一种高均匀度发光体结构的利记博彩app

本实用新型涉及发光体领域，特别涉及一种高均匀度发光体结构。

背景技术：

参见图1和图2所示，目前的发光体结构一般包括散热体10和安装在散热体10安装腔11内壁的LED灯珠21及线路板22，在散热体10安装腔11的前部设置有用于固定聚光柱镜30的安装架40，安装架40的前端设置有保护板50。工作时，LED灯珠21发出的发散光线1经过聚光柱镜30后汇聚为聚拢光线2。

但是上述的发光体结构在X轴方向上聚光形成的光带L1分布不均匀，在X轴中部聚光强度较大，光线强度从中部向两侧逐渐减弱，如图2中的X轴光线强度曲线图所示。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于针对现有技术的上述不足和缺陷，提供一种高均匀度发光体结构，以解决上述问题。

本实用新型所解决的技术问题可以采用以下技术方案来实现：

一种高均匀度发光体结构，包括散热体和安装在所述散热体安装腔内壁且沿Y轴方向间隔分布的若干LED灯珠及线路板，在所述散热体安装腔的前部设置有用于固定Y轴聚光柱镜的安装架，所述安装架的前端设置有保护板或扩散板，其特征在于，在若干LED灯珠与所述Y轴聚光柱镜之间设置有X轴聚光柱镜阵列，所述X轴聚光柱镜阵列包括若干沿Y轴方向间隔且与所述Y 轴聚光柱镜垂直设置的X轴聚光柱镜，每一LED灯珠与一X轴聚光柱镜对应。

在本实用新型的一个优选实施例中，利用扁长型菲涅尔线性透镜代替所述Y轴聚光柱镜。

在本实用新型的一个优选实施例中，所述安装架通过可拆卸紧固件连接在所述散热体上。

由于采用了如上的技术方案，本实用新型在若干LED灯珠与Y轴聚光柱镜之间设置有X轴聚光柱镜阵列，有效采集X方向的LED光，提高出光的光效和改善光的指向性和均匀性。另外，通过改变安装架的位置进而改变Y轴聚光柱镜的位置，可以改变聚光距离。再者，略微改变X轴聚光柱镜阵列的位置，可以改变出光方向，用于特殊检测。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是现有技术的发光体结构从Y轴方向看的结构示意图。

图2是现有技术的发光体结构从X轴方向看的结构示意图。

图3是本实用新型一种实施例从Y轴方向看的结构示意图。

图4是本实用新型一种实施例从X轴方向看的结构示意图。

图5是本实用新型另一种实施例从Y轴方向看的结构示意图。

图6是本实用新型另一种实施例从X轴方向看的结构示意图。

图7是本实用新型一种实施例的Y轴聚光柱镜在第一种位置时的结构示意图。

图8是图7的光线射出图。

图9是本实用新型一种实施例的Y轴聚光柱镜在第二种位置时的结构示意图。

图10是图9的光线射出图。

图11是本实用新型一种实施例的Y轴聚光柱镜在第三种位置时的结构示意图。

图12是图11的光线射出图。

图13是本实用新型利用扁长型菲涅尔线性透镜代替所述Y轴聚光柱镜后的结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面进一步阐述本实用新型。

参见图3和4所示的一种高均匀度发光体结构，包括散热体100和安装在散热体100安装腔内壁且沿Y轴方向间隔分布的若干LED灯珠210及线路板220。在散热体100安装腔的前部设置有安装架300，Y轴聚光柱镜400安装在安装架300上，安装架300的前端设置有保护板或扩散板500。参见图7至图12所示，为了方便改变Y轴聚光柱镜400的位置，进而改变聚光距离，本实施例中的安装架300通过可拆卸紧固件310连接在散热体100上。

在若干LED灯珠210与Y轴聚光柱镜400之间设置有X轴聚光柱镜阵列600，X轴聚光柱镜阵列600包括若干沿Y轴方向间隔且与Y轴聚光柱镜400垂直设置的X轴聚光柱镜610，每一LED灯珠210与一X轴聚光柱镜610对应。本实施例中的每一LED灯珠210射出光线的中心线经过对应的X轴聚光柱镜610的中轴线，有效采集X方向的LED光，提高出光的光效和改善光的指向性和均匀性，聚光形成的光带L2分布均匀，在X轴中部聚光强度和两侧的聚光 强度一致。

参见图5和图6所示，略微改变X轴聚光柱镜阵列600的位置，即使得每一LED灯珠210射出光线的中心线略微偏离对应的X轴聚光柱镜610的中轴线，可以改变出光方向，用于特殊检测。

参见图13所示，利用扁长型菲涅尔线性透镜400a代替Y轴聚光柱镜，可大幅减小体积和重量。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。