用于加热塑料型坯的设备和加热装置的制造方法

文档序号:9625554阅读:457来源:国知局
用于加热塑料型坯的设备和加热装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种用于加热塑料容器的设备,尤其涉及一种加热塑料型坯的设备。现有技术已知的是,特别由PET制成的所谓的塑料型坯首先在窑炉内加热,然后在吹塑工艺(尤其是拉伸吹塑工艺)的情况下被变形或膨胀成具有期望的最终形式的塑料容器。红外辐射器通常用作加热部件。
【背景技术】
[0002]为了提高由所使用的辐射进行加热的效率,现有技术已知的是使用反射器。为此,这些反射器设置成使得这些反射器反射不在待加热的塑料型坯的方向上朝向塑料型坯传播的辐射。通过使用反射器,不仅能够增大加热设备的总体效率,而且能够相对于所需要的温度调节以针对性的方式更精确地区分塑料型坯的单独的区域。
[0003]为了后续成功并有效地进行拉伸吹塑工艺,在加热设备中以针对性的方式将增大的辐射应用于塑料型坯的单独区域中是非常重要的,但是将衰减的辐射仅应用于其他区域中。因此,例如,塑料型坯通常具有在顶部打开的嘴部区域,该嘴部区域通常形成为外螺纹,并且在塑料型坯的生产过程中已经需要制成的容器的嘴部区域的形状。因此,精确地,在吹塑过程中,这个区域不应膨胀并因此而变形。为此,需要在加热系统中应用辐射时省略塑料型坯的嘴部区域。
[0004]现有技术中反射器是众所周知的,其中,由加热部件发射的辐射可通过反射器的反射表面的特定曲率聚焦。从DE 10 2010 049 136 A1中已知用于加热型坯的加热系统,其中,提供了背反射器(back reflector),该背反射器具有露出的区域或凹部,以便能够设置为尽可能接近IR辐射器。从EP 2 110 225 A1中已知一种用于加热用于生产容器的型坯的灯具装置,该装置具有弯曲成圆弧形状的反射器。此外,已知涂覆的辐射源。
[0005]从已知的专利申请中获知的一种加热系统具有反射器装置,该反射器装置具有:第一区段,其具有大体上抛物线形弯曲的构造;以及第二区段,其具有弯曲的构造,该构造的曲率与第一区段的曲率不同。
[0006]此外,已知透镜辐射器或抛物线形辐射器,该辐射器的具有圆形或椭圆形截面的玻璃管被改变成使得玻璃管的内壳表面的大部分设置有反射涂层。
[0007]现有技术不利地表明,由于大幅远离辐射源并且因此需要大的安装宽度,因此远离辐射源的单独安装的反射器需要大的安装空间。另一方面,涂覆辐射器始终具有圆形截面。因此,本发明的目的是设计一种用于塑料型坯的加热系统,通过该加热系统实现缩小的安装空间。

【发明内容】

[0008]根据本发明实现了这个目的。
[0009]根据本发明的用于加热塑料型坯的设备具有输送装置,该输送装置沿着预定的输送路径输送所述塑料型坯。此外,该设备具有至少一个加热装置,其中,所述加热装置具有至少一个第一辐射源,其发射热辐射,并且该加热装置具有至少一个反射器装置,其在塑料型坯的方向上反射由所述辐射源发射的至少部分的热辐射。
[0010]根据本发明,反射器装置可附接至辐射源和/或辐射源的至少一个辐射源座架,并且反射装置具有支架以及反射元件,反射元件在至少一个区域上支承抵靠于支架,并适于反射辐射。
[0011 ] 优选地,反射器装置的反射元件相对于辐射源和/或塑料型坯或塑料型坯的输送路径设置,以使得由该反射元件反射的辐射分量直接到达塑料型坯。这里重要的是,由辐射源发射的至少一部分辐射直线地冲击在反射元件上。
[0012]在这种情况下,可附接至辐射源或辐射源座架的反射器装置要理解为表示反射器装置例如仅一次附接至辐射源或辐射源座架,然后,在这个辐射源或辐射源座架上保持固定。然而,可附接的反射器装置还可多次附接至相同或者不同的辐射源或辐射源座架,并且可再次拆除。这种情况下,可附接的反射器装置可以直接附接至辐射源,这尤其表示发射器装置支承抵靠于辐射源上的至少一个接触区域上,或紧固至该接触区域。
[0013]因此,本发明提出了一种用于加热塑料型坯的设备,其中,反射器装置可以附接至辐射源或附接至辐射源,而不像例如现有技术中所述的远离辐射源。
[0014]反射器装置优选地构造成使得反射器装置适于附接至标准的辐射源。标准的辐射源是通常在加热塑料型坯的情况下使用的辐射源。因此,具有这种标准的辐射源的设备可用根据本发明的反射器装置改装。
[0015]因此,根据本发明的反射器装置构成加热设备的元件,与根据现有技术的隔开的反射器装置相比,根据本发明的反射器装置与辐射源分开并且可设置为更接近辐射源。
[0016]优选地,反射元件和支架不由相同的材料制成,而是由不同的材料制成。在这种情况下,支架材料优选地具有高耐热性。
[0017]反射元件优选地具有非常好的反射性能。由于反射元件的横截面轮廓的设计,即,由于反射表面的设计,所以辐射可以特别地定向、集中或聚焦。反射元件优选地由支架的至少一个区域的涂层生成。因此,特别优选地,由具有金和/或陶瓷的涂层或处理表面(例如,抛光面)设置反射元件。
[0018]由于反射器装置可以直接附接至辐射源,所以反射元件位于辐射源附近。因此,实现了高水平的效率。对于与辐射源相距更大距离的反射元件,需要更大的反射表面以便能够覆盖与具有更小距离的反射元件相同的相对于反射辐射的立体角。一方面,这导致更低的材料成本,并且另一方面,与远离辐射源的相似横截面轮廓的反射器装置相比,使用根据本发明的反射器装置只需更小的安装空间。因此,与现有技术相比,具有相应合适的反射器装置的更多个辐射源可以优选地设置在加热箱内。
[0019]此外,在优选地可以使用条形轮廓的范围内,根据本发明的设备具有成本效益的目标。
[0020]此外,在所描述的反射器装置内能够无需单独的冷却系统,然而,例如在现有技术中,在铝反射器的情况下,需要空气和/或水冷却系统。
[0021]优选地,辐射源主要发射红外辐射。然而,还可以使用发射的辐射有利地包括在近红外范围(NIR)内的部分和/或在远红外范围(FIR)内的部分的辐射源。
[0022]通常在加热源中使用细长的、条形辐射源。由这个细长形状的辐射源确定的方向称为纵向方向。纵向方向优选地与塑料型坯的输送方向对应。
[0023]在优选的实施方式中,反射元件在垂直于辐射源的纵向方向的平面中具有预定的横截面,该预定的横截面偏离(deviate from,背离,不同于)圆环形部段形状的横截面。因此,由于反射元件的横截面轮廓具有合适的构造,所以在特定的区域内能够进行反射的辐射得特定的聚焦和/或能够减小反射的辐射的能量密度。在这种情况下,可以独立于辐射源的横截面形状选择反射元件的横截面轮廓并且尤其选择其反射表面所产生的曲率,与现有技术形成对比。因此,例如具有直线反射区段的反射器装置可以附接至具有圆形横截面的常规的条形辐射源。通过这种方式,由于反射元件定位成非常接近辐射源,所以不仅能够具有节省空间的构造,而且反射元件也能够具有各种不同的横截面轮廓或曲率。
[0024]在另一有利的实施方式中,反射元件的面向辐射源的表面构造成使得该表面至少部分地沿循抛物线形弯曲的构造。抛物线形弯曲的构造优选地位于垂直于塑料型坯的输送方向的平面内。在输送时,塑料型坯优选地是竖直的,即,塑料型坯的嘴部在顶部处。因此,可附接的反射器装置优选地构造成至少在部分区段内为抛物线形的反射器。
[0025]在另一有利的实施方式中,反射元件的面向辐射源的表面构造成使得该表面至少部分地沿循椭圆形弯曲的构造。椭圆形弯曲的构造优选地位于垂直于塑料型坯的输送方向的平面内。因此,可附接的反射器装置优选地构
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