一种雕刻机改进型机头保护罩的利记博彩app

技术领域

本发明涉及一种雕刻机改进型机头保护罩，属于机床附件技术领域。

背景技术：

电脑雕刻机有激光雕刻和机械雕刻两类，这两类都有大功率和小功率之分。因为雕刻机的应用范围非常广泛，因此有必要了解各种雕刻机的最合适的应用范围： 1、胸牌：小功率激光雕刻机（刻章机）、大功率或小功率电脑雕刻机； 2、建筑模型：大、小功率电脑雕刻机； 3、金属（模具、章等）加工：大、小功率电脑雕刻机（大功率因每次切削量较多而省时）； 4、水晶字制作：大功率激光雕刻机（50W以上），大功率机械雕刻机； 5、木材、有机玻璃、人造石等标牌制作：大功率机械雕刻机； 6、展示、展览模型制作：大功率、大幅面机械雕刻机；7、陶瓷、模坯、玉石、工艺品、摆件、挂件、电子治具、手板雕刻：大功率电脑雕刻机。

现有的例如专利号为CN 104339959 A的专利申请文件公开了一种雕刻机针头保护罩，采用可弹性移动的保护罩结构，能够在针头与工件接触时将针头与操作者隔开；采用透明保护罩的结构，能够在物理隔离的前提下观察针头的工作状态。然而该保护罩结构为封闭式的，不利于加工过程中碎屑的及时排出以及刀具的有效散热。

技术实现要素：

本发明的目的在于，克服现有技术存在的缺陷，解决上述技术问题，提出一种雕刻机改进型机头保护罩。

本发明采用如下技术方案：一种雕刻机改进型机头保护罩，其特征在于，包括保护罩体，所述保护罩体内部嵌套设置有套筒，所述套筒的内部设置有驱动轴，所述驱动轴的下端嵌套设置有刀头，所述驱动轴的下端与所述刀头的上端配合联接，所述驱动轴的上端联接有驱动电机的输出轴，所述保护罩体上左右两侧对称设置有冷却液管，所述套筒的上端与所述保护罩体之间还设置有压缩弹簧。

优选地，保护罩体包括设置于上部的横向支架、设置于下部的外翻边罩，横向支架与外翻边罩固定连接。

优选地，横向支架上开设有与冷却液管相配合的限位孔一，外翻边罩上开设有与冷却液管相配合的限位孔二。

优选地，外翻边罩的底边高于刀头的底端的高度。

优选地，外翻边罩的底边与刀头的底端的高度差不大于套筒的顶端与保护罩体的顶边的距离。

优选地，外翻边罩上还开设有若干个等间距分布的贯通的排屑槽。

优选地，排屑槽为沿径向延伸的条形槽。

优选地，冷却液管的倾斜角度为30~60度。

本发明所达到的有益效果：本发明通过设置对称的冷却液管对刀头加工过程进行切削热降温，通过限制外翻边罩与刀头之间的高度差，防止加工碎屑飞溅的高度过高，通过使外翻边罩的底边高度高于刀头的底端高度以及在外翻边罩上开设排屑槽，加速碎屑的排出，防止碎屑堆积。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

图2是本发明的保护罩体的结构示意图。

图中标记的含义：1-保护罩体，2-套筒，3-驱动轴，4-刀头，5-压缩弹簧，6-横向支架，7-外翻边罩，8-冷却液管，9-限位孔一，10-限位孔二，11-排屑槽。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案，而不能以此来限制本发明的保护范围。

图1是本发明的结构示意图。本发明提出一种雕刻机改进型机头保护罩，包括保护罩体1，保护罩体1内部嵌套设置有套筒2，套筒2的内部设置有驱动轴3，驱动轴3的下端嵌套设置有刀头4，驱动轴3的下端与刀头4的上端配合联接，驱动轴3的上端联接有驱动电机的输出轴，保护罩体1上左右两侧对称设置有冷却液管8，套筒2的上端与保护罩体1之间还设置有压缩弹簧5。

作为一种较佳的实施例，保护罩体1包括设置于上部的横向支架6、设置于下部的外翻边罩7，横向支架6与外翻边罩7固定连接，外翻边罩7的材料可以采用铝合金或者合金钢。

图2是本发明的保护罩体的结构示意图。横向支架6上开设有与冷却液管8相配合的限位孔一9，外翻边罩7上开设有与冷却液管8相配合的限位孔二10。

作为一种较佳的实施例，外翻边罩7的底边高于刀头4的底端的高度，便于冷却液带走加工产生的碎屑。

作为一种较佳的实施例，外翻边罩7的底边与刀头4的底端的高度差不大于套筒2的顶端与保护罩体1的顶边的距离，便于冷却液带走加工产生的碎屑，同时防止碎屑飞溅的高度过高。

作为一种较佳的实施例，外翻边罩7上还开设有若干个等间距分布的贯通的排屑槽11，加速排出碎屑，防止碎屑堆积。

作为一种较佳的实施例，排屑槽11为沿径向延伸的条形槽。

作为一种较佳的实施例，冷却液管8的倾斜角度为30~60度。

本发明的工作原理：本发明通过设置对称的冷却液管8对刀头加工过程进行切削热降温，通过限制外翻边罩7与刀头4之间的高度差，防止加工碎屑飞溅的高度过高，通过使外翻边罩7的底边高度高于刀头4的底端高度以及在外翻边罩7上开设排屑槽，加速碎屑的排出，防止碎屑堆积。

以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和变形，这些改进和变形也应视为本发明的保护范围。