钐掺杂镓锑酸盐发光材料、制备方法及其应用
【专利说明】
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种钐掺杂镓锑酸盐发光材料、其制备方法、钐掺杂镓锑酸盐发光薄膜、其制备方法、薄膜电致发光器件及其制备方法。
【【背景技术】】
[0002]薄膜电致发光显示器(TFELD)由于其主动发光、全固体化、耐冲击、反应快、视角大、适用温度宽、工序简单等优点，已引起了广泛的关注，且发展迅速。目前，研究彩色及至全色TFELD，开发多波段发光的材料，是该课题的发展方向。但是，可应用于薄膜电致发光显示器的钐掺杂镓锑酸盐发光材料，仍未见报道。
【
【发明内容】
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[0003]基于此，有必要提供一种可应用于薄膜电致发光器件的钐掺杂镓锑酸盐发光材料、其制备方法、钐掺杂镓锑酸盐发光薄膜、其制备方法、使用该钐掺杂镓锑酸盐发光材料的薄膜电致发光器件及其制备方法。
[0004]一种钐掺杂镓锑酸盐发光材料，其化学式为Me5Gai_xSb09:xSm3+，其中，x为0.01?0.05, Me选自镁元素，钙元素，锶元素和钡元素中至少一种。
[0005]一种钐掺杂镓锑酸盐发光材料的制备方法，包括以下步骤:
[0006]根据Me5GahSbO9:xSm3+各元素的化学计量比称取MeO，Ga2O3, Sb2O5和Sm2O3粉体并混合均匀，其中，X为0.01?0.05, MeO选自氧化镁,氧化I丐,氧化银和氧化钡中至少一种；及
[0007]将混合均匀的粉体在900°C?1300°C下烧结0.5小时?5小时即得到化学式为
Me5Ga1^xSbO9:xSm3+的钐掺杂镓锑酸盐发光材料，Me选自镁元素，钙元素，锶元素和钡元素中至少一种。
[0008]一种钐掺杂镓锑酸盐发光薄膜，该钐掺杂镓锑酸盐发光薄膜的材料的化学通式为Me5Ga1^xSbO9:xSm3+，其中，x为0.01?0.05，Me选自镁元素，钙元素，锶元素和钡元素中至少一种。
[0009]一种钐掺杂镓锑酸盐发光薄膜的制备方法，包括以下步骤:
[0010]根据Me5GahSbO9:xSm3+各元素的化学计量比称取MeO，Ga2O3, Sb2O5和Sm2O3粉体并混合均匀在900°C?1300°C下烧结0.5小时?5小时制成靶材，其中，x为0.01?0.05，Me选自氧化镁，氧化钙，氧化锶和氧化钡中至少一种；
[0011]将所述靶材以及衬底装入磁控溅射镀膜设备的真空腔体，并将真空腔体的真空度设置为 1.0X KT3Pa ?1.0X KT5Pa ;及
[0012]调整磁控溅射镀膜工艺参数为:基靶间距为45mm?95mm，磁控溅射工作压强0.2Pa?4Pa，工作气体的流量为1sccm?40sccm，衬底温度为250°C?750°C，激光能量为80MJ?300MJ，接着进行制膜，得到化学式为Me5GahSbO9:xSm3+的钐掺杂镓锑酸盐发光薄膜，X为0.01?0.05，Me选自镁元素，钙元素，锶元素和钡元素中至少一种。
[0013]所述的钐掺杂镓锑酸盐发光薄膜的制备方法，所述真空腔体的真空度为
5.0X10_4Pa，基靶间距为60mm，磁控溅射工作压强为2.0Pa，工作气体为氧气，工作气体的流量为20SCCm，衬底温度为500°C，激光能量为150MJ。
[0014]一种薄膜电致发光器件，该薄膜电致发光器件包括依次层叠的衬底、阳极层、发光层以及阴极层，其特征在于，所述发光层的材料为钐掺杂镓锑酸盐发光材料，该钐掺杂镓锑酸盐发光材料的化学式为Me5GahSbO9:xSm3+，其中，x为0.01?0.05，Me选自镁元素，钙元素，锶元素和钡元素中至少一种。
[0015]一种薄膜电致发光器件的制备方法，包括以下步骤:
[0016]提供具有阳极的衬底；
[0017]在所述阳极上形成发光层，所述发光层的材料为钐掺杂镓锑酸盐发光材料，该钐掺杂镓锑酸盐发光材料的化学式为Me5Ga^SbO9:xSm3+，其中，x为0.01?0.05，Me选自镁元素，钙元素，锶元素和钡元素中至少一种；
[0018]在所述发光层上形成阴极。
[0019]所述发光层的制备包括以下步骤:
[0020]根据Me5GahSbO9:xSm3+各元素的化学计量比称取MeO，Ga2O3, Sb2O5和Sm2O3粉体并混合均匀在900°C?1300°C下烧结0.5小时?5小时制成靶材，其中，x为0.01?0.05，MeO选自氧化镁,氧化韩,氧化银和氧化钡中至少一种；
[0021]将所述靶材以及所述衬底装入磁控溅射镀膜设备的真空腔体，并将真空腔体的真空度设置为 1.0X KT3Pa ?1.0X KT5Pa ；
[0022]调整磁控溅射镀膜工艺参数为:基靶间距为45mm?95mm，磁控溅射工作压强0.2Pa?4Pa，工作气体的流量为1sccm?40sccm，衬底温度为250°C?750°C，激光能量为80MJ?300MJ，接着进行制膜，得到化学式为Me5GahSbO9:xSm3+的钐掺杂镓锑酸盐发光薄膜，X为0.01?0.05，Me选自镁元素，钙元素，锶元素和钡元素中至少一种，在所述阳极上形成发光层。
[0023]所述X 为 0.02。
[0024]上述钐掺杂镓锑酸盐发光材料(Me5GahSbO9:xSm3+)制成的发光薄膜的电致发光光谱(EL)中，在638nm和727nm波长区都有很强的发光峰，能够应用于薄膜电致发光显示器中。
【【附图说明】】
[0025]图1为一实施方式的薄膜电致发光器件的结构示意图；
[0026]图2为实施例1制备的钐掺杂镓锑酸盐发光薄膜的电致发光谱图；
[0027]图3为实施例1制备的钐掺杂镓锑酸盐发光薄膜的XRD图；
[0028]图4是实施例1制备的薄膜电致发光器件的电压与电流密度和电压与亮度之间的关系曲线图。
【【具体实施方式】】
[0029]下面结合附图和具体实施例对钐掺杂镓锑酸盐发光材料、其制备方法、钐掺杂镓锑酸盐发光薄膜、其制备方法、薄膜电致发光器件及其制备方法进一步阐明。
[0030]一实施方式的钐掺杂镓锑酸盐发光材料，其化学式为Me5GahSbO9:xSm3+，其中，x为0.01?0.05, Me选自镁元素，|丐元素,银元素和钡元素中至少一种。
[0031]优选的，X为 0.02。
[0032]该钐掺杂镓锑酸盐发光材料中Me5GahSbO9是基质，Sm3+离子激活元素。该钐掺杂镓锑酸盐发光材料制成的发光薄膜的电致发光光谱(EL)中，在638nm和727nm波长区都有很强的发光峰，能够应用于薄膜电致发光显示器中。
[0033]上述钐掺杂镓锑酸盐发光材料的制备方法，包括以下步骤:
[0034]步骤S11、根据Me5GanSbO9:xSm3+各元素的化学计量比称取MeO，Ga2O3, Sb2O5和Sm2O3粉体并混合均匀，其中，X为0.01?0.05, MeO选自氧化镁,氧化|丐，氧化银和氧化钡中至少一种。
[0035]该步骤中，优选的，X为0.02。
[0036]步骤S12、将混合均的粉体在900°C?1300°C下烧结0.5小时?5小时即可得到钐掺杂镓锑酸盐发光材料，其化学式为Me5GanSbO9:xSm3+，其中，其中，x为0.01?0.05，Me选自镁元素，钙元素，锶元素和钡元素中至少一种。
[0037]该步骤中，优选的在1250°C下烧结3小时。
[0038]一实施方式的钐掺杂镓锑酸盐发光薄膜，该钐掺杂镓锑酸盐发光薄膜的材料的化学通式为Me5GahSbO9:xSm3+的钐掺杂镓锑酸盐发光材料，Me选自镁元素，钙元素，锶元素和钡元素中至少一种。
[0039]优选的，X为 0.02。
[0040]上述钐掺杂镓锑酸盐发光薄膜的制备方法，包括以下步骤:
[0041]步骤S21、按 Me5Ga^xSbO9:xSm3+各元素的化学计量比称取 MeO，Ga2O3, Sb2O5 和 Sm2O3粉体并混合均匀在900°C?1300°C下烧结0.5小时?5小时制成靶材，其中，x为0.01?0.05。
[0042]该步骤中，优选的，X为0.02，在1250°C下烧结3小时成直径为50mm，厚度为2mm的陶瓷靶材。
[0043]步骤S22、将步骤S21中得到的靶材以及衬底装入磁控溅射镀膜设备的真空腔体，并将真空腔体的真空度设置为1.0X 10_3Pa?1.0X 10_5Pa。
[0044]该步骤中，优选的，真空度为5X10_4Pa。
[0045]步骤S23、调整磁控溅射镀膜工艺参数为:基靶间距为45mm?95臟，磁控溅射工作压强0.2Pa?4Pa，工作气体的流量为1sccm?40sccm，衬底温度为250°C?750°C ;激光能量为80MJ?300MJ，接着进行制膜，得到化学式为Me5GahSbO9:xSm3+的钐掺杂镓锑酸盐发光薄膜，MeO选自氧化镁，氧化钙，氧化锶和氧化钡中至少一种。
[0046]该步骤中，优选的基靶间距为60mm，磁控溅射工作压强3Pa，工作气体为氧气，工作气体的流量为20SCCm，衬底温度为500°C，激光能量为150MJ。
[0047]请参阅图1，一实施方式的薄膜电致发光器件，该薄膜电致发光器件包