一种大樱桃砧木吉塞拉组培方法及培养基的利记博彩app
【专利说明】
[0001]
技术领域
[0002] 本发明属于果树培育农业生物技术领域，尤其涉及一种大樱桃砧木吉 塞拉组培方法及培养基。
【背景技术】
[0003] 大樱桃是我国北方落叶果树中继中国樱桃之后果实成熟最早的果树树种。中医药 学认为，大樱桃具有调中补气，祛风湿的功能。樱桃被誉为"水果中的钻石"，含铁量较高，含 有丰富的蛋白质，维生素 A、B、C，还有钾、钙、磷、铁等矿物质以及多种维生素。对大樱桃来 说砧木的选择直接影响果实的质量和产量，吉塞拉6号砧木和大樱桃亲和力强，对土壤适 应性广，抗根癌病，耐多种病毒病和细菌性溃疡病，结果早，丰产性好。因此大樱桃砧木吉塞 拉6号的需求急剧增加。目前，吉塞拉6号砧木的繁殖方式以组织培养快繁为主，其它组培 室因培养条件培养方法和培养基配方的不合理，造成繁殖系数低、移栽成活率低下、成本高 的缺点，导致吉塞拉6号砧木无论从数量、质量和价格上都不能满足市场需求。
【发明内容】
[0004] 本发明的目的在于提供一种大樱桃砧木吉塞拉组培方法，旨在解决大樱桃砧木吉 塞拉外植体选择、外植体采集时间、外植体消毒方法、接种、培养室培养、炼苗方面的技术难 点问题；同时提供一种大樱桃站木吉塞拉培养基，旨在解决大樱桃站木吉塞拉传统技术的 外植体污染率高、分化率低、增殖系数低、移栽成活率低、成本高等问题， 本发明是这样实现的，一种大樱桃砧木吉塞拉培养基，大樱桃砧木吉塞拉培养基设置 为大樱桃站木吉塞拉6号培养基，该大樱桃站木吉塞拉培养基包括诱导培养基、增殖培养 基和生根培养基； 所述诱导培养基包括：1L培养基中含有MS基础培养基各工作液原料、6-苄氨基嘌呤 1.0 mg/L、吲噪丁酸 0· lmg/L、鹿糖 30000mg/L、琼脂 10000_15000mg/L ; 所述增殖培养基包括：1L培养基中含有MS基础培养基各工作液原料、6-苄氨基嘌呤 0· 5mg/L、H引噪丁酸 〇· lmg/L、鹿糖 30000mg/L、琼脂 10000_15000mg/L ; 所述生根培养基包括：IL培养基中含有1/2MS基础培养基各工作液原料、吲哚丁酸 0· 6mg/L、蔗糖 30000mg/L、琼脂 10000-15000mg/L。
[0005] 进一步，所述MS培养基的工作液包括：大量元素、微量元素、肌醇、有机溶液和铁 盐； 所述大量元素包括硝酸铵NH2NO3、硝酸钾KNO3、氯化钙CaCl 2 · 2H20、硫酸镁MgSO4 · 7H20 和磷酸二氢钾KH2PO4 ; 所述微量元素包括碘化钾KI、硼酸H3BO3、硫酸锰MnSO4 ·4Η20、硫酸锌ZnSO4 ·7Η20、钼酸 钠 Na2MoO4 · 2Η20、硫酸铜 CuSO4 · 5Η20 和氯化钴 CoCl2 · 6Η20 ; 所述有机溶液包括烟酸、盐酸吡哆醇和甘氨酸； 所述铁盐包括 FeSO4 · 7H20 和 Na2-EDTA · 2H20。
[0006] 进一步，所述MS培养基的工作液浓度为：硝酸铵NH2NO3 1650 mg/L、硝酸钾KNO3 1900mg/L、氯化钙 CaCl2 · 2H20 440mg/L、硫酸镁 MgSO4 · 7H20 370mg/L、磷酸二氢钾 KH2PO4 170mg/L ； 碘化钾 KI 0· 83mg/L、硼酸 H3BO3 6. 2mg/L、硫酸锰 MnSO4 · 4H20 22. 3mg/L、硫酸锌 ZnSO4 · 7H20 8. 6mg/L、钼酸钠 Na2MoO4 · 2H20 0· 25mg/L、硫酸铜 CuSO4 · 5H20 0· 0025mg/L 和 氯化钴 CoCl2 · 6H20 0· 0025mg/L ; 肌醇：l〇〇mg/L ; 烟酸0· 5mg/L、盐酸吡咳醇0· 5mg/L、盐酸硫胺素0· 5mg/L、甘氨酸2. Omg/L ; FeSO4 · 7H20 27. 8mg/L、Na2-EDTA · 2H20 37. 3mg/L。
[0007] 进一步，所述诱导培养基pH值5.8-6. 0，增殖培养基pH值5.8-6. 0，生根培养基 pH 值 5. 8-6. 0。
[0008] 本发明另一目的在于提供一种利用大樱桃站木吉塞拉培养基的大樱桃站木吉塞 拉组培方法，该大樱桃站木吉塞拉设置为大樱桃站木吉塞拉6号，该大樱桃站木吉塞拉组 培方法包括： 步骤一，在植物早春发芽时，采集健壮的无病虫害大樱桃砧木吉塞拉6号的嫩叶、生长 点、腋芽，作为组织培养的外植体，将采集到的外植体用洗衣粉水清洗干净，再放在流水下 冲洗30min，在超净工作台上于培养皿中用75%酒精消毒10-60s，再用无菌水冲洗3-5遍， 之后用质量百分比为〇. 1%的升汞消毒3-8min，无菌水冲洗3-5遍； 步骤二，将消毒后的外植体接种到诱导培养基上，送入培养室进行无菌培养，培养基 为 MS+6-BA1. 0mg/L+IBA0· lmg/L+ 蔗糖 30000mg/L+ 琼脂 10000-15000mg/L ;经诱导分化 后，得到丛生芽，将丛生芽转移到增殖培养基中进行增殖培养，得到组培苗，增殖培养基为 MS+6-BA0. 5mg/L+IBA0. lmg/L+蔗糖 30000mg/L+琼脂 10000-15000mg/L ; 步骤三，将分花苗接种在生根培养基中进行生根培养，生根培养基为1/2MS+IBA0. 6mg/ L+蔗糖30000mg/L+琼脂10000-15000mg/L，暗培养10-12d，再光照培养3周，得到扎根的组 培苗； 步骤四，将扎根后的组培苗炼苗3d，移栽到蛭石为基质的栽培盘中在温室内锻炼，当组 培苗移栽成活后40-60d，移栽到大田中。
[0009] 本发明提供的一种大樱桃砧木吉塞拉组培方法及培养基相对于现有技术具有的 优点和进步在于： 本发明方法提高了大樱桃砧木吉塞拉6号的繁殖系数，弥补了传统组织培养技术的一 些不足，如降低了外植体的污染率、提高了诱导丛生芽及继代增殖的繁殖系数，移栽成活率 也大大提高。外植体采集、消毒效果、超净工作台转接效果、无菌培养室培养效果、生根诱导 效果、生根苗移栽效果、幼苗扩大繁殖速度等均优于以往大樱桃砧木吉塞拉6号的组培快 繁技术，所建立的规模化、工厂化育苗体系稳定，生产周期短，加快大樱桃砧木吉塞拉6号 的繁殖速度，打破繁殖的季节、种性的限制。本发明的组培配方是大樱桃砧木吉塞拉6号大 量扩大繁殖的最佳组合配方，可以快速大量繁殖砧木幼苗，满足市场需求。
【附图说明】
[0010] 图1是本发明实施例提供的大樱桃砧木吉塞拉组培方法流程图。
[0011] 图2是本发明实施例提供的大樱桃砧木吉塞拉培养基分类示意图。
[0012] 图中：1、大樱桃砧木吉塞拉培养基；2、诱导培养基；3、增殖培养基；4、生根培养 基。
【具体实施方式】
[0013] 为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合实施例，对本发明 进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于 限定本发明。
[0014] 下面结合附图对本发明的应用原理作进一步描述： 如图1所示一种大樱桃砧木吉塞拉组培方法，该大樱桃砧木吉塞拉设置为大樱桃砧木 吉塞拉6号，大樱桃站木吉塞拉组培方法包括： S101，在植物早春发芽时，采集健壮的无病虫害大樱桃砧木吉塞拉6号的嫩叶、生长 点、腋芽，作为组织培养的外植体，将采集到的外植体用洗衣粉水清洗干净，再放在流水下 冲洗30min，在超净工作台上于培养皿中用75%酒精消毒10-60s，再用无菌水冲洗3-5遍， 之后用质量百分比为〇. 1%的升汞消毒3-8min，无菌水冲洗3-5遍； 5102, 将消毒后的外植体接种到诱导培养基上，送入培养室进行无菌培养，培养基 为 MS+6-BA1. 0mg/L+IBA0· lmg/L+ 蔗糖 30000mg/L+ 琼脂 10000-15000mg/L ;经诱导分化 后，得到丛生芽，将丛生芽转移到增殖培养基中进行增殖培养，得到组培苗，增殖培养基为 MS+6-BA0. 5mg/L+IBA0. lmg/L+蔗糖 30000mg/L+琼脂 10000-15000mg/L ; 5103, 将分花苗接种在生根培养基中进行生根培养，生根培养基为1/2MS+IBA0. 6mg/L+ 蔗糖30000mg/L+琼脂10000-15000mg/L，暗培养10-12d，再光照培养3周，得到扎根的组培 苗； 5104, 将扎根后的组培苗炼苗3d，移栽到蛭石为基质的栽培盘中在温室内锻炼，当组培 苗移栽成活后40-60d，移栽到大田中。
[0015] 如图2 : -种大樱桃站木吉塞拉培养基，大樱桃站木吉塞拉培养基设置为大樱桃 砧木吉塞拉6号培养基，该大樱桃砧木吉塞拉培养基包括诱导培养基、增殖培养基和生根 培养基； 所述诱导培养基包括：1L培养基中含有MS基础培养基各工作液原料、6-苄氨基嘌呤 1.0 mg/L、吲噪丁酸 0· lmg/L、鹿糖 30000mg/L、琼脂 10000_15000mg/L ; 所述增殖培养基包括：1L培养基中含有MS基础培养基各工作液原料、6-苄氨基嘌呤 0· 5mg/L、H引噪丁酸 〇· lmg/L、鹿糖 30000mg/L、琼脂 10000_15000mg/L ; 所述生根培养基包括：IL培养基中含有1/2MS基础培养基各工作液原料、吲哚丁酸 0· 6mg/L、蔗糖 30000mg/L、琼脂 10000-15000mg/L。
[0016] 所述MS培养基的工作液包括：大量元素、微量元素、肌醇、有机溶液和铁盐； 所述大量元素包括硝酸铵NH2NO3、硝酸钾KNO3、氯化钙CaCl 2 · 2H20、硫酸镁MgSO4 · 7H20 和磷酸二氢钾KH2PO4 ; 所述微量元素包括碘化钾KI、硼酸H3BO3、硫酸锰MnSO4 ·4Η20、硫酸锌ZnSO4 ·7Η20、钼酸 钠 Na2MoO4 · 2H20、硫酸铜 CuSO4 · 5H20 和氯化钴 CoCl2 · 6H20 ; 所述有机溶液包括烟酸、盐酸吡哆醇和甘氨酸； 所述铁盐包括 FeSO4 · 7H20 和 Na2-EDTA · 2H20。
[0017] 所述MS培养基的工作液浓度为：硝酸铵NH2NO3 1650 mg/L、硝酸钾KNO3 1900mg/ U 氯化钙 CaCl2 · 2H20 440mg/L、硫酸镁 MgSO4 · 7H20 370mg/L、磷酸二氢钾 KH2PO4 170mg/L ; 碘化钾 KI 0· 83mg/L、硼酸 H3BO3 6. 2mg/L、硫酸锰 MnSO4 · 4H20 22. 3mg/L、硫酸锌 ZnSO4 · 7H20 8. 6mg/L、钼酸钠 Na2MoO4 · 2H20 0· 25mg/L、硫酸铜 CuSO4 · 5H20 0· 0025mg/L 和 氯化钴 CoCl2 · 6H20 0· 0025mg/L