真空蒸镀装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及在保持减压环境的真空槽内在基板上形成薄膜、具有用于对膜厚或蒸镀速度(膜厚率)进行控制的石英振荡式膜厚计的真空蒸镀装置。
【背景技术】
[0002]在通过真空蒸镀法在基板上形成薄膜的真空蒸镀装置中，使用膜厚计以便对膜厚和蒸镀速度(膜厚率)进行控制。该膜厚计根据测定方式不同而存在各个种类，但是广泛使用石英振子法。
[0003]使用石英振子法的石英振荡式膜厚计利用了当在石英振子的表面附着有蒸镀物质时，谐振振动根据其质量变化而变化的性质，例如，通过测定该谐振振动(振荡频率)的变化来测量膜厚和膜厚率，并将其反馈给蒸发源的加热控制装置，从而将蒸镀薄膜在基板上的膜厚率控制为恒定以管理膜厚。
[0004]并且，在这样的基于石英振动式膜厚计的膜厚测定(膜厚监视)时，当在石英振子的电极膜上较厚地蒸镀薄膜时，会产生谐振振动不稳定、石英振子的等效串联电阻(晶体阻抗)上升而流过石英振子的电流降低，从而无法测定谐振振动等现象。因此，当这样较厚地蒸镀而无法测定谐振振动时，判断为石英振子达到寿命，将石英振子更换为新的石英振子。
[0005]具体而言，例如使保持多个石英振子的石英保持架旋转并切换使用，以使得能够在真空槽内连续进行该石英振子的更换。
[0006]以往，为了延长该石英振子的寿命，根据专利文献I (日本特开2000-101387号公报)所述，为了使得在较厚地蒸镀薄膜的情况下也不容易产生该膜的裂纹或剥离，通过预先在石英振子的成膜面的电极膜上形成软质金属膜，从而缓和膜的内部应力来防止膜的剥离或裂纹。
[0007]并且，根据专利文献2(日本特开2014-70238号公报)所述，在真空腔内具有至少2个以上的蒸发源和与其对应的膜厚传感器，并且构成为从一个蒸发源蒸发不容易附着于石英振子表面的材料，并且向对其进行监视的膜厚传感器预先导入从另一个蒸发源蒸发的材料，由此，在对不容易附着的材料进行蒸镀之前，利用密合性优良的材料预先在石英振子表面形成基底膜，从而在使用不容易附着的材料的情况下，也能够检测准确的蒸发率。
[0008]【专利文献I】日本特开2000-101387号公报
[0009]【专利文献2】日本特开2014-70238号公报
[0010]但是，通过专利文献I而已知的在石英振子上预先形成金属膜的方法是防止成膜材料的剥离、消除谐振振动的不稳定性、延长石英振子的寿命的方法，但是，即使石英振子上形成的膜未剥离，由于石英振子的等效串联电阻上升而流过石英振子的电流降低，有时也无法测定谐振振动，所以，无法延长石英振子的寿命。
[0011]并且，在通过专利文献2而已知的对设置于一个蒸发源中的不容易附着的材料的膜厚传感器导入从另一个蒸发源蒸发的材料以预先形成基底膜的方法中，通过预涂用导入管对相对于所述一个蒸发源而配置在适当位置处的膜厚传感器导入另一个蒸发源的材料，所以，无法确保充分的蒸镀率，并且，预先形成于该膜厚传感器(石英振子表面)上的基底膜容易变得不均。进而，从该另一个蒸发源导入容易附着的材料时未监视其膜厚，所以，无法形成准确的膜厚的基底膜。
[0012]S卩，即使能够防止蒸镀膜的剥离或裂纹，然而在将比重较小的有机材料作为蒸镀材料进行蒸镀的情况下，该有机材料在电极上成膜时，该蒸镀膜的膜厚越大，则越无法追随石英振子的厚度切变振动，所以，即使振动本身得以维持，但蒸镀膜的膜厚越厚，则等效串联电阻越上升，因此不能充分解决无法测定振荡频率这样的问题。特别是在基底膜为金属膜时，无法抑制与有机材料之间的膜界面导致的等效串联电阻上升，石英振荡式膜厚计的寿命依然较短且无法延长。
[0013]并且特别是，用于制造有机EL器件的蒸镀材料是比重较小的有机材料，其与石英振子表面的电极膜(例如Au或Ag)之间的密合性较差，无法追随石英振子的厚度切变振动，即使设置金属基底膜，也只是成为该有机材料载置于电极膜上的状态，所以，当蒸镀膜的膜厚增大时，等效串联电阻值会上升，因此石英振子的寿命较短。
[0014]并且，在通过导入管将未进行膜厚监视的有机材料导入石英振子表面的方法中，无法形成多个均匀地形成了充分量的膜厚的带基底膜的石英振子，无法应对量产工作装置的运用。
【发明内容】
[0015]本发明发现并解决了上述问题点，其目的在于提供一种划时代的真空蒸镀装置，其通过石英振荡式膜厚计对膜厚或蒸镀速度进行控制，并且，通过该膜厚监视，在该石英振荡式膜厚计的多个石英振子表面蒸镀从该(其余的其它)蒸发源蒸发的有机材料，预先形成规定膜厚的有机材料基底膜，使用具有多个均匀形成为该充分量的膜厚的带规定膜厚的基底膜的石英振子的石英振荡式膜厚计，一边控制其膜厚或蒸镀速度一边对从(一个)蒸发源蒸发的有机材料进行蒸镀，由此，抑制了石英振子的等效串联电阻的上升，实现了长寿命化，并且，如上所述，能够使所述有机材料基底膜均匀地形成为一定膜厚，而且，能够高效地预先形成有机材料基底膜而不需要蒸镀工序之外的成膜工序。
[0016]参照附图对本发明的主旨进行说明。
[0017]本发明涉及一种真空蒸镀装置，其在真空槽I内使从至少2个以上的蒸发源2蒸发的作为蒸镀材料的有机材料沉积在基板3表面上沉积而形成薄膜，其特征在于，在所述真空槽I内具有至少2个以上的用于控制所述各蒸发源2并控制所述基板3表面的膜厚或蒸镀速度的石英振荡式膜厚计M，所述石英振荡式膜厚计M具有多个石英振子4，所述一个蒸发源2所具有的所述一个石英振荡式膜厚计M构成为具有多个带有机材料基底膜6的石英振子4，该多个带有机材料基底膜6的石英振子4在预先形成了一定膜厚的从其余的其它蒸发源2蒸发的有机材料后，更换为下一个石英振子4，由此，将有机材料蒸镀于该石英振荡式膜厚计M所具有的所述多个石英振子4上，在进行利用该其余的其它蒸发源2实施的蒸镀工序中的膜厚监视的同时分别预先形成了一定膜厚的有机材料基底膜6，在利用该其余的其它蒸发源2的蒸镀工序结束后，通过具有所述带有机材料基底膜6的石英振子4的石英振荡式膜厚计M，进行利用所述一个蒸发源2实施的蒸镀工序中的膜厚监视。
[0018]并且，涉及第I方面所记载的真空蒸镀装置，其特征在于，所述真空槽I由多个有机蒸镀室12构成，在各有机蒸镀室12中配设有所述各蒸发源2和所述石英振荡式膜厚计M，配设在该一个有机蒸镀室12中的所述石英振荡式膜厚计M的所述多个石英振子4在预先形成了一定膜厚的从其余的其它有机蒸镀室12的所述蒸发源2蒸发的有机材料后，更换为下一个石英振子4，由此，在该多个石英振子4上分别形成所述有机材料基底膜6，通过具有该带有机材料基底膜6的石英振子4的石英振荡式膜厚计M，进行利用所述一个有机蒸镀室12的所述蒸发源2实施的蒸镀工序中的膜厚监视。
[0019]并且，涉及第I方面所记载的真空蒸镀装置，其特征在于，在所述各石英振子4上形成的所述有机材料基底膜6为至少2 μπι以上的膜厚。
[0020]并且，涉及第2方面所记载的真空蒸镀装置，其特征在于，在所述各石英振子4上形成的所述有机材料基底膜6为至少2 μπι以上的膜厚。
[0021]并且，涉及第I?4方面中的任意一个方面所记载的真空蒸镀装置，其特征在于，在所述石英振子4的表面和背面上形成的电极膜5由Al或以Al为主成分的多种金属形成。
[0022]并且，涉及第I?4方面中的任意一个方面所记载的真空蒸镀装置，其特征在于，所述真空蒸镀装置具有移动所述石英振荡式膜厚计M的移动机构13，其一边控制膜厚或蒸镀速度，一边在所述各石英振子4上蒸镀从所述其余的其它蒸发源2蒸发的有机材料而形成所述有机材料基底膜6，在利用该其余的其它蒸发源2实施的蒸镀工序结束后，通过所述移动机构13移动该石英振荡式膜厚计Μ，在所述带有机材料基底膜6的石英振子4上形成从所述一个蒸发源2蒸发的有机材料，由此，控制该一个蒸发源2而控制所述基板3表面的膜厚或蒸镀速度，进行利用该一个蒸发源2实施的蒸镀工序中的膜厚监视。
[0023]并且，涉及第5方面所记载的真空蒸镀装置，其特征在于，所述真空蒸镀装置具有移动所述石英振荡式膜厚计M的移动机构13，其一边控制膜厚或蒸镀速度，一边在所述各石英振子4上蒸镀从所述其余的其它蒸发源2蒸发的有机材料而形成所述有机材料基底膜6，在利用该其余的其它蒸发源2实施的蒸镀工序结束后，通过所述移动机构13移动该石英振荡式膜厚计Μ，在所述带有机材料基底膜6的石英振子4上形成从所述一个蒸发源2蒸发的有机材料，由此，控制该一个蒸发源2而控制所述基板3表面的膜厚或蒸镀速度，进