一种用于铜铝复合排的抛磨装置的制造方法

文档序号:9150083阅读:419来源:国知局
一种用于铜铝复合排的抛磨装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于金属材料表面处理领域,具体地说涉及一种用于铜铝复合排的抛磨装置。
【背景技术】
[0002]目前,在实践生产中,对金属型材、棒材的使用规范中要求金属材料表面光洁、平整、无毛刺,但是一般型材、棒材的加工工艺均为乳制及拉拔,加工后会有乳制痕或拉拔痕,这样需要进行打磨和抛光处理后方可使用。目前生产用于金属材料表面处理的装置主要沿用铝板使用的抛磨机,主要存在以下问题:1)噪音较大;2)其抛磨方式大多为干抛,抛磨过程中产生很多粉尘,尤其是铜粉飞扬在车间中,污染环境,危害工人的身体健康;3)每次抛磨仅能加工一个侧面或平面,属于单工序单面加工,需要多次反复操作才能完成工件的表面处理,抛磨效率低,不适应大批量、连续生产。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型为了解决上述现有的问题,而提供了一种用于铜铝复合排的抛磨装置。
[0004]本实用新型的技术方案是这样实现的:一种用于铜铝复合排的抛磨装置,包括机架和电气控制机构,机架上设有多个送进机构,前端的送进机构之间设有侧面抛磨机构,后端的送进机构之间设有平面抛磨机构,送进机构、侧面抛磨机构、平面抛磨机构之间设有水循环机构;
[0005]优选的,所述的送进机构包括设置在机架上的支架I和限位装置,支架I上设有压辊I和托辊I,压辊I可在支架I上滑动,压辊1、托辊I分别与上万向轴和下万向轴相连,上万向轴、下万向轴均与齿轮箱相连,齿轮箱通过联轴器I与减速电机I相连,限位装置与手轮I相连;
[0006]优选的,所述的侧面抛磨机构包括安装在机架上的密闭箱I,密闭箱I上安有控制器I,密闭箱I内的支架II上安有定位轮,定位轮与手轮III相连,支架II两端各安有压辊
I1、托辊II和压辊II1、托辊III,支架II上方设有千叶轮,千叶轮一端与螺旋齿轮换向器相连,另一端与密闭箱I外的气缸相连,螺旋齿轮换向器通过联轴器II与电机I相连,千叶轮与手轮II相连;
[0007]优选的,所述的平面抛磨机构包括安装在机架上的密闭箱II,密闭箱II上安有控制器II和手轮IV,手轮IV与减速电机II相连,密闭箱II内的支架III上安有压辊IV、压辊V、托辊IV、托辊V、托辊VI和从动辊,从动辊与主动辊通过砂带相连,主动辊通过密闭箱II外的联轴器III与电机II相连;
[0008]优选的,所述的水循环机构包括与密闭箱1、密闭箱II底部的出水管相连的过滤水槽,过滤水槽与水栗连接,水栗与主水管相连,主水管上的进水管与密闭箱1、密闭箱II相连;
[0009]优选的,所述的电气控制机构包括电器控制柜、安装在密闭箱II上的控制面板,控制面板包括总控制开关、水栗启动开关、水栗停止开关、气缸启动开关、气缸停止开关、送进启动开关、送进停止开关、平面抛磨机构启动开关、平面抛磨机构停止开关、侧面抛磨机构启动开关、侧面抛磨机构停止开关;
[0010]优选的,所述的送进机构包含一组及以上的子送进机构;
[0011]优选的,所述的侧面抛磨机构包含一组及以上的子侧面抛磨机构;
[0012]优选的,所述的平面抛磨机构包含一组及以上的子平面抛磨机构;
[0013]优选的,所述的过滤水槽为五级过滤水槽。
[0014]本实用新型的有益效果是:
[0015]1、在抛磨过程中,采用密闭箱体噪音很小,抛磨下来的铜粉在密闭箱内被水管中喷出的水带走,不易产生粉尘污染,保护工人的身体健康,同时水流将铜粉带入五级过滤水槽中,过滤后的水可以循环使用,而沉淀在水槽中的铜粉方便回收;
[0016]2、具有多功能性,可根据工件的不同加工要求,使用不同的加工及其组合,可对工件进行单工序侧面抛磨或平面抛磨,也可同时进行侧面抛磨和平面抛磨,降低不必要的能耗,工作效率高,操作方便,加工成本低,产品合格率高,便于大批量、连续化生产。
【附图说明】
[0017]图1是本实用新型的俯视结构示意图;
[0018]图2是本实用新型的子送进机构俯视结构示意图;
[0019]图3是本实用新型的子侧面抛磨机构俯视结构示意图;
[0020]图4是本实用新型的子平面抛磨机构主视结构示意图;
[0021]图5为本实用新型图4的A-A向剖面示意图;
[0022]图6为本实用新型图5的B-B向剖面示意图;
[0023]图7是本实用新型的电气控制机构的控制面板结构示意图。
[0024]零件说明:1、机架,2、送进机构,201、减速电机I,202、联轴器I,203、齿轮箱,204、上万向轴,205、限位装置,206、压辊I,207、手轮I,208、升降气缸,209、支架I,3、侧面抛磨机构,301、电机I,302、联轴器II,303、螺旋齿轮换向器,304、千叶轮,305、手轮II,306、气缸,307、支架 II,308、定位轮,309、手轮III,310、压辊 II,311、压辊III,312、控制器I,313、密闭箱I,4、平面抛磨机构,401、电机11,402、联轴器111,403、主动辊,404、支架III,405、压辊 IV,406、压辊 V,407、托辊 IV,408、托辊 V,409、托辊VI,410、从动辊,411、砂带,412、密闭箱II,413、手轮IV,414、减速电机II,415、控制器II,5、水循环机构,501、水栗,502、主水管,503、过滤水槽,6、电器控制机构,601、控制面板,602、总控制开关,603、水栗启动开关,604、水栗停止开关,605、气缸启动开关,606、气缸停止开关,607、送进启动开关,608、送进停止开关,609、平面抛磨机构启动开关,610、平面抛磨机构停止开关,611、侧面抛磨机构启动开关,612、侧面抛磨机构启动开关。
【具体实施方式】
[0025]为了更好地理解与实施,下面结合附图对本实用新型作进一步描述:如图1和图7所示,一种用于铜铝复合排的抛磨装置,包括机架I和电气控制机构6,机架I上设有7组送进机构2,前端3组送进机构2之间均设有2组侧面抛磨机构3,后端4组送进机构2之间均设有I组平面抛磨机构4,送进机构2、侧面抛磨机构3、平面抛磨机构4之间设有水循环机构5。
[0026]如图2所示,送进机构2由7组子送进机构组成,除前端第一组子送进机构外,每组子送进机构的结构完全相同,包括设置在机架I上的支架I 209和限位装置205,支架I 209上设有压辊I 206和托辊I,压辊I 206可在I 209上滑动,压辊I 206、托辊I分别与上万向轴204和下万向轴相连,上万向轴204、下万向轴均与齿轮箱203相连,齿轮箱203通过联轴器I 202与减速电机I 201相连,限位装置205与手轮I 207相连;其中,第一组子送进机构(如图1所示)处在本抛磨装置的最前端,其机构与其他子送进机构相比,增加两个齿轮、两个万向轴、一个压辊、一个托辊和两个升降气缸,所增加部件的主要目的是为增加工件的传动力。
[0027]送进机构2的工作过程是这样实现的:减速电机I 201带动联轴器I 202旋转,联轴器I 202带动齿轮箱203中的齿轮旋转,齿轮带动上万向轴204和下万向轴旋转,上万向轴204带动压辊I 206旋转,下万向轴带动下托辊I旋转,从而使工件实现送进运动。压辊I 206和托辊I使用橡胶制造,托辊I固定到支架I 209上,压辊I 206可在支架I 209上滑动,由升降气缸208控制,利用升降气缸208控制压辊I 206,成本低,使用方便。限位装置205可以通过手轮I 207对其通道宽度进行调节,使其满足不同宽度工件的加工要求,同时能够使工件保持在同一传送主轴上。
[0028]如图3所示,侧面抛磨机构3由4组子侧面抛磨机构组成,每个子侧面抛磨机构的结构完全相同,包括安装在机架I上的密闭箱I 313,密闭箱I 313上安有控制器I 312,密闭箱I 313内的支架II 307上安有定位轮308,定位轮308与手轮III 309相连,支架II 307两端各安有压辊II 310、托辊II和压辊III311、托辊III,支架II 307上方设有千叶轮304,千叶轮304 —端与螺旋齿轮换向器303相连,另一端与密闭箱I 313外的气缸306相连,螺旋齿轮换向器303通过联轴器II 302与电机I 301相连,千叶轮304与手轮II 305相连。
[0029]侧面抛磨机构3的工作过程是这样实现的:工件传动进入密闭箱I 313内,通过压辊II 310和托辊II,与千叶轮304和定位轮308接触,从而实现工件的抛磨,再通过压辊III311和托辊III传动出密闭箱I 313。压辊II 310、托辊II和压辊III311、托辊III均使用橡胶制造,托辊II和托辊III固定在支架II 307上,压辊II 310和压辊III 311与弹簧装置连接,可通过弹簧装置上方的螺母对其进行上下调节,调节好后通过螺母将其固定,压辊II 310、托辊II和压辊111311、托辊III起到支撑、稳定工件的作用,以保证加工工件的精度。定位轮308可通过手轮III 309调节其前后位置,调节好后将其固定。千叶轮304既可以由手轮II 305调节其前后位置,也可以通过气缸306调节其前后位置。根据工件的宽度,调节千叶轮304和定位轮308之间的距离,以此来决定工件的抛磨量,千叶轮304和定位轮308之间的距离数值和电流数值显示在控制器I 312的显示屏上。密闭箱I 313固定在机架I上,密闭箱
I313的正面设置有活动窗口,采用玻璃制造,可以从外面看到密闭箱I 313内部的运作情况,最主要的作用是可以防止抛磨过程中的铜粉飞扬,保护车间环境。
[0030]如图4、图5、图6所示,本实用新型的平面抛磨机构4由4组子平面抛磨机构组成,包括安装在机架I上的密闭箱II 412,密闭箱II 412上安有控制器II 415和手轮IV 413,手轮IV 413与减速电机II 414相连,密闭箱II 412内的支架III 404上安有压辊IV 405、压辊V406、托辊IV 407、托辊V 408、托辊VI 409和从动辊410,从动辊410与主动辊403通过砂带411相连,主动辊403通过密闭箱II 412外的联轴器III 402与电机II 401相连;
[0031]平面抛磨机构4的工作过程是这样实现的:工件传动进入密闭箱II 412内,通过压辊IV 405和托辊V 408,与砂带411和托辊IV 407接触,从而实现工件的抛磨,通过压辊
V406和托辊VI409传动出密闭箱II 412。压辊IV 405、压辊V 406、托辊IV 407、托辊V 408、托辊VI 409均使用橡胶制造,主动辊403外面包裹一层厚厚的胶皮,防止砂带411滑落,从动辊410
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