表面处理剂的利记博彩app
【技术领域】
[0001] 本发明涉及可使化妆保持性与冲洗性并存的表面处理剂。
【背景技术】
[0002] 由于化妆产品、防晒产品等的化妆料1整天被涂布于肌肤，所以寻求化妆保持性 的良好度。因此，为了不发生汗、泪等水分引起的脱妆，通过高级脂肪酸、氟化合物、有机硅 等疏水性的表面处理剂对化妆料中所包含的粉体进行防水（water-repe 11 ing)化处理。
[0003] 然而，虽然实施了防水化处理的粉体的化妆保持性提高，但由于清洗时变得难以 用水洗掉，所以必须使用专用的洁肤剂、反复清洗数次才能洗掉。
[0004] 若将粉体进行亲水化处理，则冲洗性提高，但是由于亲水性粉体的化妆保持性变 差，故而必须频繁地进行补妆。即，难于使需要疏水性的化妆保持性与需要亲水性的冲洗性 并存。
[0005] 专利文献1记载了由有机硅构成的表面处理剂，专利文献2记载了由丙烯酸类及/ 或其酯的共聚物构成的表面处理剂，专利文献3记载了由烷基氟改性有机硅油构成的表面 处理剂。此外，专利文献4记载了由甲基丙烯酰胺十一酸与丙烯酰胺甲磺酸钠构成的耐水 性与易冲洗性并存的表面处理剂。
[0006] 现有技术文献
[0007] 专利文献
[0008] 专利文献1日本特开昭60-163973号公报
[0009] 专利文献2日本特开平8-337514号公报
[0010] 专利文献3日本特开平08-143423号公报
[0011] 专利文献4日本专利第4681406号公报
【发明内容】
[0012] 本发明在于提供下述表面处理剂，即通过干燥时为疏水性，与水接触时慢慢变为 亲水性，从而化妆保持性与冲洗性并存。
[0013] 用于解决上述课题的方法如下所示。
[0014] 1. -种表面处理剂，其特征在于，含有下述通式⑴表示的第1嵌段共聚物，
[0016](式（1)中，Ri、!^各自独立地表不烷基、聚氧化亚烷基、醜基、苯基、芳烷基，X表不 不邻接的碳原子可被氧原子取代从而形成醚的碳原子数1~18的烷基链，Y表示单键或2 价的连接基团，Zi表示氢原子或甲基，n、m表示聚合度。）
[0017] 2.根据1.所述的表面处理剂，其特征在于，所述第1嵌段共聚物的Rp R2为碳原 子数1~4的烷基或苯基。
[0018] 3.根据2.所述的表面处理剂，其特征在于，所述第1嵌段共聚物的Rp R2同为甲 基。
[0019] 4. -种表面处理剂，其特征在于，含有下述通式⑵表示的第2嵌段共聚物，
[0021 ](式（2)中，R3、R4各自独立地表不氣原子、烷基、苯基、烷氧基，W表不氣原子或甲 基，z2表示氢原子或甲基，p、q表示聚合度。）
[0022] 5.根据4.所述的表面处理剂，其特征在于，所述第2嵌段共聚物的R3、R 4为氢原 子、碳原子数1~4的烷基或碳原子数1~4的醚基。
[0023] 6.根据5.所述的表面处理剂，其特征在于，所述第2嵌段共聚物的R3、R 4同为氢 原子。
[0024] 7.根据1.~3.中任一项所述的表面处理剂，其特征在于，含有4.~6.中任一项 所述的第2嵌段共聚物。
[0025] 8.根据7.所述的表面处理剂，其特征在于，所述第1嵌段共聚物与所述第2嵌段 共聚物的重量比为80 :20~20 :80。
[0026] 由于本发明的表面处理剂在干燥环境下显示疏水性、在湿润环境下显示亲水性， 所以当用于化妆料中的粉体时，可得到使用中的化妆保持性优异、易于冲洗的化妆料。
【附图说明】
[0027] 图1为由第1嵌段共聚物构成的薄膜的表面偏析模型。
[0028] 图2为由第2嵌段共聚物构成的薄膜的表面偏析模型。
[0029] 图3为由第1嵌段共聚物与第2嵌段共聚物构成的薄膜的表面偏析模型。
[0030] 图4为第1嵌段共聚物的i-NMR图谱。
[0031] 图5为表示表面处理膜1的接触角变化的图。
[0032] 图6为表示表面处理膜2的接触角变化的图。
[0033] 图7为表示表面处理膜3的接触角变化的图。
[0034] 图8为表示表面处理膜4的接触角变化的图。
[0035] 图9为表示在不同条件下形成的表面处理膜的接触角变化的图。
[0036] 图10为表示表面处理膜7的接触角变化的图。
[0037] 图11为表示表面处理膜8的接触角变化的图。
[0038] 图12为表示表面处理膜9的接触角变化的图。
[0039] 图13为表示表面处理膜10的接触角变化的图。
[0040] 图14为表示表面处理膜11的接触角变化的图。
[0041] 图15为表示表面处理膜12的接触角变化的图。
[0042] 符号说明
[0043] 1. Q 片段
[0044] 2. PTMC 片段
[0045] 3. PEG 片段
[0046] 4. D-PTMC 片段
【具体实施方式】
[0047] "含有嵌段共聚物的表面处理剂"
[0048] 通常而言，由于不同种类的高分子不相溶，所以混合时会分离，然而由于嵌段共聚 物的不同种类的高分子链通过共价键而连接，所以在宏观尺度（macro scale)上无法分离。 因此，嵌段共聚物的具有不同重复单元的片段彼此要尽可能分离，则发生以分子链的大小 程度进行分离的微相分离。
[0049] 在高分子链具有流动性的玻璃化温度以上，根据外部环境嵌段共聚物一侧的片段 向表面移动，以便表面能变得更低。即，根据周围的环境发生片段的再取向，从而引起一侧 的片段在表面偏在的表面偏析。嵌段共聚物的表面偏析可通过X射线光电子分光法、能量 分散型X射线分析法、傅立叶变换红外分光计-衰减全反射法、透射电子显微镜等进行观 察。
[0050] 本发明的表面处理剂利用了如下特征，即在形成嵌段共聚物的具有不同重复单元 的片段中，干燥下更为疏水的片段在表面发生偏析，湿润下更为亲水的片段在表面发生偏 析。由于通过该表面偏析，本发明的表面处理剂在干燥时为疏水性而与水接触等时慢慢变 为亲水性，所以当应用于化妆料中的粉体时，可使化妆保持性与冲洗性并存。
[0051] 在此，形成本发明的嵌段共聚物的片段没有必要为亲水性和疏水性的片段，只要 相对地与亲水性的程度有差别即可。即，也可为由疏水性片段与疏水性片段构成的嵌段共 聚物。
[0052] 可通过将本发明的表面处理剂溶解于有机溶剂，并将其溶液涂布于被处理物并进 行干燥，从而来进行表面处理。被处理物并不限定于粉体，也可为由各种塑料构成的薄膜、 玻璃板、金属板等。此外，通过将本发明的表面处理剂与粉体进行混合并搅拌，即使不使用 有机溶剂也可进行表面处理。
[0053] "第1嵌段共聚物"
[0054] 本发明中使用的第1嵌段共聚物如下述通式（1)所示。
[0055]
[0056] 式（1)中，Rp R2各自独立地表不烷基、聚氧化亚烷基、醜基、苯基、芳烷基，X表不 不邻接的碳原子可被氧原子取代从而形成醚的碳原子数1~18的烷基链，Y表示单键或2 价的连接基团，Zi表示氢原子或甲基，n、m表示聚合度。
[0057] 当&、私的分子结构的体积大时，由于运动性降低从而相对于环境变化的响应性 降低，所以优选碳原子数1~4的烷基、苯基，最优