一种掩膜装置、曝光装置及曝光方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种掩膜装置、曝光装置及曝光方法。
【背景技术】
[0002]随着液晶显示技术的不断发展，液晶显示装置的应用越来越广泛。
[0003]目前，液晶显示装置的制作工艺主要包括涂布、曝光及显影三个过程。如图1所示，为现有的曝光装置I的结构示意图。待曝光基板10承载在曝光台11上，掩膜板(英文:mask) 12通过真空吸附在掩膜承载体13上。在使用现有的曝光装置I曝光过程中，一般保持掩膜板12和位于掩膜承载体13正上方的曝光光源14固定不动，通过移动曝光台11对待曝光基板10曝光。
[0004]然而，由于曝光间隙(掩膜板12的下表面与待曝光基板10的上表面之间的间隙)通常都非常小，且掩膜板12吸附在掩膜承载体13下部时由于受到重力会产生下垂，因此，若待曝光基板10表面存在异物，则在曝光过程中，该异物可能会划伤掩膜板12，导致掩膜板12报废，从而增加了液晶显示装置的生产成本。
【发明内容】
[0005]本发明的实施例提供一种掩膜装置、曝光装置及曝光方法，能够在曝光过程中大大降低掩膜板被划伤的几率，从而保护掩膜板，进而降低液晶显示装置的生产成本。
[0006]为达到上述目的，本发明采用如下技术方案:
[0007]—种掩膜装置，所述掩膜装置包括掩膜承载体，以及设置于所述掩膜承载体的下表面的掩膜板，所述掩膜装置还包括:
[0008]设置于所述掩膜承载体上的至少一个保护单元，其中，在曝光过程中，所述保护单元的下端低于所述掩膜板的下表面。
[0009]可选的，每个所述保护单元包括升降体和用于控制所述升降体在垂直方向上升降的控制模块。
[0010]可选的，所述控制模块包括与所述升降体连接的马达，
[0011]所述马达，用于控制所述升降体在垂直方向上升降。
[0012]可选的，所述控制模块还包括与所述升降体连接的光电感应器，
[0013]所述光电感应器，用于检测所述光电感应器与待曝光基板的上表面之间的间隙，所述光电感应器与所述待曝光基板的上表面之间的间隙用于计算所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙，以使得所述升降体的下端低于所述掩膜板的下表面，所述升降体的下端为所述保护单元的下端。
[0014]可选的，所述掩膜承载体上设置有开口，所述保护单元设置于所述开口内，所述马达固定在所述开口的内壁上。
[0015]可选的，所述控制模块中的马达的数量为两个，两个马达分别设置于所述升降体的两端。
[0016]可选的，所述升降体包括载体和设置于所述载体的下表面的凸起，
[0017]所述控制模块中的光电感应器的数量为两个，两个光电感应器分别设置于所述载体的下表面，并且设置在所述凸起的两端。
[0018]可选的，所述凸起在第一方向上的长度大于等于所述掩膜板在所述第一方向上的长度，其中，所述第一方向为所述两个光电感应器之间连线的方向。
[0019]可选的，所述凸起的形状为楔形。
[0020]一种曝光装置，包括具有以上特征的掩膜装置和用于承载待曝光基板的曝光台。
[0021]可选的，所述曝光装置还包括控制系统、升降体，以及与所述控制系统和所述升降体均连接的马达和光电感应器，
[0022]所述控制系统，用于根据所述光电感应器检测到的所述光电感应器与所述待曝光基板的上表面之间的间隙，和预设的所述光电感应器与所述升降体的下端之间的间隙，计算所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙；且若所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙小于等于0，则驱动所述马达在垂直方向上调节所述升降体，直至所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙大于O。
[0023]可选的，所述控制系统，还用于计算掩膜板的最大下垂量；并根据预设的曝光间隙和所述掩膜板的最大下垂量，计算所述掩膜板的下表面与所述待曝光基板的上表面之间的间隙；若所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙大于等于所述掩膜板的下表面与所述待曝光基板的上表面之间的间隙，则驱动所述马达在垂直方向上调节所述升降体，直至所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙小于所述掩膜板的下表面与所述待曝光基板的上表面之间的间隙。
[0024]一种利用具有上述特征的曝光装置进行曝光的方法，包括:
[0025]在垂直方向上，移动曝光台至与预设的曝光间隙对应的位置，其中，保护单元的下端低于掩膜板的下表面；
[0026]依次在水平方向上，移动所述曝光台，以使得所述曝光台上承载的待曝光基板的多个待曝光区域依次被移动到所述掩膜板的下方曝光。
[0027]可选的，所述方法还包括:
[0028]检测所述光电感应器与所述待曝光基板的上表面之间的间隙；
[0029]根据所述光电感应器与所述待曝光基板的上表面之间的间隙，和预设的所述光电感应器与所述升降体的下端之间的间隙，计算所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙；
[0030]若所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙小于等于0，则驱动所述马达在垂直方向上调节所述升降体，直至所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙大于O。
[0031]可选的，所述方法还包括:
[0032]计算所述掩膜板的最大下垂量；
[0033]根据所述曝光间隙和所述掩膜板的最大下垂量，计算所述掩膜板的下表面与所述待曝光基板的上表面之间的间隙；
[0034]若所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙大于等于所述掩膜板的下表面与所述待曝光基板的上表面之间的间隙，则驱动所述马达在垂直方向上调节所述升降体，直至所述升降体的下端与所述待曝光基板的上表面之间的间隙小于所述掩膜板的下表面与所述待曝光基板的上表面之间的间隙。
[0035]本发明提供一种掩膜装置、曝光装置及曝光方法，该掩膜装置包括掩膜承载体、设置于掩膜承载体的下表面的掩膜板，以及设置于掩膜承载体上的至少一个保护单元，其中，在曝光过程中，保护单元的下端低于掩膜板的下表面。通过该方案，由于在掩膜承载体上设置了保护单元，且保护单元的下端低于掩膜板的下表面，也即保护单元的下端比掩膜板的下表面的任一点都低，因此，在曝光过程中，若待曝光基板上有异物，那么该保护单元的下端可能会对该异物起到阻挡作用，使得该异物接触不到掩膜板，从而在曝光过程中可以大大降低掩膜板被待曝光基板上的异物划伤的几率，进而保护掩膜板，降低液晶显示装置的生产成本。
【附图说明】
[0036]图1为现有技术提供的曝光装置的结构示意图；
[0037]图2为本发明实施例提供的掩膜装置的结构示意图；
[0038]图3为本发明实施例提供的保护单元的剖视示意图；
[0039]图4为本发明实施例提供的保护单元的另一剖视示意图；
[0040]图5为本发明实施例提供的保护单元的设置结构的局部放大示意图；
[0041]图6为本发明实施例提供的保护单元的设置结构的示意图；
[0042]图7为本发明实施例提供的掩膜装置的仰视示意图；
[0043]图8为本发明实施例提供的升降体的放大示意图；
[0044]图9为本发明实施例提供的曝光装置的结构示意图一；
[0045]图10为本发明实施例提供的曝光装置的结构示意图二 ；
[0046]图11为本发明实施例提供的掩膜板设置的局部放大示意图；
[0047]图12为本发明实施例提供的曝光装置的结构示意图三；
[0048]图13为本发明实施例提供的曝光方法的流程图一；
[0049]图14为现有技术曝光过程的示意图与本发明实施例的曝光过程的示意图的对比图。
【具体实施方式】
[0050]下面结合附图对本发明实施例提供的掩膜装置、曝光装置及曝光方法进行详细地描述。
[0051]需要说明的是，为清楚地描述本发明所要保护的结构，故与本发明不相关的结构在各实施例及附图中做简化或省略处理，并且在各实施例及附图中做简化或省略处理的结构都是本领域技术人员在没有作出创造性劳动的前提下容易得到的，故在本实施例中不再赘述。
[0052]需要说明的是:本发明下述实施例中的“上”、“下”只是参考附图对本发明实施例进行说明，不作为限定用语。
[0053]进一步地，本发明实施例中的“上”、“下”均是按照曝光方向，即曝光光源的光线照射方向定义的，曝光光源发出的光线，沿着光线的方向，先经过的为“上”，后经过的为“下”。例如，曝光光源发出的光线，进入掩膜板的表面称为掩膜板的上表面，光线从掩膜板射出的表面称为掩膜板的下表面。
[0054]如图2所示，本发明实施例提供一种掩膜装置2，所述掩膜装置2可以包括掩膜承载体20，以及设置于所述掩膜承载体20的下表面的掩膜板21，所述掩膜装置2还可以包括设置于所述掩膜承载体20上的至少一个保护单元22，其中，在曝光过程中，所述保护单元22的下端223低于所述掩膜板21的下表面210。
[0055]本发明实施例提供的掩膜装置，通过在掩膜承载体上设置保护单元，且保护单