本实用新型具体涉及一种樱桃种子沙藏装置,属于果树育苗技术领域。
背景技术:
沙藏是一种解决果树出苗率低的有效方法,例如樱桃,通常需要使用沙藏法,才能保证出苗。
对于樱桃种子,需要的沙藏时间一般超过半年,低温层积法是一种有效的沙藏方法,在低温沙藏条件下,樱桃种子解除休眠,提高第二年的发芽率。
目前实际生产中,沙藏的方法主要包括挖坑法和袋装法,挖坑法的缺点在于受外界温度湿度环境的影响比较大,沙藏过程中需要经常照看,否则难以获得满意的出芽率。袋装法的缺点在于操作比较费力,沙层内外湿度不均匀,不适合沙藏周期长的植物。
为解决上述问题,现有技术中有一些技术方案,设计了专门的沙藏装置,以替代传统的做法。例如中国实用新型专利,CN 204244670 U,公开了种子沙藏装置,主要解决了保证沙层湿度的问题,但是其结构过于复杂,并且由于沙子中的水是往下走的,实际上这种装置的沙子是不可能吸水的,因此其效果有限。
技术实现要素:
因此,本实用新型针对现有技术的上述问题,提供一种结构简单,操作方便,可保证樱桃种子发芽率的樱桃种子沙藏装置,
具体的,樱桃种子沙藏装置,包括外桶及内桶,外桶为木制,外桶包括桶底及桶身,内桶中空,所述内桶高度为外桶高度的三分之一至四分之一,所述内桶直径为外桶直径的二分之一至三分之一,所述外桶与内桶之间还设有注水管,所述注水管包括横向出水管及竖向进水管。
进一步的,所述外桶高度为1米,外桶直径为1米。所述内桶高度为30厘米,内桶直径为60厘米。
进一步的,所述注水管数量为两个,对称设置。所述注水管固定在外桶内壁上,所述横向出水管设置在外桶桶身一半高度位置。
进一步的,所述内桶由大小相等的三块弧形板相互插接而成。
进一步的,所述弧形板为木板或塑料板。
本实用新型的有益效果在于:本实用新型的樱桃种子沙藏装置,通过简单的结构设计,外桶和内桶之间的空隙用于装土壤,模拟了传统的挖坑法的种子沙藏环境,可根据需要搬运,避免了外界温湿度环境的影响,通过注水管为沙层中间部分注水,保证了沙层的湿度均衡,由于沙藏环境的改善,提高了樱桃种子的出芽率。本实用新型的樱桃种子沙藏装置尤其适合于樱桃沙藏使用,同时也适用于其它沙藏期比较长的果树种子使用。
附图说明
图1为实施例1樱桃种子沙藏装置的整体结构示意图;
图2为实施例1樱桃种子沙藏装置的外桶的结构示意图;
图3为实施例2樱桃种子沙藏装置的内桶的结构示意图;
图4为图3中内桶的横截面示意图。
附图标记如下:1、外桶,2、内桶,3、注水管,4、横向出水管,5、竖向进水管,6、弧形板。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的具体实施方式进行说明:
实施例1
如图1所示,在本实施例中,沙藏装置主要包括外桶1及内桶2,外桶1为木制桶,外桶1包括桶底和桶身,外桶1与内桶2之间的空隙装土壤,模拟挖坑法的沙藏环境,为沙层提供保温保湿的效果,内桶2为中空桶,只在装填沙子和樱桃种子时使用。
在使用中,由于沙子本身的透水性能,沙层需要经常补水,如果只在顶部浇水,很难保证整个沙层含水量的均匀,因此在本实施例中,设计了注水管3,注水管3埋藏在土层中,从沙层中间位置补水。
如图2所示,注水管2共设置两根,对称布置,注水管3可以在填土的过程中固定,也可以直接固定在外桶1内壁上,将横向出水管4的出水口设置在外桶1的一半高度处,竖向出水管5伸出土层外部。
在本实施例中,接近与挖坑法的操作实践,沙藏装置的结构尺寸具体设计为:外桶1高度为1米,外桶1直径为1米。内桶2高度为30厘米,内桶2直径为60厘米。
沙藏装置的使用方法如下:
首先准备好樱桃种子、沙子、土壤,沙子预先调整好湿度,以手握成团,松手即散为准,土壤选用普通的种植土。
首先在外桶1内填上一层20厘米左右的土壤;
然后再填加准备好的沙子和樱桃种子,可分为分层法和混填法两种,分层法为一层沙子一层种子,混填法为将沙子与樱桃种子按1比3的比例均匀混合后一起填加。
内桶2作为辅助工具使用,每层填加时,将内桶2放在外桶1内部,现在内桶2和外桶1之间的空隙内填加与层高相同高度的土壤,然后在内桶2内填加沙子和樱桃种子,填加完成后,拔出内桶2,再进行下一层的操作,直至将外桶1接近填满,完成沙藏操作。
操作过程中,应注意保持注水管3的位置,注水管3用于在沙藏过程中定期的为沙层内部补水。
实施例2
在实际使用中,填土之后,为了方便拔出内桶2,本实施例对内桶的结构进行了改进,如图3、图4所示,内桶2由三块大小相等的互相插接的弧形板6组成,方便使用时填土完成后取出内桶2。弧形板6可为木板或塑料板制成。
与现有技术的沙藏方法相比,本实用新型的沙藏装置,结构更简单,更接近实际的挖坑法的沙藏环境,同时又方便搬运,可根据环境温湿度条件移动位置,通过适时补水,可以保持沙藏的湿度均衡。
通过实际使用,本实用新型的樱桃种子沙藏装置,使樱桃种子的出芽率得到了明显提升。
以上所述是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型所述原理的前提下,还可以作出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。