本实用新型涉及一种处理装置,特别涉及一种塑料检查井防护井盖荧光处理装置。
背景技术:
塑料一体注塑检查井是指构成检查井的主要井座部分采用一次性注塑成型,井筒插口采用360度环型承载平台,井身及井座底部采用网状加强筋,各承插口采用环型加强筋设计。根据接管数和角度不同有起始井座、直通井座、45度弯头井座、三通井座、四通井座等。为了适应各种排水状况,塑料检查井同时配套有变径接头、汇流接头、井筒多接头等与之配套的塑料一体注塑成型配件。以保障整个排水系统的流畅和密封性。现有的塑料检查井防护井盖不具有荧光警示功能,警示效果差,安全性低。
技术实现要素:
本实用新型的主要目的在于提供一种将防护井盖通过磁吸块安装在磁吸座上,驱动电机通过旋转轴可以控制磁吸座实现转动,从而方便对防护井盖进行转动控制,荧光液喷射到防护井盖的外表面上,从而方便制备荧光防护井盖的塑料检查井防护井盖荧光处理装置。
为实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:
一种塑料检查井防护井盖荧光处理装置,包括底板,底板上设有第一侧板与第二侧板,第一侧板与第二侧板呈竖直布置,第一侧板与第二侧板之间设有对接板,第一侧板与第二侧板的端部之间设有载物板,载物板上设有喷液机,喷液机的前部设有喷液壳,喷液壳的内部为空腔结构,喷液壳的外侧壁位置设有若干喷液孔,喷液壳与喷液机之间设有控制泵;底板上设有第一支撑柱与第二支撑柱,第一支撑柱与第二支撑柱呈竖直布置,第一支撑柱与第二支撑柱之间设有对接柱,第一支撑柱与第二支撑柱的端部之间设有载物座,载物座上设有驱动电机,驱动电机连接有旋转轴,旋转轴的前部设有磁吸座,磁吸座上设有磁吸块,磁吸块与磁吸座通过磁力吸附连接;磁吸座设置在喷液壳的前方。
进一步地,所述载物座上设有第一限位片与第二限位片,第一限位片设置在驱动电机的一侧,第二限位片设置在驱动电机的另一侧。
进一步地,所述第一限位片与第二限位片均为片状结构。
进一步地,所述对接柱的内部为空腔结构。
进一步地,所述第一侧板、第二侧板以及对接板的横截面为H型形状。
与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:通过第一侧板与第二侧板可以方便对载物板进行安装,从而方便对喷液机进行安装,喷液机通过控制泵可以使荧光液输送到喷液壳内,通过喷液孔可以使荧光液喷射处理;将防护井盖通过磁吸块安装在磁吸座上,驱动电机通过旋转轴可以控制磁吸座实现转动,从而方便对防护井盖进行转动控制,荧光液喷射到防护井盖的外表面上,从而方便制备荧光防护井盖。
【附图说明】
图1为本实用新型塑料检查井防护井盖荧光处理装置的结构示意图。
【具体实施方式】
为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本实用新型。
如图1所示,一种塑料检查井防护井盖荧光处理装置,包括底板1,底板1上设有第一侧板2与第二侧板3,第一侧板2与第二侧板3呈竖直布置,第一侧板2与第二侧板3之间设有对接板4,第一侧板2与第二侧板3的端部之间设有载物板5,载物板5上设有喷液机6,喷液机6的前部设有喷液壳7,喷液壳7的内部为空腔结构,喷液壳7的外侧壁位置设有若干喷液孔8,喷液壳7与喷液机6之间设有控制泵9;底板1上设有第一支撑柱10与第二支撑柱11,第一支撑柱10与第二支撑柱11呈竖直布置,第一支撑柱10与第二支撑柱11之间设有对接柱12,第一支撑柱10与第二支撑柱11的端部之间设有载物座19,载物座19上设有驱动电机13,驱动电机13连接有旋转轴14,旋转轴14的前部设有磁吸座15,磁吸座15上设有磁吸块16,磁吸块16与磁吸座15通过磁力吸附连接;磁吸座15设置在喷液壳7的前方;载物座19上设有第一限位片17与第二限位片18,第一限位片17设置在驱动电机13的一侧,第二限位片18设置在驱动电机13的另一侧;第一限位片17与第二限位片18均为片状结构;对接柱12的内部为空腔结构;第一侧板2、第二侧板3以及对接板4的横截面为H型形状。
本实用新型塑料检查井防护井盖荧光处理装置,通过第一侧板2与第二侧板3可以方便对载物板5进行安装,从而方便对喷液机6进行安装,喷液机6通过控制泵9可以使荧光液输送到喷液壳7内,通过喷液孔8可以使荧光液喷射处理;将防护井盖通过磁吸块16安装在磁吸座15上,驱动电机13通过旋转轴14可以控制磁吸座15实现转动,从而方便对防护井盖进行转动控制,荧光液喷射到防护井盖的外表面上,从而方便制备荧光防护井盖。
其中,载物座19上设有第一限位片17与第二限位片18,第一限位片17设置在驱动电机13的一侧,第二限位片18设置在驱动电机13的另一侧;第一限位片17与第二限位片18均为片状结构;所以通过第一限位片17与第二限位片18可以方便卡接驱动电机13。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。