本发明涉及填料密封技术，具体是密封水泵中传动轴与压盖之间缝隙的结构。
背景技术：
填料密封因具有结构简单、装拆维修方便及成本低廉的特点而得到广泛应用，填料密封既是动密封，又是静密封，所用填料通常为油浸石棉盘根软填料。水泵中传动轴与压盖之间空隙的密封常常采用填料密封的方式实现，当出现密封填料过度密封或密封不足时，由于预紧力恒定，而被密封介质的压力是波动变化的，这易导致密封填料过度密封或密封不足。目前在密封力不足时，采取的方法往往是加大预紧力，然而，预紧力过大会造成密封填料与传动轴接触面之间的摩擦力加大，这会导致填料对传动轴磨损严重，功率损失增大。
技术实现要素：
本发明的目的在于克服现有技术的不足，提供了一种密封水泵中传动轴与压盖之间缝隙的结构，其应用时可以实现填料对传动轴的密封力随密封介质压力的变化而变化，能降低传动轴的磨损，达到延长使用寿命的目的。
本发明的目的主要通过以下技术方案实现：密封水泵中传动轴与压盖之间缝隙的结构，包括传动轴、外侧定位轴套、内侧定位轴套、填料、压盖、压缩弹簧及定位杆，所述外侧定位轴套、内侧定位轴套及压盖均套设于传动轴上，压盖一端与外侧定位轴套连接，传动轴、外侧定位轴套及压盖三者之间构成有定位空腔，所述内侧定位轴套设于定位空腔内，传动轴、内侧定位轴套及压盖三者之间构成有填料容置腔，所述填料设于填料容置腔内且与传动轴紧密接触；所述定位杆两端分别与内侧定位轴套和压盖固定连接，所述压缩弹簧套设在定位杆上且其两端分别作用于压盖和内侧定位轴套。
进一步的，所述外侧定位轴套内壁构成有第一环形限位平台和第二环形限位平台，所述第二环形限位平台位于第一环形限位平台与压盖之间，且第二环形限位平台的内径大于第一环形限位平台的内径；所述内侧定位轴套远离压盖一端的内壁内凸构成有第一定位平台，第一定位平台与第一环形限位平台之间构成有第一伸缩间隙，内侧定位轴套靠近压盖一端的外壁外凸构成有第二定位平台，第二定位平台与第二环形限位平台之间构成有第二伸缩间隙。本发明应用时通过设置第一伸缩间隙和第二伸缩间隙，使得被密封介质的压力波动时内侧定位轴套和填料可通过移位来适应被密封介质的压力。本发明通过设置第一环形限位平台和第二环形限位平台，可防止本发明应用时内侧定位轴套和填料出现较大的偏移。
为了保证外侧定位轴套与内侧定位轴套之间的密封性能，进一步的，所述第二定位平台外壁与外侧定位轴套内壁之间设有密封两者间隙的密封圈。
综上所述，本发明具有以下有益效果：本发明整体结构简单，便于实现，成本低，本发明应用时可通过内侧定位轴套和填料的移位来适应被密封介质的压力波动，可以实现填料对传动轴的密封力随密封介质压力的变化而变化，能降低传动轴的磨损，达到延长使用寿命的目的。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本发明实施例的进一步理解，构成本申请的一部分，并不构成对本发明实施例的限定。在附图中：
图1为本发明一个具体实施例的结构示意图。
附图中标记所对应的零部件名称：1、传动轴，2、外侧定位轴套，3、内侧定位轴套，4、填料，5、密封圈，6、压盖，7、压缩弹簧，8、定位杆，9、第一伸缩间隙，10、第二伸缩间隙。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下面结合实施例和附图，对本发明作进一步的详细说明，本发明的示意性实施方式及其说明仅用于解释本发明，并不作为对本发明的限定。
实施例：
如图1所示，密封水泵中传动轴与压盖之间缝隙的结构，包括传动轴1、外侧定位轴套2、内侧定位轴套3、填料4、压盖6、压缩弹簧7及定位杆8，其中，外侧定位轴套2、内侧定位轴套3及压盖6均套设于传动轴1上，压盖6一端与外侧定位轴套2连接，传动轴1、外侧定位轴套2及压盖6三者之间构成有定位空腔，内侧定位轴套3设于定位空腔内，传动轴1、内侧定位轴套3及压盖6三者之间构成有填料容置腔，填料4设于填料容置腔内且与传动轴1紧密接触。定位杆8两端分别与内侧定位轴套3和压盖6固定连接，压缩弹簧7套设在定位杆8上且其两端分别作用于压盖6和内侧定位轴套3。
本实施例在具体设置时，外侧定位轴套2内壁构成有第一环形限位平台和第二环形限位平台，第二环形限位平台位于第一环形限位平台与压盖6之间，且第二环形限位平台的内径大于第一环形限位平台的内径。内侧定位轴套3远离压盖6一端的内壁内凸构成有第一定位平台，第一定位平台与第一环形限位平台之间构成有第一伸缩间隙9，内侧定位轴套3靠近压盖6一端的外壁外凸构成有第二定位平台，第二定位平台与第二环形限位平台之间构成有第二伸缩间隙10。为了保证本实施例的密封性能，本实施例的第二定位平台外壁与外侧定位轴套2内壁之间设有密封两者间隙的密封圈5，其中，密封圈5的材质采用橡胶。
以上所述的具体实施方式，对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本发明的具体实施方式而已，并不用于限定本发明的保护范围，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。