用于维护边缘排除屏蔽件的方法和系统的利记博彩app
【技术领域】
[0001]本发明的实施例是有关于一种用于从基板处理系统的处理腔体取出遮蔽元件或插入遮蔽元件于处理腔体内的方法。其他实施例是有关于一种遮蔽元件、一种用于传输遮蔽元件的钩起装置、以及一种包括遮蔽元件及/或钩起装置的基板处理系统。更特别是，部分的实施例是有关于一种在基板处理系统中维护边缘排除遮蔽件，此基板处理系统包括真空处理腔体，用于处理实质上垂直方向的基板。
【背景技术】
[0002]在例如是薄膜晶体管(TFT)金属化工艺的数种技术应用中，一或数层不同材料是在基板的上方沉积于彼此上。一般来说，此是通过一连串的涂布或沉积工艺来完成，例如是派镀工艺，其中其他像是蚀刻或成型(structuring)的工艺可能亦可在各种沉积工艺之前、之间或之后提供。举例来说，可沉积具有“材料一“材料二“材料一”的顺序的多层堆迭。
[0003]为了沉积一多层堆迭，可提供数个处理腔体的配置。举例来说，可使用串联式(in-line)配置的沉积腔体和群集式(cluster)配置的沉积腔体。典型的群集式配置包括中央搬运腔体及连接于中央搬运腔体的数个处理或沉积腔体。涂布腔体可装配以执行相同或不同的工艺。典型的串联式系统包括数个接续的处理腔体，其中处理步骤是在一个接着一个的腔体内进行，使得数个基板可以串联式系统连续地或类似连续地进行处理。
[0004]在例如是用于显示器的玻璃基板涂布的技术应用中，基板的边缘在涂布工艺期间受到保护，涂布工艺例如是溅镀沉积工艺。边缘排除遮蔽件用于保护边缘。在涂布工艺期间，不仅是基板接收涂布，边缘排除遮蔽件也接收涂布。当在边缘排除遮蔽件上的涂布变得较厚时，越来越多的粒子可能从边缘排除遮蔽件再散发(re-emit)出去，且让基板涂布的品质下降。已沉积于边缘排除遮蔽件上的厚层可能具有遮蔽效应(shadowing effect)，所以基板涂布的均匀度可能变糟。
[0005]若此情况发生，沉积腔体开启且边缘排除遮蔽件进行更换。此程序可能不仅让更换边缘排除遮蔽件成为必要，且亦让更换例如是额外的遮蔽件、阳极等的工艺套组的其他元件成为必要。在溅镀基板处理系统中，靶材寿命可能远长于边缘排除遮蔽件需进行更替之后的时间区段。靶材的最佳化寿命可能因而无法完全的实现。再者，直到可继续进行制造的恢复时间可能非常的长。举例来说，在腔体内重新建立真空以及其他设置程序可能花费难以预测的长时间。因此，基板处理系统的整体产量受到负面的影响。
[0006]因此，存在进行改善的需求。
【发明内容】
[0007]有鉴于上述内容，提供了根据独立权利要求的方法与装置。更进一步的细节可在从属权利要求、说明书、及附图中得到。
[0008]根据一实施例，提供了一种用于从基板处理系统的处理腔体取出遮蔽元件或插入遮蔽元件至处理腔体中的方法。基板处理系统包括处理腔体、第一遮蔽元件、及基板传输系统，第一遮蔽元件用于排除材料应用于基板的数个部分上，基板传输系统用于传输基板或数个基板载体至处理腔体中及处理腔体外。此方法包括通过基板传输系统传输第一遮蔽元件。
[0009]根据另一实施例，提供了一种用于排除材料应用于基板的数个部分上的遮蔽元件。遮蔽元件包括遮蔽部，用以遮蔽基板的数个边缘。于第一选择中，遮蔽元件包括卡合部，用于从遮蔽框内的位置传输遮蔽元件到基板处理系统的基板传输系统，以于基板传输系统中进行传输。于第二选择中，遮蔽元件包括卡合部，用于钩起遮蔽元件至钩起装置，以在基板处理系统的基板传输系统中共同传输。
[0010]根据其他实施例，遮蔽框或钩起装置可额外地提供。遮蔽框可包括机械式传输部，适用于卡合卡合部，以从遮蔽框内的位置传输遮蔽元件至基板传输系统。钩起装置可包括框部及钩起部，框部配置以载入至基板处理系统的基板传输系统中，钩起部用以卡合遮蔽元件的卡合部以钩起且支承遮蔽元件，以在基板传输系统中共同传输。于其他实施例中，基板处理系统可提供。基板处理系统可包括处理腔体及基板传输系统，基板传输系统用以传输数个基板或数个基板载体至处理腔体内及处理腔体外。基板处理系统还可包括根据此处所述的任何实施例的遮蔽元件、遮蔽框及/或钩起装置。遮蔽元件或钩起装置的框部可配置以于基板传输系统中传输，以传输遮蔽元件至处理腔体内或处理腔体外。
[0011]本揭露亦有关于用于执行所揭露的方法的设备，包括用于执行此方法的各所说明部份的设备元件。此些方法部分可通过硬件元件、透过适当软件编程的电脑、通过此二者的任何结合或以任何其他方式来执行。再者，本发明亦有关于通过所述的设备进行操作或制造所述的设备的方法。它包括用于执行此设备的各功能的方法。
[0012]附图简述
[0013]为了可详细地了解上述的特性，更特定的说明可参照数个实施例。所附的图式有关于数个实施例，且于下述中说明:
[0014]图1绘示基板处理系统的示意图，本发明实施例可于此基板处理系统中执行或使用；
[0015]图2绘示基板处理腔体的示意图，本发明实施例连接于此基板处理腔体来执行或使用；
[0016]图3-4绘示通过溅镀靶材进行涂布并使用边缘排除遮蔽件的基板的示意图；
[0017]图5-8绘示根据此处所述实施例的边缘排除遮蔽件及钩起装置以及维护边缘排除遮蔽件的方法；
[0018]图9-14绘示根据此处所述实施例的边缘排除遮蔽件及钩起装置间的机械式卡合；
[0019]图15-17绘示根据此处所述实施例的边缘排除遮蔽件及遮蔽框；
[0020]图18绘示根据此处所述实施例的基板处理系统的示意图；以及
[0021]图19是绘示根据此处所述实施例的维护边缘排除遮蔽件的方法的方块图；
[0022]图20-21绘示根据此处所述实施例的基板处理系统的示意图。
[0023]发明的详细描述
[0024]详细的参照将以各种范例性实施例来达成，一或多个各种范例性实施例的例子是绘示在各附图中。各例子是通过说明的方式来提供且不意味着为一限制。举例来说，所说明或叙述而做为一实施例的部分的特性可用于其他实施例或与其他实施例结合，以取得进一步的其他实施例。此意指本揭露包括此种调整及变化。
[0025]在下述图式的说明中，相同的参考编号意指相同或相似的元件。一般来说，仅有关于各别实施例的不同处会进行说明。绘示于图式中的结构并非一定以真实的尺寸或角度来进行绘制，且可能会夸大特点来更佳地了解所对应的实施例。
[0026]此处所使用的术语“方向”并不限定为一向量方向(“从A到B”)，但包括两个向量方向，其中可采用一直线(“从A到B”及“从B到A”)。举例来说，垂直方向应包括上及下的概念。因此，方向以具有两个箭头的箭号来标注在附图中。
[0027]此处所使用的术语“基板”应包含数个基板，例如数个玻璃基板。因此，基板一般是具有1.4m2及以上的尺寸的大面积基板，特别是5m2及以上的尺寸。举例来说，1.43m2 (第5代)及以上，例如是5.5m2 (第8.5代)、9m2 (第10代)或更大的基板尺寸可实现。
[0028]一般来说，基板为垂直方向或实质上垂直方向。因此，可理解的是，实质上垂直方向的基板可在处理系统中具有从垂直方向的一些偏移，以允许具有一些角度的倾斜的稳定传输，例如是最多15°或最多10°，例如是从5°到7°或较少。于是基板被称为是实质上或本质上垂直方向。如果相对于基板的最大表面(前及后表面)的法线为实质上水平方向，基板是实质上垂直方向，也就是说，法线具有至多一些角度的倾斜，例如是至多15°或至多10°，例如是从5°至7。或更少。最大表面的至少一者，也就是前表面及后表面的至少一者，一般是在基板处理系统中进行涂布，根据此处所述的基板传输装置可于基板处理系统中使用。实质上水平方向的基板具有相对于其最大表面的法线，此法线从垂直方向倾斜至多一些角度，例如是至多15°或至多10°，例如是从5°至7。或更少。
[0029]图1示意性地绘示范例的基板处理系统1000。如果(实质上)垂直方向的基板被处理，图1表示俯视图，且如果(实质上)水平方向的基板被处理，图1表示侧视图，例如是向下溅镀处理模块。基板处理系统1000包括前端模块1100、载入模块1200、以及处理模块1400。基板处理系统1000包括基板传输系统1010，基板传输系统1010用以传输基板或基板载体通过基板处理系统，特别是进入(诸)处理模块或离开(诸)处理模块。
[0030]前端模块1100可为摆动模块，用以载入基板至载体中且从基板的载体卸除基板。摆动模块可为包括双轨传输装置的双轨摆动模块，双轨传输装置提供两个轨道，用以支撑基板或基板载体，其中此两个轨道在转换方向S中相对于彼此可移动。具有相对可移动或可切换的轨道的传输装置详细地说明在PCT/EP2012/067659中，其全文以引用的方式于此并入参照。或者，前端模块可包括例如多轴机械手臂的一或多个机械手臂，用以载入及卸除基板，多轴机械手臂例如是6轴机械手臂。根据再其他的选择，前端模块可包括用以载入及卸除实质上垂直的基板的装置。
[0031]基板处理系统1000可任选性地包括其他模块，例如是第二载入模块1300及/或以参考符号1500标注的一或多个其他模块，例如是其他处理模块。基板处理系统1000可包括例如是一个、两个或更多个其他处理模块。此些任选的模块以虚线绘示于图1中。基板传输系统1010的两个传输路径Tl及T2沿着传输方向T延伸且在切换方向S中分隔，切换方向S垂直于传输方向T。若前端模块1100以摆动模块形式实行，前端模块1100可包括相对可移动双轨基板传输装置，具有两个轨道1112及1122。于图1中的双头箭号表示轨道1112及1