用于液晶玻璃蚀刻装置的药液的更新方法、药液更新用喷嘴及更新用药液的利记博彩app
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种用于液晶玻璃蚀刻装置的药液的更新方法、药液更新用喷嘴及更 新用药液。
【背景技术】
[0002] 液晶玻璃通过化学处理被蚀刻，但为此而应用的处理方法能够大致分为以薄板 化、轻量化为目的的减薄法（SlimmingMethod)和以产品形状加工为目的的图案形成法。在 此，在化学处理中的不可避免的问题之一就是被加工物质与蚀刻液的反应而生成的固体物 质。若导致因该固体物质的堆积而阻碍液体流动以及污染加剧，则难以进行基于连续过滤 处理方法的蚀刻液管理，或难以应对高精度的制造设备。
[0003] 并且，蚀刻剂即将作为将相对于液晶玻璃组件的蚀刻液吐出到液晶玻璃等时的喷 嘴，根据各种情况使用与蚀刻装置相比相对小型的喷嘴。之所以使用小型喷嘴，是因为1个 液晶玻璃组件需要多个小型喷嘴，必然会引起多个喷嘴中蚀刻液吐出条件的均匀化问题。 液晶玻璃组件内部的蚀刻的偏差也会影响产品规格，因此难以通过组合小型喷嘴来实现液 晶玻璃组件内部的均匀化，而需要根本性对策。
[0004] 经调查以往技术获知，有日本专利公开2002-251794号的光致抗蚀剂去除装置， 该装置的目的虽然在于以通过从多个喷雾喷嘴喷出的置换/清洗液来置换药物并将其去 除，并且，通过使玻璃原板保持件旋转来摇晃置换/清洗液，但也是一个小型喷嘴的使用 例。并且，日本专利公开2003-91885号中，作为去除光致抗蚀剂层的构件具备液体吐出喷 嘴，该喷嘴在使玻璃基板旋转的同时进行超声波振动的基础上，将光阻材料去除药液滴到 玻璃基板表面，用于此的喷嘴也是小型喷嘴。如此，用于蚀刻液吐出的喷嘴通常为小型喷 嘴。
[0005] 专利文献1 :日本专利公开2002-251794号
[0006] 专利文献2 :日本专利公开2003-91885号
【发明内容】
[0007] 本发明鉴于上述情况而完成，其课题在于为了以维持最佳环境的状态进行液晶玻 璃的蚀刻而促进用于液晶玻璃蚀刻装置的药液的更新，且由此获得高品质的液晶玻璃组 件。并且，本发明的另一课题在于将用于蚀刻装置的药液同时吐出到液晶玻璃组件整体并 且抽吸上述药液，由此实现高精度的玻璃蚀刻。
[0008] 为解决所述课题，本发明针对用于液晶玻璃蚀刻装置的药液的更新方法，采用如 下手段，即在填充药液的蚀刻液槽中配置药液的吐出用喷嘴和抽吸用喷嘴，且在药液中浸 泡上述喷嘴的状态下进行药液的吐出、抽吸，同时进行使用上述喷嘴的吐出、抽吸以向药液 施加均匀的应力，由此促进药液的更新。
[0009] 本发明涉及一种液晶玻璃的蚀刻，所使用的药液主要为用于蚀刻处理的蚀刻剂即 蚀刻液，或者为用于清洗通过玻璃成分与蚀刻液的反应而生成的固体成分的蚀刻装置的清 洗处理的清洗液等。
[0010] 蚀刻装置由在装置的蚀刻液槽的内部搬入液晶玻璃的输送带、向输送带上的液晶 玻璃吐出蚀刻液的喷嘴、供给蚀刻液的配管及各种阀装置等构成，与它们的蚀刻液接触的 部分常常处于被蚀刻液淋湿的状态。而在非运行状态下不会流动，并且有时蚀刻液会泄漏， 因此非运行状态下上述液体成分会干燥。如此，若反复出现被蚀刻液淋湿和干燥，则固体成 分每次都会在蚀刻装置的表面上成为层而反复堆积，其结果，固体成分堆积在与蚀刻液接 触的部分而阻碍蚀刻液的流动，即便是精密的蚀刻装置也越来越难以发挥其原有的性能。 如此，用于液晶玻璃的蚀刻的蚀刻液成为对蚀刻装置造成不好的影响的诱因，因此相当于 本发明中的药液。然而，此外必须清洗蚀刻液的固体成分，因此清洗蚀刻装置等的清洗液作 为本发明中的药液也至关重要。通过适当实施上述蚀刻液、清洗液等药液的更新来保证精 密的蚀刻加工，并且，蚀刻装置经清洗之后始终维持最佳的状态，因此能够稳定地实施精密 的蚀刻加工。
[0011] 并且，本发明的用于液晶玻璃蚀刻装置的药液的更新方法中，用于药液的吐出及 抽吸的喷嘴具有如下结构，即为同时对蚀刻处理对象的液晶玻璃组件的整体进行药液的吐 出、抽吸，而具备具有液晶玻璃组件的长度以上的长度的狭缝状的开口部。在此，对本发明 中的喷嘴的意义进行具体说明。图1中，11为本发明的喷嘴，12为蚀刻液的液面，13为通过 感光性材料图像形成的抗蚀剂，14为在其上开口的开口部，15为液晶玻璃，并且16为由粘 着片构成的保护材，保护成为图案形成方法中的传感器驱动电路的金属蒸镀膜17。上述仅 仅是液晶玻璃15的结构的一例。图1所示的开始蚀刻时，相对于开口部14的宽度K深度 J1较浅，通过来自喷嘴11的吐出应力而获得排出开口部内的蚀刻液所需的充分的作用，因 此实际可以认为不存在蚀刻液排出的障碍。
[0012] 而进行蚀刻反应，且如图2所示开口部14若增大至深度J2,则蚀刻液从喷嘴11到 达开口底部的距离增加，因此从蚀刻液受到的排出方向的阻力R成为增加的趋势。阻力R 以R=J/K(J为深度J1或J2)表示。因此，发生开口部14的内部的药液（此时为蚀刻液） 的更新效率下降且垂直方向的蚀刻特性下降的状况，而且当小型喷嘴中附着反应产物并堆 积时，其影响显而易见。
[0013] 因此图2中可知，若从喷嘴11将抽吸的应力施加到抗蚀剂开口部14,则应力向J2 方向作用，将与和喷嘴11相对应的抗蚀剂开口部14的接触距离（长度）作为L并乘以作 用剖面J2(深度）XK(宽度）的积，即与J2XKXL的体积相当的药液得到更新。通过药液 的更新，若在相同系统的液体中，则能够将相当于被喷嘴11抽吸的总体积的量的药液在同 一时间内供给到液体槽的例如底部，由此促进药液更新，尤其将垂直方向的蚀刻特性维持 在最佳状态。
[0014] 本发明的喷嘴20通过上述方法改善因蚀刻处理而产生的不良状况，不仅对蚀刻 处理有效，还对向蚀刻装置等的清洗液的吐出有效，因此如图3所示，为同时向液晶玻璃组 件22整体吐出药液，而具备具有液晶玻璃组件的长度N以上的长度M的狭缝状开口部21。 图3中示出具有多个产品23的液晶玻璃组件22,每一个产品23之间为空白（余白）。另 外，图3仅表示概念，现实中不太可能。
[0015] 其中，若能够同时向液晶玻璃组件22整体吐出药液，则无需具有液晶玻璃组件22 的长度N以上的长度，例如可通过连结多个比上述长度短的狭缝状开口部来构成喷嘴。即 可考虑将喷嘴大致分割成2、3个左右，使这些同时吐出药液，也将此考虑在可行范围内。然 而，组合多个喷嘴时，在多个液流的边界部分发生卡门涡街，不论其影响大小都会影响到玻 璃组件。因此，除了逼不得已的情况或以此能够获得较大的利益的情况之外，利益较少。虽 然有这种情况，但不仅是1个狭缝状开口部，还是分成多个，均满足本发明的要件，这点从 上述说明中即可了解。
[0016] 图4为应用本发明的浸泡型蚀刻装置的概略图（可以将上述图1、图2及图3想成 图4的一部分）。该图中，液晶玻璃组件22 -边通过输送带24移动，一边在装置的蚀刻液 槽25中受到蚀刻液的吐出作用，并且受到抽吸作用。26为喷射器（ejector)，27为吐出电 路，28为抽吸电路，它们分别具有可调整流量的阀。在这些电路27、28的管端，具有所述喷 嘴11的功能的喷嘴27a、28a隔着液晶玻璃组件22上下而设，并且抽吸流体以成为均匀的 应力的方式通过泵而经由回流电路29在液体槽内回流，由此实现药液的更新。
[0017] 如上所述，本发明中作为用于液晶玻璃蚀刻装置的药液有用于清洗通过附着于液 晶玻璃组件、及用于其蚀刻处理的装置及配件类的玻璃成分与蚀刻液的反应而生成的固体 成分的清洗液。并且，该清洗液以硝酸、过氧化氢、卤酸盐及其酸性盐作为必要成分而构成。
[0018] 作为成为本发明的对象的液晶玻璃组件能够使用至今所使用的通用的原料。通 常，相应的有用于薄膜晶体管（TFT)的超白玻璃、用于触控面板的蓝板玻璃（也用于超白玻 璃）等，但本发明也可应用于上述玻璃材料及上述以外的各种玻璃材料。
[0019] 作为相对于由上述各种玻璃材料构成的液晶玻璃组件的蚀刻剂即药剂，通常使用 盐酸、硫酸、硝酸、氟酸、酸性氟化铵及中性氟化铵……等。并且，玻璃成分组成中例如作为 稳定剂存在铝或钾的氧化物。因此，产生蚀刻液和作为稳定剂而添加的成分的反应产物，而 产生该反应产物作为溶解度低的疏水盐而析出的问题。
[0020] 所析出的物质例如在纯碱系蓝板玻璃中有似2