作为缓蚀剂的唑类化合物的利记博彩app
【专利说明】作为缓蚀剂的性类化合物
[0001] 相关申请的交叉引用
[0002] 本申请要求2013年3月16日向美国专利商标局提交的申请号为61/802,613的 美国临时申请的优先权W及权益，其中全部内容引入本文作为参考。
【背景技术】
[0003] 用于航天、工业、W及民间行业的金属的氧化W及降解是严重的W及要花很多钱 才能解决的问题。为防止或者减少用于运些应用的金属的氧化W及降解，防护涂层可W涂 布于金属表面。运些防护涂层可W是仅有的涂布金属的涂层，或者其它的涂层可W进一步 涂布W保护金属表面。当涂布金属表面防止腐蚀时厂商面对的一个问题是为了获得要求的 效能级别要提供足够覆盖率。运是困难的、特别当涂布大型的金属部件、比如在航天应用 中，确定是否金属基材已经在全部要求区域中被充分涂布。
[0004] 防腐涂层是金属表面处理领域已知的，W及过去的技术包括铭基涂料，其对环境 影响不合要求。其它的防腐涂层也是已知的，包括一些无铭涂料和/或预处理涂料，其可防 止或者减少金属氧化W及降解W及有助于耐腐蚀性。需要可W提供耐腐蚀性W及有助于防 止或者减少氧化W及降解的金属表面涂料。
【发明内容】
阳〇化]按照本发明所述的实施方案，涂布金属基材组合物包含挫类化合物、金属阳离子、W及含水载体。
[0006] 按照本发明所述的其它的实施方案，涂布基材的组合物包含载体及挫类化合物， 该载体包含环氧载体、尿烧载体、或者氣化尿烧载体。
[0007] 发明详述
[0008] 按照本发明所述的实施方案，用于涂布金属基材的组合物包含含水载体，挫类化 合物、W及金属阳离子缓蚀剂。在一些实施方案中，例如，金属阳离子缓蚀剂可W包含稀± 阳离子（比如，例如Ce,Y，或者Nd),和/或第IA族金属阳离子（比如，例如Li)。在该组 合物中，金属阳离子可W采用金属盐的形式提供。例如，在一些实施方案中，用作阳离子源 的金属盐可W包含硝酸锭、硝酸姉、氯化姉和/或裡盐（比如、例如碳酸裡）。
[0009] 在一些实施方案中，在底漆或者面漆配方中，该挫类化合物可W结合进入环氧化 物、尿烧、或者氣化尿烧中，带有可选的附加缓蚀剂，例如，CaS〇4。
[0010] 如本文所用，下列术语具有W下意思。
[0011] 术语"盐"，如本文所用，指离子键合的无机化合物和/或溶液中一种或多种无 机化合物的离子化阴离子W及阳离子。
[0012] 术语"基材Ii，如本文所用，指具有表面的材料。就涂布转化涂层 (conversioncoating)而言，术语"基材"指金属基材比如侣、铁、铜、锋、儀、儀、和/或运 些金属任一合金，包括而不限于钢。一些作例证的基材包括侣W及侣合金。额外的作例证 的基材包括高含铜量侣基材（即，包括合金的基材，合金包含侣W及铜二者，其中在该合金 里铜的数量多，例如铜在该合金里的量是3 - 4% )。
[0013] 术语"转化涂覆"，在本申请中也称为"转化处理"或者"预处理"，指金属基 材处理，其引起金属表面化学性质改变为不同的表面化学性质。术语"转化处理"W及" 转化涂覆"也指涂布或者处理金属表面，其中金属基材和具有与在基材内所包含金属不同 的元素金属的水溶液接触。另外，术语"转化涂覆"W及"转化处理"指具有金属元素的 水溶液与不同元素的金属基材接触，其中该基材表面部分溶于该水溶液，从而导致涂料沉 淀在金属基材上（任选利用外部的驱动力将该涂料沉积在金属基材上）。
[0014] 术语"稀±元素"，如本文所用，指元素周期表IIIB族元素（或者铜系）或者锭。 被称为稀上元素的元素族包括，例如元素57 - 71 (即，La,Ce,Pr,Nd,化，Sm,Eu,Gd,化， Dy,化，Er,Tm,孔化及Lu)化及锭。在一些实施方案中，然而，如下记载，术语稀±元素可W 指La,Ce,Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,孔，LuW及Y。在一些实施方案中，该组合 物基本上无铭。如本文所用，术语"基本上"作为近似化术语使用而不作为程度术语使用。 另外，术语"基本上无铭"作为近似化术语使用W表示在该组合物中铭的数量可W忽略不 计，W至于如果铭在组合物中真的存在的话，则它是附带的杂质。
[0015] 术语"IA族金属离子"或者"1族金属离子"如本文所用，指该周期表第一列元 素的离子或者多个离子化除外）。通过IA族或者1族确定的元素组（除氨外）又名碱金 属，并且包括，例如，Li,化，K，化，Cs,W及化。
[0016] 术语"IIA族金属离子"或者"2族金属离子"如本文所用，指来自周期表第二 列元素的离子或者多个离子。标识为IIA族或2族的元素族或者又名碱±金属，W及包括， 例如，Be,Mg,Ca,Sr,BaW及Ra。
[0017] 如本说明书所用，术语"包含"W及术语变体，比如"包含"W及"包含"不是 要把其它的添加剂、组分、整体成分（integersingredients)或者步骤排除。
[0018] 本申请公开的全部数量是按在25°CW及一个大气压压力下占该组合物总重量的 重量百分数给出，除非另有说明。
[0019] 按照一些实施方案，用于涂布金属基材的组合物包含缓蚀剂W及金属阳离子，该 缓蚀剂包含挫类化合物。该挫类化合物可W包括诸如化咯之类的具有1个氮原子的环状化 合物、诸如化挫、咪挫、立挫、四挫W及五挫之类的具有两个或更多个氮原子的环状化合物、 诸如嗯挫W及异嗯挫之类的具有1个氮原子W及1个氧原子的环状化合物、W及诸如嚷挫 W及异嚷挫之类的具有1个氮原子和1个硫原子的环状化合物。适合的挫类化合物的非限 制性实例包括2, 5 -二琉基一1，3,4 -嚷二挫（CAS:1072 - 71 - 5)，IH-苯并S挫（CAS: 95 _ 14 _ 7)，化 _ 1，2,3 -S挫（CAS:288 _ 36 _ 8)，2 _氨基_ 5 _琉基_ 1，3,4 _ 嚷二挫（CAS:2349 - 67 - 9)，也称为5 -氨基一1，3,4 -嚷二挫一2 -硫醇，W及2 -氨 基一1，3,4 -嚷二挫（CAS:4005 - 51 - 0)。在一些实施方案中，例如，该挫类化合物包含 2,5 -二琉基一1，3,4 -嚷二挫。
[0020] 该挫类化合物在组合物中存在浓度为0. 0005g/L组合物至3g/L组合物。例如，在 一些实施方案中，在该组合物中该挫类化合物含量可W为0. 004g/L组合物至0.Ig/L组合 物。
[0021] 该金属阳离子可W包含一个或多个不同的具有缓蚀特性的金属阳离子。例如，在 一些实施方案中，该金属阳离子可W包含稀±元素、比如，举例来说，La,Ce,Pr,Nd,化，Sm, 化，Gd,化，Dy,Ho,Er,Tm,孔，Lu。在一些实施方案中，该稀±元素包含La,Ce,Pr,Nd,Sm, 化，Gd,化，Dy,化，Er,Tm,孔，Lu和/或Y。例如，在一些实施方案中，该稀±元素包含Ce, Y，Pr和/或Nd。其它的合适的金属阳离子包括IA族或者IIA族金属阳离子（即，碱金属 W及碱±金属）。例如，在一些实施方案中，该金属阳离子可W包含碱金属、比如，举例来说， Li,化，K，化，Cs和/或化，和/或碱±金属，比如，举例来说，Be,Mg,Ca,Sr,Ba和/或Ra。 在一些实施方案中，例如，该金属阳离子可W包含碱金属、比如，举例来说，Li,化，K，化和/ 或Cs,和/或碱±金属、比如，举例来说、Be,Mg,Ca,Sr和/或Ba。在一些实施方案中，金属 阳离子包含裡、钢、钟、和/或儀。例如，在一些实施方案中，金属阳离子包含Ce,Y，Nd和/ 或Lio
[0022] 该金属阳离子在组合物中的浓度可W为0. 05g每升组合物至25g每升组合物。例 如，在一些实施方案中，该金属阳离子在组合物中的浓度可W为0. 05g每升组合物至16g每 升组合物。在一些实施方案中，例如，该金属阳离子在组合物中的浓度可W为0.Ig每升组 合物至IOg每升组合物。例如，在一些实施方案中，该金属阳离子在组合物中的浓度可W为 Ig每升组合物至5g每升组合物。例如，如果金属阳离子包括稀±阳离子，则该稀±阳离子 存在浓度可W是0.