显示设备的制造方法
【专利说明】显不设备
[0001]相关申请的交叉参考
[0002]本申请基于并要求于2013年12月19日提交的日本专利申请N0.2013-262679、和于2014年5月23日提交的日本专利申请N0.2014-106860的优先权；其全部内容通过引用的方式并入本文中。
技术领域
[0003]本文所述的实施例总体上涉及一种显示设备。
【背景技术】
[0004]采用液晶、有机EL等的显示设备正在被开发。例如具有在显示设备中提供用于触摸输入的输入功能的情况。在显示设备中，均匀的显示是必要的。
【发明内容】
[0005]根据一个实施例，一种显示设备包括多个第一互连部、多个第二互连部、多个第三互连部、多个第四互连部、多个开关元件、多个像素电极、第一绝缘层、显示层和控制单元。第一互连部在第一方向上延伸，且被排列在与第一方向相交的第二方向上。第二互连部在第二方向上延伸，且被排列在第一方向上。每一个开关元件都电气连接到选自第一互连部中的一个互连部与选自第二互连部中的一个互连部。像素电极分别电气连接到开关元件。第三互连部在第三方向上延伸，以排列在第四方向上。第三方向与包括第一方向和第二方向的平面平行。第四方向与第三方向相交，并与所述平面平行。在第二互连部与第三互连部之间提供第一绝缘层。第四互连部在第五方向上与第一至第三互连部、开关元件和像素电极分隔开。第五方向垂直于所述平面。第四互连部在第四方向上延伸，以排列在第三方向上。显示层基于提供给像素电极的电信号，执行选自光学特性改变和发光中的至少一个的光学操作。在像素电极与第四互连部之间提供显示层。控制单元在感测区间中执行感测操作，所述感测操作包括感测在第四互连部与第三互连部的一个选择的第三互连部之间的电气特性，所述选择的第三互连部处于选择状态中，控制单元在所述感测区间之后的第一显示区间中执行第一显示操作，所述第一显示操作包括通过将第一扫描信号提供给选自于第一互连部中的至少一个互连并将第二互连部设置为显示电位以控制像素电极的电位，来使得显示层执行光学操作，控制单元在所述感测区间前的第二显示区间中执行第二显示操作，所述第二显示操作包括通过将第二扫描信号提供给选自于第一互连部中的至少一个互连并将第二互连部设置为显示电位以控制像素电极的电位，来使得显示层执行光学操作，并且控制单元在所述感测区间后和所述第一显示区间前的预显示区间中执行预显示操作，所述预显示操作包括将第二互连部中的至少一个互连设置为预显示电位的第一电压施加操作。预显示电位的绝对值大于显示电位的绝对值。
【附图说明】
[0006]图1是示出根据第一实施例的显示设备的示意性横截面图；
[0007]图2是示出根据第一实施例的显示设备的示意性透视图；
[0008]图3是示出根据第一实施例的显示设备的示意图；
[0009]图4是示出根据第一实施例的显示设备的示意图；
[0010]图5是示出根据第一实施例的显示设备的操作的示意图；
[0011]图6是示出根据第一实施例的显示设备的特性的曲线图；
[0012]图7是示出根据第一实施例的显示设备的操作的示意图；
[0013]图8是示出根据第一实施例的另一个显示设备的示意图；以及
[0014]图9是示出根据第二实施例的显示设备的驱动设备的操作的流程图。
【具体实施方式】
[0015]现在将参考附图来说明本发明的实施例。
[0016]本公开内容仅是示例性的；并且本领域技术人员易于想到的本发明的精神内的适当变型当然也在本发明的范围内。此外，尽管在附图中为了说明的清楚，相比于实际方案示意性地显示了各部分的宽度、厚度、结构等，但它们仅仅是示例性的；本发明的构造不限于此。
[0017]此外，在说明书和附图中，与相关于以上的附图加以说明的那些相似的组件标记相似的参考标记作，并适当地省略了详细说明。
[0018]第一实施例
[0019]图1是示出根据第一实施例的显示设备的示意性横截面图。
[0020]如图1所示的，根据实施例，在显示设备110中提供有第一衬底单元10u、第二衬底单元20u和显示层30。在示例中，将液晶用作显示层30。如下所述，有机发光层等可以用作显示层30。在显示设备110中提供有多个像素35。图1示出了一个像素35的一部分。
[0021]例如，将TFT (薄膜晶体管)阵列衬底用作第一衬底单元10u。例如，在第一衬底单兀1u中提供有第一衬底10、栅极线GL (第一互连部LI)、开关兀件11、信号线SL (第二互连部L2)、公用线CL(第三互连部L3)和像素电极Px。
[0022]例如，栅极线GL和信号线SL例如在X-Y平面中延伸。平行于X_Y平面的一个方向是X轴方向。平行于X-Y平面且垂直于X轴方向的方向是Y轴方向。垂直于X-Y平面的方向是Z轴方向。第一衬底单元1u在X-Y平面中延伸。
[0023]在示例中，第一衬底10是透光的。例如，第一衬底10包括玻璃或树脂。在第一衬底10上提供有栅极线GL。
[0024]在示例中，将TFT用作开关元件11。开关元件11包括半导体层12。半导体层12包括第一部分12a、第二部分12b和第三部分12c。第二部分12b在X-Y平面中与第一部分12a分隔开。当投影到X-Y平面上时，第三部分12c布置在第一部分12a与第二部分12b之间。第一部分12a是从开关源极11的源极和漏极中选择的一个。第二部分12b是从源极和漏极中选择的另一个。第三部分12c是开关源极11的沟道部。
[0025]开关元件11进一步包括栅极Ilg和栅极绝缘膜lli。在第三部分12c与栅极Ilg之间提供栅极绝缘膜lli。在示例中，第三部分12c布置在栅极Ilg上。在示例中，开关元件11具有底栅结构。在实施例中，开关兀件11可以具有顶栅结构。
[0026]从栅极线GL和栅极Ilg中选择的至少一个包括第一金属层。第一金属层例如包括从Mo(钥)、MoW(钥-钨合金)、A1(铝)和Cu(铜)中选择的至少一种。例如，第一金属层包括Mo。
[0027]半导体层12例如包括从多晶娃(polycrystalline silicon)、非晶娃(amorphoussilicon)和晶体硅中选择的至少一个。氧化物半导体可以用作半导体层12。例如，半导体层12可以包括氧化物，所述氧化物包括从铟(In)、镓(Ga)和锌(Zn)中选择的至少一个。
[0028]信号线SL电气连接到第一部分12a。在示例中，信号线SL的一部分(第一连接部15a)电气连接到第一部分12a。在示例中，第一连接部15a由第一连接导电部15c连接到第一部分12a。
[0029]在实施例中，电气连接的状态包括两个导体直接接触的状态以及电流在两个导体之间流动且这两个导体之间插入有另一个导体的状态。此外，电气连接的状态包括有可能形成电流在两个导体之间流动且期间有元件(例如开关元件等)插入的状态。
[0030]另一方面，在第二部分12b上提供第二连接导电部15d。在第二连接导电部15d上提供第二连接部15b。
[0031]第一连接部15a (信号线SL)、第一连接导电部15c、第二连接部15b和第二连接导电部15d包括第二金属层。第二金属层例如包括从Al (铝)和Cu(铜)中选择的至少一种。例如，第二金属层包括Al。
[0032]在第一连接部15a(信号线SL)与半导体层12之间、第一连接导电部15c与半导体层12之间、第二连接部15b与半导体层12之间、和第二连接导电部15d与半导体层12之间提供有层间绝缘层13。
[0033]层间绝缘层13例如包括金属氧化物等。层间绝缘层13例如包括从二氧化硅、氮化硅、和氮氧化硅中选择的至少一种。
[0034]在示例中，在信号线SL等的第二金属层上提供公用线CL。在公用线CL与信号线SL之间提供第一绝缘层II。如下所述，显示设备110包括多条信号线SL和多条公用线CL。在此情况下，在多条信号线SL和多条公用线CL之间提供第一绝缘层II。
[0035]第一绝缘层Il例如起到平坦化层的作用。例如，第一绝缘层Il包括有机材料。第一绝缘层Ii例如包括从丙烯酸树脂和聚亚胺树脂中选择的至少一个。通过将有机材料用作第一绝缘层Ii而获得了良好的平坦度。
[0036]在公用线CL上提供像素电极Px。在示例中，像素电极Px具有梳状结构；像素电极Px包括具有带状结构的多个部分Pxs。多个部分Pxs在X-Y平面中彼此分隔开。像素电极Px电气连接到第二连接部15b。在示例中，像素电极Px由第三连接导电部17电气连接到第二连接部15b。
[0037]从公用线CL和像素电极Px中选择的至少一个例如包括透光的导电层。例如,从公用线CL和像素电极Px中选择的至少一个包括氧化物，所述氧化物包括从由In、Sn、Zn、Ti构成的组中选择的至少一种元素。公用线CL和像素电极Px例如可以包括ΙΤ0(氧化铟锡)等。例如，透光的薄金属层可以用作公用线CL和/或像素电极Px。
[0038]在多个像素35的每一个像素中提供至少一个开关元件11和至少一个像素电极Px。换句话说，分别在多个像素35中提供多个开关元件11。分别在多个像素35中提供多个像素电极Px。
[0039]在像素电极Px与公用线CL之间提供第二绝缘层12。在示例中，在从多个像素电极Px中选择的一个像素电极的至少一部分与从多条信号线SL中选择的一条信号线的至少一部分之间布置多条公用线CL的至少一部分。在上述的多条公用线CL的至少一部分与上述的从多个像素电极Px中选择的一个像素电极的至少一部分之间布置第二绝缘层12。
[0040]第二绝缘层12例如可以包括与第一绝缘层Il相同的材料。第二绝缘层12例如可以包括金属化合物(氧化物、氮化物、氮氧化物等)。第二绝缘层12的材料是任意的。
[0041]在示例中，在像素电极Px上提供第一配向膜18。
[0042]第二衬底单元20u在Z轴方向上与第一衬底单元1u分隔开。在示例中，第二衬底单元20u包括第二衬底20、滤色器层25、第二配向膜28、和感测线RL(第四互连部4)。在感测线RL与第一衬底单元1u之间提供第二衬底20。在第二衬底20与第一衬底单元1u之间提供滤色器层25。在滤色器层25与第一衬底单元1u之间提供第二配向膜28。
[0043]在示例中，第二衬底20是透光的。第二衬底20例如包括玻璃或树脂。
[0044]感测线RL例如是透光的。感测线RL包括氧化物(例如ITO等)，所述氧化物包括从由In、Sn、Zn、Ti等构成的组中选择的至少一个元素。透光的薄金属层可以用作感测线RL0
[0045]滤色器层25例如包括红色层、绿色层、蓝色层等。分别对应于多个像素35布置红色层、绿色层和蓝色层。滤色器层25可以具有四种或更多的颜色。在实施例中可以省略滤色器层25。可以在第一衬底单元1u中提供滤色器层。
[0046]第一配向膜18和第二配向膜28例如包括聚酰亚胺(polyimide)等。这些配向膜在必要时执行配向处理(打磨处理等)。
[0047]在第一衬底单元1u与第二衬底单元20u之间提供显示层30。如下所述，提供了多个像素电极Px和多条感测线RL。显示层30布置在多个像素电极Px和多条感测线RL之间。例如，显示层30布置在第一配向膜18与第二配向膜28之间。
[0048]显示层30基于例如提供给多个像素电极Px的电信号来执行光学操作。例如，