一种二氧化氯发生装置的利记博彩app

文档序号:12001137阅读:664来源:国知局
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本实用新型涉及发生装置技术领域,尤其涉及一种二氧化氯发生装置。



背景技术:

二氧化氯是安全、无毒的消毒剂,无“三致”效应(致癌、致畸、致突变),同时在消毒过程中也不与有机物发生氯代反应生成可产生“三致作用”的有机氯化物或其它有毒类物质。但由于二氧化氯具有极强的氧化能力,应避免在高浓度时(>500ppm)使用。当使用浓度低于500ppm时,其对人体的影响可以忽略,100ppm以下时不会对人体产生任何的影响,包括生理生化方面的影响。对皮肤亦无任何的致敏作用。事实上,二氧化氯的常规使用浓度要远远低于500ppm,一般仅在几十ppm左右。因此,二氧化氯也被国际上公认为安全、无毒的绿色消毒剂。二氧化氯的用途十分广泛,但是二氧化氯的现有制备方法需要用到工业大型设备,这使得其使用场合大大受限,这就需要一种简易轻便的适合不同环境的二氧化氯发生装置。



技术实现要素:

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种二氧化氯发生装置。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

设计一种二氧化氯发生装置,包括外壳,所述外壳的顶部安装有顶盖,所述顶盖的边缘对称设置有两个锁扣,所述锁扣与外壳顶部连接,所述顶盖中间设置有圆孔,所述圆孔内插装有连接杆,所述连接杆的一端延伸到外壳内且连接有反应仓,所述连接杆的另一端位于外壳外且通过螺纹连接有控制杆,所述连接杆为中空杆,且连接杆内部与反应仓的内部相连,所述连接杆靠近反应仓的一端设置有至少一个挡块,所述顶盖上设置有与挡块匹配的槽,所述反应仓侧面设置有开口,开口内设置有过滤网,所述外壳内的上部设置有密封圈,且所述反应仓的底部卡在密封圈内,所述外壳的一侧设置有出气口,所述出气口上设置有控制阀。

优选的,所述外壳内的底部设置有加热管,所述加热管连接有导线,导线延伸到外壳的外部并连接有插头。

优选的,所述外壳的外侧设置有提手。

优选的,所述外壳内壁设置有玻璃耐腐蚀层。

本实用新型提出的一种二氧化氯发生装置,有益效果在于:

1、制备二氧化氯的原料收纳在一个罐体内,结构紧凑。

2、通过转动或上下移动控制杆控制二氧化氯的生成,操作简单。

3、底部设置有加热管,可以加快生成速度。

4、本实用新型结构紧凑、简单,十分轻便,适用于各种需要使用二氧化氯消毒的场合。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种二氧化氯发生装置的结构示意图;

图2为本实用新型提出的一种二氧化氯发生装置的使用状态的示意图。

图中:控制杆1、连接杆2、挡块3、过滤网4、反应仓5、提手6、加热管7、插头8、出气口9、控制阀10、密封圈11、外壳12、锁扣13、顶盖14、圆孔15。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。

参照图1-2,一种二氧化氯发生装置,包括外壳12,外壳12的顶部安装有顶盖14,顶盖14的边缘对称设置有两个锁扣13,锁扣13与外壳12顶部连接,打开顶盖12可用于向外壳12内添加盐酸或者倒出废液。

顶盖14中间设置有圆孔15,圆孔15内插装有连接杆2,连接杆2的一端延伸到外壳12内且连接有反应仓5,连接杆2的另一端位于外壳12外且通过螺纹连接有控制杆1,连接杆2为中空杆,且连接杆2内部与反应仓5的内部相连,连接杆2靠近反应仓5的一端设置有至少一个挡块3,顶盖14上设置有与挡块3匹配的槽,取下控制杆1可以通过连接杆2向反应仓5内添加氯酸钠,旋转控制杆2可以让挡块3落入顶盖14上的开设的槽内,从而将反应仓5放入盐酸内,使反应仓5内的氯酸钠反应生成二氧化氯。

反应仓5侧面设置有开口,开口内设置有过滤网4,外壳12内的上部设置有密封圈11,且反应仓5的底部卡在密封圈11内,外壳12的一侧设置有出气口9,出气口9上设置有控制阀10,使用时通过出气口9输出二氧化氯,密封圈11环绕在反应仓5的四周,并且与反应仓5表面接触,防止盐酸挥发置外壳12的反应仓5中,当反应仓5处于最高位置时,设置的过滤网4位于密封圈11的上方,此时密封圈11将反应仓5的底部包裹,防止盐酸挥发从过滤网4进入反应仓5中。

外壳12内的底部设置有加热管7,加热管7连接有导线,导线延伸到外壳12的外部并连接有插头8,外壳12的外侧设置有提手6,外壳12内壁设置有玻璃耐腐蚀层,加热管7用于加速二氧化氯的生成速率。

工作流程:使用时,旋转控制杆1将反应仓5放入盐酸内,将插头8与电源连接加速二氧化氯的生成,打开控制阀10,输出二氧化氯气体,使用完毕将控制杆1向上提,并打开顶盖14,将废液倒出。

以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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