技术编号:9457782
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体基板等的被清洗部件的清洗方法和清洗装置。更具体来说,本发明涉及一种清洗方法和清洗装置,其中,控制基于喷淋的清洗介质的导入和已导入的清洗介质的导出,由此可在清洗半导体基板等的被清洗部件时抑制混合于该清洗介质中的被清洗物的再次附着。背景技术在半导体基板上制作金属薄膜图案的方法之一包括剥离法。剥离法为下述的方法,在该方法中,在半导体基板上形成抗蚀图案后,进一步形成金属薄膜,然后,将形成于半导体基板上的抗蚀图案与形成于该抗蚀图案上的金属薄膜同时剥离...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。