一种用于光刻设备的吸声装置的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种集成电路装备制造领域，尤其涉及一种用于光刻设备的吸声装 置。
【背景技术】
[0002] 光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上的机器。例如，可以将光刻设备用在集 成电路（1C)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版（reticle)的图案 形成装置用于生成对应于所述1C的单层的电路图案。可以将该图案成像到衬底（例如， 硅晶片）上的目标部分（例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯）上。图案成像是通过 把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料（抗蚀剂）层上进行的。通常，单独的衬底将 包含被连续曝光的相邻目标部分的网络。常规的光刻设备包括：所谓步进机，在所述步进 机中，通过将全部图案依次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫描 机：在所述扫描机中，通过辐射束沿给定方向（"扫描"方向）扫描所述图案、同时沿与该 方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。也可能通过将图案压印 (imprinting)到衬底的方式从图案形成装置将图案形成到衬底上。
[0003] 高精度和高分辨率作为光刻技术当前瞄准的目标需要光刻设备的各部件之间相 互精确定位，例如保持图案形成装置（例如掩模）的掩模版台、投影系统和保持衬底的衬底 台。除了例如掩模版台和衬底台的定位外，投影系统也面临这种需要。在当前设备中的投 影系统包括承载结构，例如透镜座架（透射光的情形）或反射镜框架（反射光的情形），和 包括多个光学元件，例如透镜元件、反射镜等。
[0004] 通常在光刻机系统中，由于结构振动将会导致图像的短期误差，同时由于运动系 统（如微动台、反射镜）的MA(MovingAverage)和MSD(MovingStandardDeviation)的伺 服位置误差导致图像畸变。降低和控制整机动态性能，将误差降低到一个较低的水平。声 噪载荷（AcousticsLoad)定义为空气的压力随时间的变化作用在物镜和主基板等内部世 界上的效应。根据在光刻机在客户端的测试表明，在干净的空气环境下传播的声音和噪音 对内部世界的扰动占总的振动干扰的比例约为40%，如图1所示。其光刻机声噪试验测试值 范围在75-90dB左右。图2是净化间环境声压-时间曲线示意图。
[0005] 在光刻机中，噪声会对光刻机内部世界产生影响，如物镜，物镜镜片，干涉仪，主基 板。主要声源有环境噪声、电气噪声、掩模台&工件台运动噪声。如US20090195760公开的内 容所示，以运动台噪声为例，运动台有三种噪声，其一，刚体运动噪声，由刚体运动加速度引 起，频率远低于150Hz，可能会对overlay产生影响；其二，结构振动噪声，频率高于150Hz， 可能会对overlay和fading产生影响；其三，空气阻力产生的气动噪声，频率高于500Hz。
[0006] 为了解决噪音问题，现有技术中提供出了共振器(或称共鸣器）技术。单个共振器 可看成由几个声学作用不同的声学元件构成。开口管内及管口附近空气随声波而振动，是 一个声质量兀件，空腔内的压力随空气变化，是一个声顺兀件。而空腔内的空气在一定程度 内随声波而振动，也具有一定的声质量。空气在开口壁面的振动摩擦，它的声学作用是个声 阻。当入射声波的频率接近共振器的固有频率时，孔颈的空气柱产生强烈振动，在振动过程 中，由于克服摩擦阻力而消耗声能。反之，当入射声波频率远离共振器固有频率时，共振器 振动很弱，因此声吸收作用很小，可见共振器吸声系数随频率而变化，最高吸声系数出现在 共振频率处。
[0007] 如专利US20090161085中采用上述共鸣器原理，设计了三种共鸣器。特点为管口 有多个不同体积，可以扩展吸声频率，通过有源器件调节空腔体积，可以动态调整共鸣器吸 声频率。
[0008] 现有技术中所使用的另一种降噪方式就是有源消声技术。一般来说，传统的噪声 控制方法对控制中高频噪声较为有效，而对低频噪声的控制效果不大，如果要做到很好的 控制，将比较昂贵，甚至不可能。原因是涉及波长很长，如果用无源控制，吸声材料要很厚， 消声器要很大，弹性材料(用于隔振）要很软，很厚。早在20世纪30年代，就萌发了有源控 制的概念，由于电子设备和控制理论的限制，这种系统也无法推广。近30年，有源噪声和控 制成为声学，特别是噪声控制理论发展是有源控制成为可能。其原理主要是用换能器发出 反相噪声以抵消原有噪声，从而达到噪声降低的目的，控制噪声则用电子方法从原有噪声 的测量中取得，如此而已。这个简单概念用了大半个世纪，还要继续努力才能实现。有源控 制只适用于低频（500Hz以下)，高频在空间相位变化大，就不容易控制了。有源噪声控制 是利用一个或多个次级噪声源发出噪声以抑制原有噪声。次级噪声源使用电子线路和扬声 器，其发出的噪声功率须大于原有噪声源的噪声功率，才能实现控制。
[0009] 如专利US20090195763中设计了多种类型有源消声器(前馈式)，以用于降低噪声 对光刻机系统的影响。由于工件台掩模台运动产生声波，气流和其他扰动，可能会对投影系 统产生影响，通过布置一系列扬声器，以减小这些扰动对设备的影响。通过传感器SE探测 系统气浴管道中的噪声，通过控制系统C0N驱动扬声器ACT，产生次级噪声，抵消原噪声，降 低气浴噪声产生的影响。多个传感器和多个扬声器通过一个控制系统控制，降低噪声对物 镜的影响。基础框架等外部结构在激励下会辐射噪声，有源消声系统布置在主机板附近吸 收噪声，以降低噪声对主机板的影响。通过在水平校准器PSE附近布置传声器，通过控制系 统，可以降低噪声对测量仪器的影响。通过在垂直校准STA附近布置传声器，通过控制系 统，可以降低噪声对测量仪器的影响。
[0010] 现有技术中所使用的再一种降噪方式就是吸声技术。声波通过媒质或入射到媒质 分界面上时声能的减少过程，称为吸声或吸收。当媒质分界面为材料(结构)表面时，部分声 能被吸收，称为吸声。任何材料(结构）由于它的多孔性、薄膜作用或共振作用，对入射声能 或多或少都有吸声能力。
[0011] 如专利US20090195760中所示，吸声板13, 14, 15, 16放置在掩膜台和物镜周围。专 利CN102332259,其通过压电薄膜的压电效应来调节压电膜结构的孔径大小，从而达到调节 吸声性能的目的；专利CN102646414,公开了一种基于微穿孔板和腔内共振系统的组合吸 声装置，通过调整微穿孔板的孔径及空腔深度来调整吸声频率的带宽。专利CN102044239 通过弹簧或者弹性材料的调节方法来调节空腔深度，从而改变微穿孔板的吸声性能。
【发明内容】
[0012] 为了克服现有技术中的缺陷，本发明提供一种用于光刻机的吸声结构装置，其吸 声能力可以根据本发明所提出的角度、深度调节机构根据实际环境噪声进行调节，从而达 到最佳吸声效果。
[0013] 为了实现发明目的，本发明公开一种用于光刻设备的吸声装置，其特征在于，该吸 声装置包括一弧形微穿孔板以及支撑该弧形微穿孔板的调节装置组成，该弧形微穿孔板上 包括若干微穿孔，该调节装置与该微穿孔板球铰链连接；所述调节装置调节所述微穿孔板 相对于被吸声器件的距离及角度。
[0014] 更进一步地，该调节装置的数量为大于等于三个。
[0015] 更进一步地，该调节装置包括一连接杆与位于该连接杆外部的套筒组成。
[0016] 更进一步地，该连接杆与该套筒通过若干调节定位孔保持相对位置固定。
[0017] 更进一步地，该连接杆与该套筒通过螺纹保持相对位置固定。
[0018] 更进一步地，该套筒包括一支撑单元以及位于所示支撑单元上方的一调节腔，该 支撑单元与该调节腔之间通过一移动板连接。
[0019] 更进一步地，该套筒包括一支撑单元以及第一第二调节腔，该第一第二调节腔之 间通过一移动板连接。
[0020] 更进一步地，该微穿孔板的材料可以是以下材料中的一种或几种