一种自激式水幕单机打磨抛光除尘器的利记博彩app

本实用新型涉及除尘设备，具体涉及一种自激式水幕单机打磨抛光除尘器。

背景技术：

打磨作业时，工件与抛光盘接触会产生大量的粉尘。大量的粉尘对环境污染很大，且有发生火灾，甚至爆炸的危险。因此必须要对粉尘进行收集并且清除，然而现有技术大部分是通过管道收集系统，这种方式容易埋下安全隐患。

技术实现要素：

为了克服背景技术的不足，本实用新型提供一种除尘效果好，安全性高，结构简单的自激式水幕单机打磨抛光除尘器。

本实用新型所采用的技术方案：一种自激式水幕单机打磨抛光除尘器，包括电机，机壳，设置在所述机壳底部的水槽，分别设置在水槽上方的抛光盘和除尘装置；所述除尘装置包括设置在与所述抛光盘同一径向平面并且垂直于地面的水幕板，设置在所述水幕板后面并且分离粉尘与空气的分离箱以及安装在所述分离箱上的离心风机。

所述抛光盘有两个，所述电机安装在所述抛光盘中间，并且同时驱动所述抛光盘转动。

所述分离箱内设有若干块向下倾斜且相向交错设置的挡板。

所述挡板的端部设有向下倾斜的折弯部。

所述分离箱的入口处设有S型气流通道，所述S型气流通道由设置在所述分离箱最下层的所述挡板下方的上叶片以及设置在所述水槽里的下叶片组成。

所述离心风机设有净气出口，所述净气出口上设有消音器。

还包括设置在所述抛光盘上方的外壳罩，所述外壳罩上设有一端与其铰接并且另一端可绕铰接点摆动的弧形罩，所述弧形罩设有与所述外壳罩配合的限位槽。

所述水幕板上方设有小水箱，所述水槽与小水箱之间设有水循环装置，所述水循环装置采用循环水泵。

本实用新型的有益效果是：工件打磨作业时，大颗粒的粉尘直接掉入水里，小颗粒的粉尘由于抛光盘的惯性而被带走，在通过水幕帘时被水冲入水槽，微小颗粒的粉尘可被离心风机产生的气流带动，进入分离箱，同时，离心风机使水槽里的水形成漩涡，并且与微小颗粒的粉尘结合，然后回流至水槽，排出干净的空气，具有结构简单，安全性高，除尘效果好的优点。

附图说明

图1为本实用新型实施例自激式水幕单机打磨抛光除尘器的结构示意图。

图2为本实用新型实施例自激式水幕单机打磨抛光除尘器的剖视图。

图3为图1中A处的局部放大图。

图4为图1中B处的局部放大图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型实施例作进一步说明：

如图所示，一种自激式水幕单机打磨抛光除尘器，包括电机1，机壳2，设置在所述机壳2底部的水槽3，分别设置在水槽3上方的抛光盘4和除尘装置5；所述除尘装置包括设置在与所述抛光盘4同一径向平面并且垂直于地面的水幕板51，设置在所述水幕板51后面并且分离粉尘与空气的分离箱52以及安装在所述分离箱52上的离心风机53，工件打磨作业时，大颗粒的粉尘直接掉入水里，小颗粒的粉尘由于抛光盘的惯性而被带走，在通过水幕帘时被水冲入水槽，微小颗粒的粉尘可被离心风机53产生的气流带动，进入分离箱，同时，离心风机53使水槽3里的水形成漩涡，并且与微小颗粒的粉尘结合，然后回流至水槽3，排出干净的空气。

所述抛光盘4有两个，所述电机1安装在所述抛光盘4中间，并且同时驱动所述抛光盘4逆时针转动，抛光盘4打磨工件，打磨下来的大颗粒粉尘直接掉入水里，沉淀下去，小颗粒粉尘由于抛光盘4的惯性甩入水幕帘，被水流冲入水槽3，微小颗粒在离心风机53的作用下随气流进入分离箱52。

所述分离箱52内设有若干块向下倾斜且相向交错设置的挡板521，所述水槽3里的水形成的漩涡与空气中的微小粉尘结合，被所述挡板521挡住，又回流到所述水槽3中。

所述挡板521的端部设有向下倾斜的折弯部522，控制附着在所述挡板521上的水滴回流到所述水槽3，同时防止水流被离心风机的风力吸走。

所述分离箱52的入口处设有S型气流通道523，所述S型气流通道523由设置在所述分离箱52最下层的所述挡板521下方的上叶片524以及设置在所述水槽里的下叶片525组成，水槽被离心风机激起水花，与含尘气体接触，由于吸力的作用，含尘气体在S型气流通道523中形成一个旋涡室，从而产生了必要的尘粒和水滴的相对运动，成为一种有效的除尘过程。离开S型气流通道523后，载尘的水滴向下进入水槽，净化后的气体则通过离心风机53排出。

所述离心风机53设有净气出口531，所述净气出口531上设有消音器532，减少噪音的污染。

还包括设置在所述抛光盘4上方的外壳罩6，所述外壳罩6上设有一端与其铰接并且另一端可绕铰接点摆动的弧形罩61，所述弧形罩61设有与所述外壳罩6配合的限位槽62，可以调节弧形罩，使外壳罩能适应各个尺寸的抛光盘。

所述水幕板51上方设有小水箱511，所述水槽3与小水箱511之间设有水循环装置7，所述水循环装置7采用循环水泵，循环水泵从水槽3中将水传送至所述小水箱511，水流沿着所述水幕板往下流入水槽中，带走甩进来的小颗粒粉尘。

实施例不应视为对实用新型的限制，但任何基于本实用新型的精神所作的改进，都应在本实用新型的保护范围之内。