光取向用偏光照射装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种用于光取向处理中的光取向用偏光照射装置。
【背景技术】
[0002]在使用液晶元件的取向膜和紫外线固化型液晶的光学膜的取向层等、具有使液晶分子进行取向的功能的膜和层(以下，统称为取向膜)的形成中近年来采用光取向处理。进行光取向处理时，向成为取向膜的感光性树脂膜以偏光轴进行特定的偏光状态(例如直线偏光状态)照射被选择的波长(例如紫外光)的光。
[0003]光取向处理用偏光照射装置已知有，为连续形成具有预定宽度的取向膜，沿取向膜的宽度方向配置棒状光源(长弧灯)，组合该光源和偏振器而沿取向膜的宽度方向照射选择波长的偏振光，将其扫描在与取向膜的宽度方向交差的方向上之物(参考下述专利文献I) O
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1:日本专利公开2006-133498号公报
【发明内容】
[0007]发明要解决的技术课题
[0008]这种光取向用偏光照射装置为维持期望的光照射强度和波长特性，在长时间使用时，需定期维护光源。维护光源时，进行灯管的更换和清扫，但由于灯管的下方靠近配置有偏振器等光学部件，所以存在灯管更换等的作业性较差，并且作业中若灰尘和结合部件等落在光学部件上则存在弄脏或损坏高价的光学部件之虞。
[0009]为了避免这种事态，还想到将整个光源引出到与扫描方向较差的方向而进行维护作业。但是随着液晶面板的大型化等，取向膜的宽度变大，若要将配备在其整个宽度上的光源沿宽度方向引出到扫描区域外侧，则在扫描区域外侧需要与取向膜的宽度相等的空间，因此存在很难确保光取向处理设施内部的空间的问题。
[0010]本发明以处理这种问题为课题的一例。即，以作业性良好、且节省空间地进行光取向用偏光照射装置中的光源的维护等为本发明的目的。
[0011]用于解决技术课题的方案
[0012]为达成这种目的，本发明的光取向用偏光照射装置至少具备如下结构。
[0013]—种光取向用偏光照射装置，其向被形成有取向膜的基板的宽度方向延设具备光源及包含偏振器的光学部件的光照射部，一边沿与所述基板的宽度方向交叉的扫描方向扫描所述基板或所述光照射部，一边在所述基板上照射特定波长的偏振光，其特征在于，所述光照射部具备将所述光源在所述光学部件之上的光照射位置支承的同时，在从所述光学部件向所述扫描方向远离的维护位置支承的光源支承导杆，所述光源支承导杆使所述光源从所述光照射位置移动至所述维护位置时，使所述光源的朝向以光照射侧沿所述扫描方向的方式发生变化。
[0014]发明效果
[0015]本发明通过具备这种特征，能够使光源移动到光学部件向扫描方向远离的维护位置，且在该维护位置上能够使光源的朝向以光照射侧沿扫描方向的方式发生变化，因此能够以作业性良好、且节省空间地进行光取向用偏光照射装置中的光源的维护。
【附图说明】
[0016]图1是表示本发明的一实施方式所涉及的光取向用偏光照射装置的整体结构的说明图。
[0017]图2是表示本发明的实施方式所涉及的光取向用偏光照射装置中的光源支承导杆的具体结构的说明图。
[0018]图3是表示本发明的另一实施方式所涉及的光取向用偏光照射装置中的光源支承导杆的具体结构的说明图。
[0019]图4是表示本发明的实施方式所涉及的光取向用偏光照射装置中使用的偏振器的说明图((a)为俯视图，(b)为侧视图)。
[0020]图5是表示入射于偏振器的光的波长与消光比的关系的曲线图。
【具体实施方式】
[0021]以下边参考附图边说明本发明的实施方式。以下附图中，扫描方向示为Y方向，竖直向上朝向示为Z方向，与扫描方向及竖直向上朝向正交的方向示为X方向。图1是表示本发明的一实施方式所涉及的光取向用偏光照射装置的整体结构的说明图。
[0022]光取向用偏光照射装置I具备光照射部10和基板台20。光照射部10具备光源2和包含偏振器的光学部件，向被形成有取向膜的基板W的宽度方向(图示X方向)延设这些。基板台20上放置有基板W。光照射部10与基板台20沿扫描方向S相对移动。由此，光取向用偏光照射装置I一边沿着与基板W的宽度方向交差的扫描方向S扫描基板W或光照射部10，一边在基板W上照射特定波长的偏振光。
[0023]图1所示的例子中，光照射部10的光源2具备长弧灯2P。长弧灯2P具备被延设在基板W的整个宽度方向上的长度，与长弧灯2P的长边方向交差的方向设为扫描方向。
[0024]光照射部10具备支承光源2的光源支承导杆11。并且，光照射部10根据需要具备使光源2在光源支承导杆11上移动的移动机构12。移动机构12能够由电动缸或马达等构成。具备移动机构12时，在光源2的光源支承导杆11上的移动通过手动而实现。
[0025]图2是表示光源支承导杆的具体结构的说明图(图2(a)为俯视图，图2 (b)为显示光源的移动状态的侧视图)。光源支承导杆11将光源2在光学部件(波长选择过滤器3和偏振器4等)之上的光照射位置Pl支承的同时，在从光学部件向扫描方向(图示Y方向)远离的维护位置P2支承。图示的例子中，光源2经由导向轮13被移动自如地支承在光源支承导杆11上，扫描方向后方侧的导向轮13A被支承在在水平移动导杆IlA上，扫描方向前方的导向轮13B被支承在倾斜移动导杆IlB上。
[0026]—般使用扫描曝光基板W时，光源2在光照射位置Pl被支承在光源支承导杆11上，在该状态下从光源2射出的光透过波长选择过滤器3及偏振器4被照射在基板W上。
[0027]相对于光源2进行更换等维护时，使光源2移动至光源支承导杆11中的维护位置P2。维护位置P2为相对于光照射位置Pl向扫描方向远离的位置，被设定在远离波长选择过滤器3和偏振器4等光学部件的位置上。
[0028]使光源2从光照射位置Pl移动至维护位置P2时，通过扫描方向后方的导向轮13A在水平移动导杆IlA上移动，且扫描方向前方的导向轮13B在倾斜移动导杆IlB上移动，光源2的朝向以光照射侧沿扫描方向的方式发生变化。
[0029]图3是表不形态不同的光照射部的例子。图3 (a)是俯视图，图3 (b)是显不光源的移动状态的侧视图。该例子中，光照射部10的光源2被并列配置有多个光源单元2U。每一个光源单元2U的