考虑。光学信号可W是触摸屏的透射率或反射率，该触摸屏包括基本透明 的基板、图案化导电层和打算用于在有和没有用导电层覆盖的情况下降低区域之间的颜色 差的多个可选层。
[0008] 相对于人眼的灵敏度量化颜色差(有时也称为"颜色距离"）的一种方式对于分 别具有CIELAB颜色坐标（Ll，al，bl)和（L2，a2，b2)的两种颜色应用根据下式定义AE的 CIELAB颜色空间； &臣=sqrt { (L2-L1)A2 + (a2-al) ^2十（62-1〇1)&2 ) * *squ;rt=平方根。
[0009] 相对于专用照明由透射率或者由反射率计算颜色坐标。所有另外的AE值使用针 对西欧的平均日光/正午阳光的SID65照明数据（也称为CIE标准照明D65或Dee)来计 算。
[0010] 在该文档内使用的所有折射率值给予参考633nm的波长。
【发明内容】
[0011] 在第一方面中，本发明指的是具有基板和图案化的透明导体层的触摸屏，其中关 于反射率和透射率的在有和没有被透明导体层覆盖的情况下的基板区域之间的颜色差通 过下面的特征被减小： ?中间层堆叠（IL)被布置在基板和透明导体层之间， ?其中该中间层堆叠包括多个至少两个交替的高折射率和低折射率的材料。
[0012] 触摸屏可W是透明的，具有基本透明的基板。后者的折射率可W在1.5和1.6之 间选择(包括界线)。适合于如所提到的透明基板的材料将是玻璃或聚对苯二甲酸己二醇醋 (polyethylentere地thalate)(阳T)作为不例。
[0013] 据此并且对于该文档中公开的所有界线，应当理解界线总是被认为与由此定义的 范围一起被包括。应当进一步理解如上面所公开的W及在下面中的本发明的所有方面可W 自由组合，只要该不指的是矛盾的方面。
[0014] 参考图案化的透明导体层的折射率，可W选择在1. 8和2. 0之间的范围。对于该 种透明导体的材料的公知示例是铜锡氧化物（IT0)。
[0015] 本发明的另外的方面指的是中间层（IL)的不同折射材料。具有在2. 25和2. 4之 间、优选在2. 3到2. 4之间的折射率的高折射率材料被发现是合适的。氧化魄佩2〇5和氧化 铁Ti化是该种高折射率材料的两个示例。
[0016] 而对于低折射率材料，使用在1. 3和1. 6之间、优选为约1. 46的折射率，并且氧化 娃Si化是对于低折射率材料的示例。
[0017] 本发明的另外的方面指的是具有透明导体层膜的薄膜厚度(也就是说30nm或更 少）的触摸屏。
[0018] 本发明的几个方面指的是中间层堆叠（IL)的设计。在两层IL的情况下，可W使 用例如具有沉积在基板上的6 ± 1nm厚度的高折射率材料层和在高折射率材料层顶部上 的56 ± 6nm的低折射率材料层的设计。该种基本设计可W有利地用于如所提到的被提 供有薄透明导体层膜的触摸屏。
[0019] 为了增加透明导体层膜的膜厚度，可W使用更复杂的IL设计，该设计包括一组至 少四层交替的高折射率和低折射率材料。下面的设计给出了四层IL的示例，其包括： ?第一层高反射材料，其具有在1和10皿之间、优选在2和9皿之间、特别优选在3. 6 和7.8nm之间的厚度， ?第一层低反射材料，其具有在60和72nm之间、优选在63和69nm之间、特别优选在 63. 3和68. 2皿之间的厚度， ?第二层高反射材料，其具有在8和21皿之间、优选在10和19皿之间、特别优选在 10. 1和17. 2nm之间的厚度， ?第二层低反射材料，其具有在48和62nm之间、优选在50和60nm之间、特别优选在 50. 0和60. 3nm之间的厚度。
[0020] 实际的发明的触摸屏的在380和780皿之间的波长范围内的平均总体透射率 应当至少是约90%，在有和没有被透明导体层覆盖的情况下的基板区域之间的最大颜色差 AE对于透射率应当是AEtt。。，《0.6,对于反射率应当是AEufi《1.6,化及对于45。反 射率应当是AErefi_4日《1.5。
[0021] 本发明的另外的方面指的是具有透明导体层膜的相对高的厚度(例如40nm或更 多的膜厚度）的触摸屏。
[0022] 不仅，而且尤其是关于该种较厚的透明导体层膜，可W使用包括位于图案化的透 明导体层的顶部上和中间层（IL)没有被图案化的透明导体层覆盖的该中间层的顶部上的 盖层（CL)的触摸屏。
[0023] 可W有利地使用包括至少两层的至少两个交替的高折射率和低折射率材料的盖 层化。然而，为了达到合适的结果，应当使用参考透明导体层的厚度的厚盖层。作为示例， 盖层可W具有图案化的透明导体层的厚度的至少10 (十）倍或者在特定实例中甚至是至少 15 (十五）倍。在其它数字中，参考如在下面的详细描述下公开的如用于实验数据的材料， 盖层化的厚度可W在600和1100皿之间，优选在700和1000皿之间。然而，实践者知 道为了利用不同光学折射率的材料达到相同的光学厚度X di如何改编膜厚度。
[0024] 考虑到该一点，包括至少两层的至少两个交替的高折射率和低折射率材料的盖层 CL可W利用沉积在图案化的透明导体层上和中间层（IL)没有被透明导体层覆盖的地方上 的800 ± 100nm厚度的高折射率材料层W及沉积在高折射率材料的顶部上的75 ± 10 nm厚度的低折射率材料层来设计。
[0025] 本发明的另外的方面是公开了一种通过施加中间层堆叠（IL)制造触摸屏的方 法，该触摸屏具有在有和没有被透明导体层覆盖的情况下的基板区域之间的减小的颜色差 AE，由此； ?首先在基板上沉积包括多个至少两个交替的高折射率和低折射率材料的中间层堆 叠（IL)，W及 直接在基板上沉积高折射率材料层，W及 ?其次，在中间层堆叠（IL)的顶部上沉积图案化的透明导体层。
[0026] 本发明的另外的方面是公开了一种通过施加中间层堆叠（IL)和盖层（CL)制造触 摸屏的方法，该触摸屏具有在有和没有被透明导体层覆盖的情况下的基板区域之间的减小 的颜色差AE，由此： ?首先在