靶材处理设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种处理设备，且特别涉及一种靶材处理设备。
【背景技术】
[0002]溅镀是一种物理气相沉积技术，主要是利用高能量的离子束或原子束射入靶材中，而使靶材表面的原子获得额外动能以脱离靶材，进而使原子得以飞溅至待镀物上而沉积成薄膜。
[0003]靶材包含正板与背板，正板使用的材质即为待镀物所欲沉积的材质。例如，待镀物上若是欲沉积铝薄膜，则正板的材质为铝。正板与背板相贴合，其中背板略大于正板，所以背板与正板相贴合的接触面上，背板会露出一部分的表面。由于靶材的正板与背板的材质不同，所以在制作靶材时，需要经过种种步骤将正板与背板黏合在一起，才能做为靶材使用。
[0004]在一般的靶材制作过程中，通常是先分别提供正板以及背板，并分别清洗正板与背板。清洁干净后的正板与背板上涂布接着层，以使正板与背板得以黏合在一起。黏合后的正板与背板需要再经过研磨操作以及喷砂操作，才能做为靶材之使用。
[0005]然而，上述靶材的制作过程中，研磨操作以及喷砂操作皆是以人工作业，不仅耗时耗力，也提高了靶材的制作成本。
【发明内容】
[0006]因此，本发明的一目的在于提供一种靶材处理设备，其可节省人力、时间以及靶材的制作成本。
[0007]本发明的另一目的在于提供一种靶材处理设备，其具有特殊结构的背板研磨装置、喷砂装置以及正板研磨装置。
[0008]根据本发明的上述目的，提出一种靶材处理设备，适用于处理包含正板与背板的靶材。靶材处理设备包含背板研磨装置、喷砂装置以及正板研磨装置。背板研磨装置用以研磨背板。喷砂装置设于背板研磨装置的一侧，用以粗糙化一部分的背板。正板研磨装置设于喷砂装置的一侧，用以研磨正板。
[0009]依据本发明一实施例，上述背板研磨装置包含第一壳体、多个第一运输单元、二背板侧壁研磨单元以及至少一背板研磨单元。第一壳体具有相对的第一壳体入口与第一壳体出口。第一运输单元依序从第一壳体入口排列至第一壳体出口，用以运输靶材。二背板侧壁研磨单元，位于第一运输单元的相对二侧，二背板侧壁研磨单元用以研磨背板的相对的二侧壁。背板研磨单元位于第一运输单元的上方。
[0010]依据本发明一实施例，上述背板研磨装置包含多个集尘单元设于第一壳体内。
[0011]依据本发明一实施例，上述背板研磨单元包含第一研磨盘、多个研磨盘、旋转主轴以及多个研磨件。此些研磨盘设于第一研磨盘上，其中每一研磨座具有第一齿轮部。旋转主轴具有第二齿轮部，其中旋转主轴穿设于第一研磨盘的中央且第二齿轮部啮合第一齿轮部。多个研磨件固设于研磨座上。
[0012]依据本发明一实施例，上述背板研磨单元的数量为二个。
[0013]依据本发明一实施例，上述正板研磨装置包含第二壳体、多个第二运输单元以及至少一正板研磨单元。第二壳体具有相对的第二壳体入口与第二壳体出口。多个第二运输单元依序从第二壳体入口排列至第二壳体出口，用以运输靶材。正板研磨单元位于第一运输单元的上方。
[0014]依据本发明一实施例，上述正板研磨装置更包含静电去除单元设于第二运输单元上且邻近第二壳体出口。
[0015]依据本发明一实施例，上述正板研磨单元更包含第二研磨盘、第二旋转主轴以及研磨布。第二研磨盘具有研磨面，其中研磨面朝向第二运输单元。第二旋转主轴穿设第二研磨盘的中央。研磨布黏贴于研磨面上。
[0016]依据本发明一实施例，上述正板研磨单元的数量为二个。
[0017]依据本发明一实施例，上述喷砂装置包含储存槽、多个喷砂管路以及多个气体管路。储存槽具有容置空间，用以储存喷砂材料。喷砂管路连通容置空间。气体管路分别连通至喷砂管路。
[0018]本发明的靶材处理设备是利用具有特殊结构的背板研磨装置、喷砂装置以及正板研磨装置来达到自动化处理靶材的效果，因此可节省人力、时间以及靶材的制作成本。
[0019]以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述，但不作为对本发明的限定。
【附图说明】
[0020]图1绘示依照本发明一实施例的一种靶材处理设备的设置示意图；
[0021]图2绘示革El材的立体示意图；
[0022]图3A绘示依照本发明一实施例的一种背板研磨装置的立体示意图；
[0023]图3B绘示依照本发明一实施例的一种背板研磨装置的背板研磨单元的立体示意图；
[0024]图3C绘示依照本发明另一实施例的一种背板研磨装置的立体示意图；
[0025]图4绘示依照本发明一实施例的一种喷砂装置的立体示意图；
[0026]图5A绘示依照本发明一实施例的一种正板研磨装置的立体示意图；
[0027]图5B绘示依照本发明一实施例的另一种正板研磨装置的立体示意图；
[0028]图5C绘示依照本发明一实施例的另一种正板研磨装置的侧视示意图。
[0029]其中，附图标记
[0030]100靶材处理设备
[0031]110背板研磨装置
[0032]120喷砂装置
[0033]130正板研磨装置
[0034]140运输单元
[0035]300背板研磨装置
[0036]300A背板研磨装置
[0037]310 第一壳体
[0038]31A第一壳体入口
[0039]31B第一壳体出口
[0040]320第一运输单元
[0041]330背板侧壁研磨单元
[0042]340背板研磨单元
[0043]340A背板研磨单元
[0044]340B背板研磨单元
[0045]341第一研磨盘
[0046]342研磨座
[0047]342A第一齿轮部
[0048]343旋转主轴
[0049]343A第二齿轮部
[0050]344研磨件
[0051]350马达
[0052]360靶材导引单元
[0053]370集尘单元
[0054]380吹气单元
[0055]400喷砂装置
[0056]410储存槽
[0057]411容置空间
[0058]420喷砂管路
[0059]421喷嘴
[0060]430气体管路
[0061]431气体供应源
[0062]440滚轮
[0063]500正板研磨装置
[0064]500A正板研磨装置
[0065]510第二壳体
[0066]51A第二壳体入口
[0067]51B第二壳体出口
[0068]520第二运输单元
[0069]530正板研磨单元
[0070]530A正板研磨单元
[0071]530B正板研磨单元
[0072]531第二研磨盘
[0073]53IA研磨面
[0074]532第二旋转主轴
[0075]533研磨布
[0076]540马达
[0077]550靶材导引单元
[0078]560集尘单元
[0079]570 吹气单元
[0080]580静电去除单元
[0081]900 靶材
[0082]901 正板
[0083]902 背板
[0084]902A 区域
[0085]902B 侧壁
[0086]910溅镀操作
[0087]920 原子
【具体实施方式】
[0088]以下配合本发明的实施例详细说明本发明的技术内容、构造特征、所达成目的及功效。
[0089]请参照图1，图1绘示依照本发明一实施例的一种靶材处理设备100的设置示意图。革E材900包含正板901与背板902。背板902可作为正板901的基板，而正板901的材质对应被镀物所需的薄膜的材质。在一示范例子中，正板901的材质可以是铝或铝基材质，背板902的材质可以是铜或铜基材质。在靶材900的制作流程中，正板901与背板902