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馈入结构、上电极组件以及物理气相沉积腔室和设备的利记博彩app
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金属材料;冶金;铸造;磨削;抛光设备的制造及处理,应用技术
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馈入结构、上电极组件以及物理气相沉积腔室和设备的制造方法与工艺
技术特征:
技术总结
本公开提供了一种馈入结构、上电极组件以及物理气相沉积腔室和设备。射频功率经馈入结构的引入杆中心馈入,并由多个分配杆均匀分配到靶材。
技术研发人员:
邓玉春;张超;陈鹏;邱国庆;赵梦欣
受保护的技术使用者:
北京北方华创微电子装备有限公司
技术研发日:
2017.06.29
技术公布日:
2017.08.25
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