像素电极、显示装置及像素电极的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明有关像素电极、显示装置及像素电极的制造方法。
【背景技术】
[0002]在液晶显示装置等平板型显示装置中，一般使用像素电极，通过对于每个像素控制显示光(包括被调制等的透过光和反射光)而形成图像。在液晶显示装置等透过型显示装置中，作为像素电极的形成材料，从光透过性和耐腐蚀性的观点来看，使用ιτο(氧化铟锡合金)和IZO(氧化铟锌合金)等透过性导电材料。
[0003]但是，在电泳显示装置等反射型显示装置中，一对电极中的位于显示面的相反侧的一方电极不需要具有透过性，甚至优选具有反射性。因此，例如专利文献I所示，提出了一种电气光学装置，其中，所述一方的电极由如下的导电膜构成，该导向膜通过层叠Al (铝)膜和由钼中含有三氧化二铝的材料构成的薄膜而形成。
[0004]但是，由上述的导电膜构成的电极，存在下述问题:当与包括电解质的液体接触时，容易引起腐蚀(溶解)，耐久性及可靠性有可能下降。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1:日本特开2009-230061号公报
【发明内容】
[0008]本发明为了解决上述问题的至少一部分而完成，能够通过以下的方式或者适用例而实现。
[0009](适用例I)本适用例涉及的一种像素电极为在具有显示层的显示装置中使用的像素电极，其中，所述显示层配置于一对基板间，所述像素电极的特征在于，包括:第一面与所述显示层接触的第一层；以及与所述第一层的与所述第一面相对的第二面接触的第二层，所述第一层的电极电位比所述第二层的电极电位低。
[0010]根据本适用例，在将电压施加于像素电极的情况下，在像素电极内发生从电极电位低的第一层向电极电位高的第二层的电子的流动。其结果是，在第一导电体层内发生氧化反应，在第二层内发生还原反应。在这种情况下，即使在显示层中包括电解质，如果能够适当地设定第二层的露出面积，也能够限制经由显示层的电子的授受，能够抑制第一层的氧化反应，即，能够抑制对于显示层的溶解。从而，即使在第一层中使用具有溶解性的反射性高的金属材料的情况下，也能够确保像素电极的耐久性，能够实现兼顾显示性能和可靠性的像素电极。
[0011](适用例2)上述适用例涉及的像素电极，其特征在于，所述第二层的端部未被所述第一层覆盖。
[0012]根据本适用例，能够抑制电子从第一层向第二层移动，能够抑制第一层对于显示层的溶解。
[0013](适用例3)上述适用例涉及的像素电极，其特征在于，形成有贯通所述第一层和所述第二层的孔。
[0014]根据本适用例，能够与该第二层的层厚无关地设定第二层的露出的面积。从而，能够任意地设定第二层的层厚，能够不损伤可靠性而实现显示性能高的像素电极。
[0015](适用例4)上述适用例涉及的像素电极，其特征在于，所述第一层的厚度比所述第二层的厚度厚。
[0016]根据本适用例，不使第二层的露出的面积不必要地增大而能够形成像素电极。
[0017](适用例5)上述适用例涉及的像素电极，其特征在于，所述第一层由Al或者Al合金形成。
[0018]Al或者Al合金具有高反射性。因此，根据本适用例，能够不损伤可靠性而实现显不性能尚的像素电极。
[0019](适用例6)上述适用例涉及的像素电极，其特征在于，所述第二层由Ti或者Ti合金形成。
[0020]根据本实施方式，Ti或者Ti合金具有高电极电位。因此，这种构成能够抑制第一层的溶解。
[0021](适用例7)本适用例涉及的显示装置，其特征在于，具有上述适用例中任一项所述的像素电极。
[0022]根据本适用例，由于具备上述像素电极，能够实现兼顾显示性能和可靠性的显示
目.ο
[0023](适用例8)上述适用例涉及的像素电极，其特征在于，具有安装端子，所述安装端子由所述第一层和所述第二层组成。
[0024]上述安装端子与上述像素电极通过同一工序形成。安装端子，与仅由反射性高的第一层构成的安装端子相比，其耐久性提高。因此，根据本适用例，能够不增加制造成本而实现具有可靠性高的安装端子的显示装置。
[0025](适用例9)本适用例涉及的像素电极的制造方法，其特征在于，包括:在绝缘层上形成第二导电体层的工序；在所述第二导电体层上形成第一导电体层的工序，其中，所述第一导电体层具有电极电位低于所述第二导电体层的形成材料的电极电位的材料；以及将所述第一导电体层和所述第二导电体层一起图案化而形成岛状的电极的工序。
[0026]根据本适用例，不使第二导电体层的露出的面积不必要地增大而能够形成像素电极。并且，能够减少图案化的工序数。因此，能够不增加制造成本而制造显示性能高的像素电极。
【附图说明】
[0027]图1为示出电泳显示装置的构成的概要立体图。
[0028]图2为示出电泳显示装置中的像素等的构造的概要截面图。
[0029]图3为示出第一实施方式涉及的像素电极的概要的图，图3的(a)为平面图，图3的(b)为图3的(a)的A-A线截面图，图3的(c)为图3的(b)的B所示出的部分的扩大图。
[0030]图4为示出以给定的时间将方形波施加至Ti层的露出面积较少的像素电极的结果的图。
[0031]图5为示出以给定的时间将方形波施加至Ti层的露出面积较多的像素电极的结果的图。
[0032]图6为示出实验所使用的像素电极的截面的图，图6的(a)为Ti层的露出面积较少的像素电极的截面图，图6的(b)为Ti层的露出面积较多的像素电极的截面图。
[0033]图7的(a)至(d)为示出像素电极的制造方法的工序图。
[0034]图8为示出第三?第五实施方式涉及的像素电极的图，图8的(a)为示出第三实施方式涉及的像素电极的图，图8的(b)为示出第四实施方式涉及的像素电极的图，图8的(C)为示出第五实施方式涉及的像素电极的图。
[0035]图9为与比较例一起示出的第六实施方式涉及的安装端子的图，图9的(a)为示出层叠Al层和Ti层而形成的第六实施方式涉及的安装端子的图，图9的(b)为示出比较例的安装端子的图。
[0036]符号说明
[0037]11元件基板；lla端子部；12相对基板；13焊线；15安装端子；15a安装端子；20电泳层；21黑色粒子；22白色粒子；23分散介质；24微胶囊；30 TFT ；33半导体层；
35第一接触孔；36栅极电极；37第二接触孔；39密封材料；40栅极绝缘膜；41第一层间绝缘膜；42第二层间绝缘膜；43中继层；44像素电极；44a像素电极；44b像素电极；44c像素电极；44d像素电极；44e像素电极；45相对电极；46粘接层；47 Al层；47a Al层前体；48 Ti层；48a Ti层前体；49孔；72光刻胶层；100电泳显示装置。
【具体实施方式】
[0038]下面，根据附图对于将本发明具体化的实施方式进行说明。此外，为了使说明的部分为能够识别的状态，适当扩大或者缩小显示所使用的附图。
[0039]此外，在以下的方式中，例如记载为“基板上”的情况表示:接触基板的上而配置的情况；或者，经由其他构成物而配置于基板上的情况；或者，一部分接触基板上而配置，一部分经由其他构成物而配置于基板上的情况。
[0040](第一实施方式)
[0041]首先，在说明本实施方式涉及的像素电极之前，使用图1及图2，例举电泳显示装置作为使用像素电极的显示装置进行说明。图1为示出电泳显示装置的构成的概要立体图，图2为示出电泳显示装置中的像素等的构造的概要截面图。
[0042](电泳显示装置)
[0043]如图1所示，作为本实施方式的显示装置的电泳显示装置100，具有相对配置的元件基板11及相对基板12。并且，在上述一对的基板间配置作为显示层的电泳层20(参照图2) ο此外，在本实施方式中，上述的一对基板均为方形，但不限于该形状。
[0044]电泳层20在上述一对基板间具有划分为矩阵状的多个区域，多个区域分别具有作为像素P的功能。也就是说，通过配列为矩阵状的多个像素P构成显示区域E。
[0045]此外，在本实施方式中，在显示区域E中，将矩阵状配置的像素P的行方向作为X方向，将像素P的列方向作为Y方向，将从元件基板11面向相对基板12而与X方向及Y方向正交的方向作为Z方向来说明。此外，在Z方向上，将从相对基板12侧观察称为平面视。
[0046]此外，像素P的配置图案不限于上述的矩阵状，例如，也可以采用三角状的配置图案。
[0047]在此，当元件基板11在四边内的一边侧比相对基板12大、使元件基板11和相对基板12在给定的位置相对配置时，从相对基